本发明专利技术属于结晶膜生长技术领域。本发明专利技术提供的托盘装置包括：多个层叠设置的托盘，相邻托盘之间具有一定间距；旋转机构，其至少与一个托盘连接并借助于托盘之间的层叠结构而带动所述多个托盘进行旋转运动；以及限位机构，其与所述托盘连接，用于对所述多个托盘的位置进行限定。结晶膜生长设备包括工艺腔室、工艺气体输送系统及排气系统，在工艺腔室内设置有上述托盘装置，用以在工艺过程中承载基片。本发明专利技术提供的托盘装置及结晶膜生长设备可以在托盘装置旋转过程中限制各托盘在径向和/或周向方向上产生相对位移，从而减少甚至避免彼此叠置的托盘之间因相对位移而产生摩擦和/或挤压并导致托盘损毁，进而延长托盘装置和结晶膜生长设备的使用寿命。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于结晶膜生长
，具体涉及一种托盘装置以及应用该托盘装置的结晶膜生长设备。
技术介绍
随着技术的发展，化学气相生长(Chemical Vapor Deposition,简称为CVD)技术已经得到越来越多的应用。特别是其中的金属有机化学气相生长(Metal OrganicChemical Vapor Deposition，简称为M0CVD)技术，因其具有镀膜成分易控、镀膜均匀致密以及附着力好等优点而逐渐成为工业界主要的镀膜技术。所谓MOCVD技术是指，利用金属有机化合物(Metal Organic,简称为MO)作为源物质的一种化学气相生长技术,其原理为 使有机金属原料气体、氢化气体或卤化气体进行热分解反应而在气相中使薄膜生长。在实际工艺中，将进行上述CVD反应的设备称为CVD设备；将使用MO气体进行CVD反应的设备称为MOCVD设备。为了增大MOCVD设备的产能，本领域技术人员急需解决的技术问题是提出一种大产能的设备。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术提供一种托盘装置及具有该托盘装置的结晶膜生长设备，其能够在托盘装置旋转过程中有效避免托盘的损耗，从而延长该托盘装置的使用寿命。为此，本专利技术提供一种用于承载被加工基片的托盘装置，其托盘装置包括多个层叠设置的托盘，并且相邻托盘之间具有一定间距；旋转机构，其至少与一个托盘连接并借助于托盘之间的层叠结构而带动所述多个托盘进行旋转运动；以及限位机构，其与所述托盘连接，用于对所述多个托盘的位置进行限定。其中，所述多个托盘沿纵向层叠设置，在除最底层托盘以外的各托盘的背面设置第一凸起部，并在与背面设置有第一凸起部的各托盘相对设置的托盘的正面设置与所述第一凸起部相配合的第二凹进部；和/或在除最底层托盘以外的各托盘的背面设置第一凹进部，并在与背面设置有第一凹进部的各托盘相对设置的托盘的正面设置与所述第一凹进部相配合的第二凸起部；并且借助于所述第一凸起部和第二凹进部之间的配合和/或所述第二凸起部和第一凹进部之间的配合，而将相邻托盘彼此保持一定间距地叠置在一起。其中，所述限位机构包括至少一个限位杆以及数量与所述托盘的数量相对应的固定部件，所述限位杆设置在所述托盘的外围并沿托盘层叠方向延伸，所述固定部件连接在所述限位杆和所述托盘之间而将二者固定在一起，以限定各托盘之间的相互位置关系。本专利技术中，固定部件的数量与所述托盘的数量相对应指得是二者的数量可以相等，即，固定部件与托盘一一对应；或者二者的数量不等，例如，每个托盘可以对应于多个固定部件。其中，所述限位机构包括至少一个限位杆以及至少一个固定部件，在各托盘的边缘位置处设置与所述限位杆相对应的限位孔，所述限位杆沿托盘层叠方向延伸并穿过各托盘上的限位孔，所述固定部件连接在所述限位杆和相应托盘之间并将二者固定在一起，以限定各托盘之间的相互位置关系。具体地，当限位杆与各限位孔之间采用紧配合的方式时，并不必须为每一个托盘都设置固定部件，例如，可以在该托盘装置中仅设置一个固定部件并使其与任意一个托盘连接固定，此时该固定部件的作用主要在于防止限位杆滑落，至于限位杆与各托盘的之间的固定则主要依靠二者之间的紧配合方式。此外，当限位杆与各限位孔之间采用过盈配合的方式时，就必须为每一个托盘设置相应的固定部件，此时固定部件的作用并不仅仅在于防止限位杆滑落，还在于使各托盘与限位杆固定在一起，从而限定各托盘之间的相对位置关系。其中，所述限位机构可以包括至少一个限位杆，并且在除最下层托盘之外的各个托盘的边缘位置处设置与所述限位杆相对应的限位孔，在最下层托盘上的与其他各托盘中的限位孔相对应的位置处设置与所述限位杆相配合的限位凹槽，所述限位杆贯穿除最下层托盘之外的各个托盘上的限位孔并且嵌抵在最下层托盘的限位凹槽内。