面板处理系统技术方案

技术编号:786160 阅读:139 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种面板处理系统,包括:驱动单元;浴室,该浴室形成有面板处理区域和驱动区域;面板输送轴,该输送轴位于面板处理区域中,用来通过接收来自驱动单元的旋转力输送面板;一个或多个支撑部件,用于支撑面板输送轴并且提供用于处理该面板的流体;以及,流体喷射单元,该单元对应于在面板处理区域中的面板输送部分设置,用来通过流体通道单元向面板喷射流体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种面板处理系统,该系统能够通过洗涤剂涂敷、清洗和干燥过程,使用液体来处理面板,尤其涉及一种能够通过改进流体供应结构来改善流体供应效率并且能够保持良好处理环境的面板处理系统。
技术介绍
一般来说,为了处理平板显示器等的面板,首先将面板传送到具有预定面板处理区域的面板处理系统。在面板通过该系统的面板处理区域时,喷射出例如清洁剂和干燥剂的流体来处理该面板。图9显示出一种传统的面板处理系统。如该图所示,传统的面板处理系统包括一浴室100和一流体喷射单元120,浴室100在该浴室100的面板处理区域A1处提供用于处理面板P的空间,流体喷射单元120用于通过喷射流体,处理沿着浴室100中的面板输送部分运动的面板P的表面。浴室100可以由例如一封闭箱所形成,以提供用于处理面板P的有限空间。面板输送单元110和流体喷射单元120如在该图中所示一样安装在浴室100中。面板输送单元110构成为一个输送装置,该输送装置在支撑该面板P的同时能够使该面板P沿着一方向运动。也就是说,面板输送单元110包括多个位于面板处理区域A1处的面板输送轴130、用于支撑面板输送轴130从而使得这些面板输送轴能够输送面板P的框架140、以及用于向面板输送轴130施加转动能量的驱动单元150。该框架140被设置成将面板输送轴130可转动地支撑在浴室100中。也就是说,每个面板输送轴130具有通过轴承座160固定在框架140的顶部上的相对端部,从而能够沿所需方向输送该面板P。可以采用电动机作为驱动单元150的驱动源170。该驱动单元150对应于面板输送轴130的一个端部区域设置,并且通过例如涡轮的传动单元180与面板输送轴130连接,从而将动力传递给面板输送轴130。在这方面,如在该图中所示一样,驱动源170可以安装在浴室100中。或者,它可以安装在浴室100外面并且具有能够传递动能的结构。设置流体喷射单元120,从而使它可以在浴室100的面板处理区域A1中的面板输送部分处,使用流体来处理面板P的表面。如在该图中所示一样,与流体喷射单元120连接的流体喷射管道190穿过浴室100的侧壁。该浴室100设在位于输送轴130上方的面板处理区域处,并且具有一排气孔200,通过它将包含有用于处理面板P的清洁剂或处理剂的蒸汽从浴室100中直接排出。通过利用排气孔200,从浴室100中的面板处理区域A1中将蒸汽排出,从而可以防止由流体供应管道从外面延伸到面板处理区域A1所经过的孔所泄漏的蒸汽而引起的外部设备的腐蚀,进一步的,可以防止液体蒸汽被引入到驱动区域中,从而防止驱动单元和传动单元受到腐蚀。但是,在传统的面板处理系统中,面板输送单元和流体喷射单元分别单独形成,每个执行单一的功能。因此,难以在这些单元之间得到期望的相容性。另外,由于这些单元的形成没有采用模块形式,因此,制造和维护该系统的费用昂贵。另外,为了安装这些单独的单元,需要相对较大的空间,从而使得难以减小该系统并且使系统的结构复杂化。由于面板处理区域和驱动区域在浴室中不是隔离的,所以,在通过吸气操作使流体蒸汽穿过排气孔排出时,由在驱动单元的零部件之间的物理摩擦或接触产生出的外来物质会被引导进面板处理区域中,由此降低了该面板的处理质量。
技术实现思路
