排水处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于处理从各种生产设备排出的排水的有效的排水处理方法。排水处理装置具备：用于处理处理对象成分的浓度低的排水的低浓度排水处理机构；用于处理处理对象成分的浓度高的排水的高浓度排水处理机构；排水通道，将排水从生产设备送到低浓度排水处理机构和高浓度排水处理机构；流路切换机构，使通过排水通道的排水切换为上述低浓度排水处理机构或上述高浓度排水处理机构以进行排水；工艺数据信号发送机构，发送在生产设备实施的生产工序的工艺数据信号；和控制机构，接收工艺数据信号，基于该工艺数据信号判断通过排水通道的排水的处理对象成分的浓度，基于该浓度向流路切换机构发送动作信号。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种排水处理装置，适用于处理从各种生产设备排出的排水，该排水中的处理对象成分的浓度根据生产エ序而变化。
技术介绍
在各种エ业中，从有限的水资源的节约和地球环境保全的观点出发，正在积极地进行エ业排水的再利用。另外，由于根据生产中的产品而使用各种各样的药品，因此必须进行排水处理。例如，在半导体制造エ厂中，为了半导体的蚀刻处理而使用大量的氢氟酸，在其处理中进行利用了钙盐的凝聚沉淀处理。该处理是通过在混入氟离子的排水中添加钙盐而生成不溶性的氟化钙并且使其凝聚沉淀，由此除去エ业排水中的氟离子的处理方法。在该凝聚沉淀处理中，氟的不溶解是氟与钙的化学反应，所以两者的浓度较浓的一方反应速度快，能够以短时间且高效率地除去氟离子。由于氟离子的排出标准值为8mg/L以下，因此各制 造商实施不超过该标准值那样的排水处理。另ー方面，在半导体制造エ厂的半导体的蚀刻处理中，在氢氟酸的处理后要进行使用大量的纯净水的洗浄。因此，从生产设备排出的排水中从大的方面分开，产生氢氟酸浓度浓的使用完的氢氟酸和氢氟酸浓度低的洗净排水。历来，该从半导体制造エ厂排出的排水，例如利用如图5所示的排水处理装置I进行处理。该排水处理装置I具备半导体制造设备2、对从该设备排出的排水进行处理的排水处理机构3、将在半导体制造设备2中产生的排水送到排水处理机构3的排水通道4。半导体制造设备2构成为对衬底等原料至少进行蚀刻处理工序A和洗净处理工序B，而获得产品，通过蚀刻处理工序A而产生的高浓度排水和通过洗净处理工序B而产生的低浓度排水，都通过排水通道4送到排水处理机构3。在排水处理机构3中，向排水中添加钙盐或/和凝聚剂使氟凝聚沉淀，以减少排水中的氟浓度。但是，由于从半导体制造设备2排出的氢氟酸浓度低的洗净排水比高浓度排水的量大，因此在氟的凝聚沉淀处理中，必须过剩地投入钙盐或/和凝聚剂。因此，药品的使用量和污泥的产生量増大，关系到处理费用的増加和地球环境的污染。另外，有可能因处理不良而超过氟离子的排水标准。针对这种问题，在专利文献I中，已公开一种有关半导体エ厂中的排水处理系统的专利技术。在该排水处理系统中，构成为能够根据由排水的电导率和氟离子浓度及PH值的相互关系所设定的电导率，自动且连续地控制将各エ序排水在中间槽进行分离且向适合的排水处理设施送水，因此具有能够减轻各处理设施的负荷，且不需要人工能够安全地进行分离的效果(參照专利文献I的)。另外，在专利文献2中，已公开一种有关排水处理方法的专利技术，该排水处理方法能够减轻排水处理的负担、降低排水处理成本，且能够减少エ厂设备等的水源水的使用量。在其排水处理方法中，构成为具备测定从各种生产装置排出的排水的杂质浓度的エ序；基于所述杂质浓度的測定结果，分离为杂质浓度为标准值以上的排水和杂质浓度低于标准值的排水的エ序；对杂质浓度为标准值以上的排水实施规定的排水处理而进行排放的エ序；将杂质浓度低于标准值的排水进行回收的エ序(參照专利文献2的)。现有技术文献专利文献I :日本特开平I 一 123685号公报专利文献2 :日本特开2000 — 176434号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，由于上述现有的排水处理方法测定排水的电导率、排水中的处理对象成分及杂质的浓度以进行排水处理的控制，所以需要考虑测量仪器的对于高浓度排水的性能方 面的耐久性等。另外，不能进行与生产设备的各种エ序的处理时间、排水的排出时间、排出量等对应的有效的排水处理。因此，本专利技术的目的在于提供ー种排水处理装置，其适用于处理从各种生产设备排出的排水，该排水中的处理对象成分的浓度根据生产エ序而变化，能够进行与生产エ序的处理情况相适应的有效的排水处理。