【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种能产生气幕的气体喷洒装置，包括一第一喷洒单元以及一第二喷洒单元。该第一喷洒单元提供喷洒一反应气体以形成一工艺气体区。该第二喷洒单元环设于该第一喷洒单元周围，该第二喷洒单元具有一缓冲气供应腔与一板体。该缓冲气供应腔提供一缓冲气体。该板体环设于该第一喷洒单元周围，且具有多个通孔，以提供该缓冲气体通过产生包围在该反应气体外围的一气幕。利用该能产生气幕的气体喷洒装置，在另一实施例中，本专利技术还提供一种薄膜沉积装置，通过该气幕避免真空负压对反应气体直接影响，以延长反应气体滞留时间，而提高气体使用率与镀膜效率。【专利说明】能产生气幕的气体喷洒装置及其薄膜沉积装置
本专利技术涉及一种气体喷洒技术，特别是一种能产生气幕的气体喷洒装置及其薄膜沉积装置。
技术介绍
有机金属化学气相沉积(metalorganic chemical vapor deposition,MOCVD)的气体喷洒头(showerhead)设计是影响气流场均匀与镀膜速率的主要因素。目前气体喷洒头设计主要为设置在工艺腔体的上方，且含盖置于腔体内部的芯片载盘。气体喷洒头由芯片...
【技术保护点】
一种能产生气幕的气体喷洒装置，包括：一第一喷洒单元，用以提供喷洒一反应气体，以形成一工艺气体区；以及一第二喷洒单元，其环设于该第一喷洒单元周围，该第二喷洒单元还具有：一缓冲气供应腔，用以提供一缓冲气体；以及一气幕分布板，其与该缓冲气供应腔连接且环设于该第一喷洒单元周围，该气幕分布板上具有多个通孔，以提供该缓冲气体通过产生包围该工艺气体区外围的一气幕。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：王庆钧，黄智勇，林龚梁，简荣祯，蔡陈德，陈建志，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：
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