优选地，所述限位机构还包括连接在所述限位杆和所述托盘之间并将二者固定在一起的固定部件。其中，所述限位杆的数量为N，其中N为大于等于2的整数，所述N个限位杆沿所述 托盘的周向均匀排列。其中，所述托盘的材料包括石墨、钥或钥合金，相应地，所述限位杆的材料包括石墨、钥或钥合金。其中，所述固定部件包括与所述限位杆相连的支撑臂，以及一端连接所述支撑臂、另一端嵌入相应托盘的定位销。作为另一个技术方案，本专利技术还提供一种结晶膜生长设备，其包括工艺腔室、工艺气体输送系统及排气系统，并且在工艺腔室内设置有本专利技术提供的上述托盘装置，用以在工艺过程中承载基片。其中，所述托盘呈环状结构，所述工艺气体输送系统沿所述多个托盘的层叠方向贯穿所述层叠设置的托盘的中空部分，并且该工艺气体输送系统包括工艺气体进气口及工艺气体出气口，所述工艺气体进气口将工艺气体自工艺腔室之外引入所述工艺气体输送系统，所述工艺气体输送系统中的工艺气体经由工艺气体出气口而进入到工艺腔室内并到达托盘装置所承载的各基片。其中，在所述工艺气体输送系统上对应于每一个托盘而设置有工艺气体出气口，以使工艺气体被直接输出至每一个托盘。其中，在工艺气体输送系统中还设置有用以辅助输送工艺气体的工艺气体补偿通道。优选地，本专利技术提供的结晶膜生长设备还包括过滤腔室，其设置在工艺腔室与排气系统之间，并通过若干通孔而与工艺腔室连通。其中，所述过滤腔室包括多个层叠设置的过滤基板，每一个过滤基板均由多孔材料制成且其上设置有若干通孔。其中，所述过滤基板由石墨材料制成且其表面具有SiC涂层，并且相邻的过滤基板上的通孔彼此错开。本专利技术具有下述有益效果本专利技术提供的托盘装置中设置有用于对托盘的位置进行限定的限位机构，借助于该限位机构与各托盘之间的配合而使各托盘连接成为整体，从而在旋转过程中限制各托盘在径向和/或周向方向上产生相对位移，以减少甚至避免彼此叠置的托盘之间因相对位移而产生摩擦和/或挤压并导致托盘损毁，从而延长托盘装置的使用寿命。类似地，由于本专利技术提供的结晶膜生长设备中的托盘装置同样设置有用于对托盘的位置进行限定的限位机构，因而，其同样可以在托盘装置旋转过程中限制各托盘在径向和/或周向方向上产生相对位移，从而减少甚至避免彼此叠置的托盘之间因相对位移而产生摩擦和/或挤压并导致托盘损毁，进而延长托盘装置和结晶膜生长设备的使用寿命。附图说明图I为一种结晶膜生长设备的基本结构的剖面示意图； 图2为本专利技术第一实施例提供的托盘装置的结构示意图；图3为本专利技术第二实施例提供的托盘装置的结构示意图；图4为本专利技术一个具体实施例提供的结晶膜生长设备的基本结构的剖面示意图；图5是可适用于图4所示结晶膜生长设备的另一种工艺气体输送系统的剖面示意图；以及图6示意性地示出图5所示工艺气体输送系统中的冷却装置的剖面结构。具体实施例方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术提供的托盘装置及结晶膜生长设备进行详细描述。在这些附图中，对于相同或者相当的部分，标注相同标号。图2为本专利技术第一实施例提供的托盘装置的结构示意图。如图2所示，本实施例提供的托盘装置200包括13个相互平行且沿纵向依次层叠设置的托盘201 ;用于带动托盘201进行旋转运动的旋转机构(图中未示出)；以及用于对托盘201的位置进行限定的限位机构。其中，在这13个托盘中，每一个托盘201均呈环形，其环形实体部分可用于承载诸如基片等的被加工工件，环形实体本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种托盘装置，用于承载被加工基片，其包括多个层叠设置的托盘，并且相邻托盘之间具有一定间距，其特征在于，所述托盘装置还包括旋转机构，其至少与一个托盘连接并借助于托盘之间的层叠结构而带动所述多个托盘进行旋转运动；以及限位机构，其与所述托盘连接，用于对所述多个托盘的位置进行限定。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：古村雄二，张建勇，张秀川，徐亚伟，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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