用于解决课题的方法为了实现上述目的，本专利技术提供ー种排水处理装置，其适用于处理从各种生产设备排出的排水，该排水中的处理对象成分的浓度根据生产エ序而变化，上述排水处理装置的特征在于，包括低浓度排水处理机构，其用于处理上述处理对象成分的浓度低的排水；高浓度排水处理机构，其用于处理上述处理对象成分的浓度高的排水；排水通道，其将排水从上述生产设备送到实施低浓度排水处理机构和实施高浓度排水处理机构；流路切换机构，其使通过上述排水通道的排水切换为上述低浓度排水处理机构或上述高浓度排水处理机构以进行排水；エ艺数据信号发送机构，其发送エ艺数据信号，该エ艺数据信号包括在上述生产设备实施的生产エ序的上述处理对象成分浓度数据；控制机构，其接收上述エ艺数据信号，基于该エ艺数据信号判断通过上述排水通道的排水的上述处理对象成分的浓度，判定该浓度低于规定值还是高于规定值，并且对上述流路切换机构发送动作信号，使得在判定为该浓度低于规定值时使该排水流到上述低浓度排水处理机构，在判定为该浓度高于规定值时使该排水流到上述高浓度排水处理机构。根据本专利技术的排水处理装置，エ艺数据信号发送机构发送在生产设备实施的生产エ序的エ艺数据信号，控制机构接收该エ艺数据信号，基于该エ艺数据信号判断通过排水通道的排水的处理对象成分的浓度，判定该浓度低于规定值还是高于规定值，对流路切换机构发送动作信号，使得在判定为该浓度低于规定值时使该排水流到低浓度排水处理机构，在判定为该浓度高于规定值时使该排水流到高浓度排水处理机构，因此，即使不测定排水的电导率、排水中的处理对象成分的浓度等，根据排水中的处理对象成分的浓度，也能够将排水有效地划分流到低浓度排水处理机构和高浓度排水处理机构。在本专利技术的排水处理装置中，优选构成为，上述エ艺数据信号发送机构发送的エ艺数据包括上述处理对象成分浓度数据、在上述生产设备实施的各处理的处理时间、由该处理而产生的排水的排出时间、和该排水的排水量，上述控制机构，在上述生产设备所做的处理发生改变而进行上述处理对象 成分的浓度变化了的排水时，求得由于该排水而通过所述排水通道的排水的处理对象成分的浓度变化的时间，在考虑了上述时间的基础上向上述流路切换机构发送动作信号。根据上述方式，当进行根据在生产设备所做的各处理的处理时间、由于该处理而产生的排水的排出时间和该排水的排水量而处理对象成分的浓度发生了变化的排水时，能够求得由于该排水而通过排水通道的排水的处理对象成分的浓度发生变化的时间，因此能够正确地划分为低浓度排水和高浓度排水，并使其流入各自对应的排水处理机构。在本专利技术的排水处理装置中，优选在上述排水通道中设置有直接或间接地測定上述排水中的处理对象成分的浓度的浓度测定机构，上述控制装置基于上述エ艺数据信号和由上述浓度測定机构所测定的浓度，向上述流路切换机构发送动作信号。根据上述方式，基于エ艺数据信号，能够迅速地判断通过排水通道的排水的处理对象成分的浓度而高效地切换流路，并且即使是排水中的处理对象成分的浓度突然发生变化的情况等，也能够基于由浓度測定机构所测定的浓度，将路径切换为适当的方向。在本专利技术的排水处理装置中，优选构成为，上述浓度测定机构设于从上述流路切换机构至上述低浓度排水处理机构的排水通道的中途，上述控制机构对上述流路切换机构发送动作信号，使得在由所述浓度測定机构测定的排水中的处理对象成分的浓度高于规定值时，使该排水流到上述高浓度排水处理机构。根据上述方式，由于浓度測定机构被设于从流路切换机构至低浓度排水处理机构的排水通道的中途，所以浓度测定机构尽可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种排水处理装置，适用于处理从各种生产设备排出的排水，该排水中的处理对象成分的浓度根据生产工序而变化，所述排水处理装置的特征在于，包括：低浓度排水处理机构，其用于处理所述处理对象成分的浓度低的排水；高浓度排水处理机构，其用于处理所述处理对象成分的浓度高的排水；排水通道，其将排水从所述生产设备送到所述低浓度排水处理机构和所述高浓度排水处理机构；流路切换机构，其使通过所述排水通道的排水切换到所述低浓度排水处理机构或者所述高浓度排水处理机构以进行排水；工艺数据信号发送机构，其发送工艺数据信号，所述工艺数据信号包括在所述生产设备实施的生产工序的所述处理对象成分浓度数据；和控制机构，其接收所述工艺数据信号，基于该工艺数据信号判断通过所述排水通道的排水的所述处理对象成分的浓度，判定该浓度低于还是高于规定值，并且对所述流路切换机构发送动作信号，使得在判定为该浓度低于规定值时使该排水流到所述低浓度排水处理机构，在判定为该浓度高于规定值时使该排水流到所述高浓度排水处理机构。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田口和之，中田荣寿，
申请(专利权)人：富士电机株式会社，
类型：发明
国别省市：