【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种制造构件(100)的方法,所述方法包括:在基底(110)的外表面(112)中形成一个或更多凹槽(132),其中,所述一个或更多凹槽(132)中的每一个均具有基部(134)并至少部分地沿所述基底(110)的所述外表面(112)延伸;将牺牲性填充剂(32)设置在所述一个或更多凹槽(132)内;将永久性填充剂(33)设置在所述牺牲性填充剂(32)上;将涂层(150)设置在所述基底(110)的至少一部分和所述永久性填充剂(33)上;以及从所述一个或更多凹槽(132)去除所述第一牺牲性填充剂(32),以限定用于冷却所述构件(100)的一个或更多通道(130)。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:R·B·雷贝克,R·B·罗林,S·A·韦弗,R·S·班克,D·M·利普金,J·B·麦德莫特,L·B·库尔,A·M·里特,
申请(专利权)人:通用电气公司,
类型:发明
国别省市:
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