1680纳米带通红外滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种1680纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板、以Ti3O5和SiO2为镀膜材料的第一镀膜层以及以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层，所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是所述第一镀膜层包括从内向外依次排列的厚度不同的Ti3O5层和SiO2层，所述Ti3O5层和SiO2层交互排列；所述第二镀膜层包括从内向外依次排列的厚度不同的Si层和SiO层，所述Si层和SiO层交互排列。本实用新型专利技术得到的1680纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位在1680±1％纳米，峰值透过率达90％以上，截止区透过率小于0.1％，极大地提高了信噪比，提高应用领域产品的探测精度和效能。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滤光片，特别是1680纳米带通红外滤光片。
技术介绍
在许多工业生产领域，需要对物料(如冶金钢铁行业的烧结物料、食品加工行业的粮食物料和烟草行业的烟丝等)的水分进行精确检测，一保证产品的质量，提高生产效率，降低能源消耗。现大多采用红外水分仪来测量各种物料的水分，为了确保检测的精准度,在红外水分仪内设有滤光片。但是，目前用于水分测量的1680纳米带通红外滤光片，其信噪比低，精度差，不能满足市场发展的需要。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决上述技术存在的不足而提供一种峰值透过率高，能极大的提高信噪比的1680纳米带通红外滤光片。为了实现上述目的，本技术设计的1680纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板、以Ti305和Si02为镀膜材料的第一镀膜层以及以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层，所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是第一镀膜层包含从内向外依次排列的厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的 Τ 305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为569nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的厚度Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为569nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Τ 305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为569nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为249nm的Ti305层以及厚度为373nm的Si02层；第二镀膜层包含从内向外依次排列的厚度为80nm的Si层、厚度为90nm的SiO层、厚度为6Inm的Si层、厚度为150nm的SiO层、厚度为45nm的Si层、厚度为IOOnm的SiO层、厚度为77nm的Si层、厚度为181nm的SiO层、厚度为103nm的Si层、厚度为155nm的SiO层、厚度为51nm的Si层、厚度为146nm的SiO层、厚度为108nm的Si层、厚度为193nm的SiO层、厚度为90nm的Si层、厚度为105nm的SiO层、厚度为69nm的Si层、厚度为154nm的SiO层、厚度为144nm的Si层、厚度为19Inm的SiO层、厚度为227nm的Si层、厚度为294nm的SiO层、厚度为147nm的Si层、厚度为321nm的SiO层、厚度为201nm的Si层、厚度为234nm的SiO层、厚度为183nm的Si层、厚度为349nm的SiO层、厚度为196nm的Si层、厚度为41 Inm的SiO层、厚度为194nm的Si层、厚度为405nm的SiO层、厚度为190nm的Si层以及厚度为21 Inm 的 SiO 层。上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在IOnm左右。本技术得到的1680纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位在1680±1%纳米，峰值透过率达90%以上，截止区透过率小于O. I %，极大地提高了信噪比，提高应用领域产品的探测精度和效能。附图说明 图I是实施例的整体结构示意图；图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。图中基板I、第一镀膜层2、第二镀膜层3。具体实施方式下面通过实施例结合附图对本技术作进一步的描述。实施例如图I所示，本实施列提供的1680纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板I、以Ti305和Si02为镀膜材料的第一镀膜层2以及以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层3,所述基板I位于第一镀膜层2和第二镀膜层3之间,第一镀膜层I包含从内向外依次排列的厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为569nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的厚度Τ 305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为569nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为569nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为189nm的Ti305层、厚度为285nm的Si02层、厚度为249nm的Ti305层以及厚度为373nm的Si02层；第二镀膜层包含从内向外依次排列的厚度为80nm的Si层、厚度为90nm的SiO层、厚度为61nm的Si层、厚度为150nm的SiO层、厚度为45nm的Si层、厚度为IOOnm的SiO层、厚度为77nm的Si层、厚度为181nm的SiO层、厚度为103nm的Si层、厚度为155nm的SiO层、厚度为51nm的Si层、厚度为146nm的SiO层、厚度为108nm的Si层、厚度为193nm的SiO层、厚度为90nm的Si层、厚度为105nm的SiO层、厚度为69nm的Si层、厚度为154nm的SiO层、厚度为144nm的Si层、厚度为191nm的SiO层、厚度为227nm的Si层、厚度为294nm的SiO层、厚度为147nm的Si层、厚度为321nm的SiO层、厚度为201nm的Si层、厚度为234nm的SiO层、厚度为183nm的Si层、厚度为349nm的SiO层、厚度为196nm的Si层、厚度为41 Inm的SiO层、厚度为194nm的Si层、厚度为405nm的SiO层、厚度为190nm的Si层以及厚度为211nm的SiO 层。 如图2所示，本实施例得到的1680本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种1680纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板(1)、以Ti3O5和SiO2为镀膜材料的第一镀膜层(2)以及以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层(3)，所述基板(1)位于第一镀膜层(2)和第二镀膜层之间(3)，其特征是第一镀膜层(2)包含从内向外依次排列的厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为569nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的厚度Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为569nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为569nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为249nm的Ti3O5层以及厚度为373nm的SiO2层；第二镀膜层(3)包含从内向外依次排列的厚度为80nm的Si层、厚度为90nm的SiO层、厚度为61nm的Si层、厚度为150nm的SiO层、厚度为45nm的Si层、厚度为100nm的SiO层、厚度为77nm的Si层、厚度为181nm的SiO层、厚度为103nm的Si层、厚度为155nm的SiO层、厚度为51nm的Si层、厚度为146nm的SiO层、厚度为108nm的Si层、厚度为193nm的SiO层、厚度为90nm的Si层、厚度为105nm的SiO层、厚度为69nm的Si层、厚度为154nm的SiO层、厚度为144nm的Si层、厚度为191nm的SiO层、厚度为227nm 的Si层、厚度为294nm的SiO层、厚度为147nm的Si层、厚度为321nm的SiO层、厚度为201nm的Si层、厚度为234nm的SiO层、厚度为183nm的Si层、厚度为349nm的SiO层、厚度为196nm的Si层、厚度为411nm的SiO层、厚度为194nm的Si层、厚度为405nm的SiO层、厚度为190nm的Si层以及厚度为211nm的SiO层。...

【技术特征摘要】
1.一种1680纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板(I)、以Ti3O5和SiO2为镀膜材料的第一镀膜层(2)以及以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层(3)，所述基板(I)位于第一镀膜层(2)和第二镀膜层之间(3),其特征是第一镀膜层(2)包含从内向外依次排列的厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为569nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的厚度Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为569nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕晶，
申请(专利权)人：杭州麦乐克电子科技有限公司，
类型：实用新型
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