因此,提供本专利技术以解决上述问题。本专利技术的一个目的在于提供一种面板处理系统,该系统能够保持处理环境清洁,降低这些单元的占用空间并且改善面板输送和流体供应的效率。为了实现如上目的,本专利技术提供了一种面板处理系统,包括驱动单元;浴室,该浴室定义有面板处理区域和驱动区域;面板输送轴,该输送轴位于面板处理区域中,用来通过接收来自驱动单元的旋转力来输送面板;一个或多个支撑部件,用于支撑面板输送轴,并且提供用于处理该面板的流体;以及,流体喷射单元,该喷射单元对应于在面板处理区域中的面板输送部分设置,用来通过流体通道单元向面板喷射流体。支撑块的数量可以为两个,并且驱动区域可以分成为两个部分,其中,支撑块设置在面板处理区域和驱动区域的两个部分之间。流体通道单元可以设计成提供形成在支撑块中的流体通道,从而,流体通过该流体通道提供给流体喷射单元。流体喷射单元可以设置在支撑块上,用来通过接收来自流体通道单元的流体,经过在浴室中的非面板处理区域将流体喷射在面板上。该流体通道单元可以由流体所流经的管子所形成。面板处理区域和驱动区域可以采用支撑块上的密封件和盖子部件相互分开。该面板处理系统还可进一步包括用于保持浴室的环境的环境保持单元,该环境保持单元设计成通过抽吸操作消除在面板处理区域和驱动区域中所产生出的悬浮外来物质。用于进行抽吸操作的抽吸区域可以延伸至驱动区域。附图说明以下这些附图显示出本专利技术的实施方案,用来帮助进一步理解本专利技术并且结合构成本申请的一部分,并且,这些附图与说明书一起用来说明本专利技术的原理。在这些附图中图1为剖视图,显示出根据本专利技术一实施例的面板处理系统的内部结构;图2为根据本专利技术一实施例的面板处理系统的分解剖视图,显示出支撑块和流体通道单元;图3为根据本专利技术一实施例的面板处理系统的分解透视图,其中,在图2中所示的流体喷射单元和通道单元安装成能够供应流体;图4为根据本专利技术一实施例的面板处理系统的局部放大前视图,显示出一种结构,在该结构中,流体喷射单元和通道单元对应于面板输送部分安装在支撑块上;图5为一局部放大透视图,显示出形成在图1所示的浴室中的驱动区域的密封结构;图6为一剖视图,显示出在图1中所示的浴室的内部环境保持单元;图7为一局部放大前视图,显示出对应于面板输送部分所安装的排气管,该排气管将在图6中所示的两个支撑块相互连接;图8为根据本专利技术另一个实施例的环境保持单元的剖视图;图9为传统面板处理系统的剖视图。具体实施例方式下面将根据附图,对本专利技术的优选实施方案进行详细描述。在可能的任何地方,将在这些附图中使用相同的附图标记来表示相同或相似的部件。参照图1至3,本专利技术的面板处理系统包括具有面板处理区域A1和驱动区域A2的浴室2;位于面板处理区域A1中用来输送面板P的多个面板输送轴4;用于支撑面板输送轴4的支撑块6,这些支撑块6设有流体通道单元;流体喷射单元8,该单元对应于面板输送部分设在面板处理区域A1中,用来通过经流体喷射单元提供液体并且将该液体喷射在面板P上来处理面板P;以及,驱动单元10,用于产生出驱动力并且将该驱动力传递给面板输送轴4,该驱动单元10设在浴室2的驱动区域A2中。在该实施方案中,如图所示为用于清洁过程的处理系统,其中,清洁过程为一系列面板处理过程之中的一个过程。该浴室2可以形成为限定有面板处理区域A1和驱动区域A2的封闭箱形状。安装浴室2,使得可以在例如在除尘室系统中有效地实现例如处理剂涂敷过程或干燥过程的一系列面板处理过程。浴室2的底部设计成用做排出用于处理面板P的流体。如图1所示,面板输送轴4安装在浴室2中,使得这些输送轴可以通过接收来自驱动单元10的旋转力来以预定的间距输送面板P。另外,如图4所示,各个输送轴4彼此间隔开,以便提供与面板处理区域A1对应的面板输送部分。面板输送轴4可以由耐久性和耐化学性良好的金属或合成树脂形成。如图1所示,每个面板输送轴4在其圆周处设有多个用来有效支撑和输送面板P的导环12。再次参照图本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种面板处理系统,包括:驱动单元;浴室,该浴室限定有一面板处理区域和一驱动区域;面板输送轴,该输送轴设在面板处理区域中,用来通过接收来自驱动单元的旋转力输送面板;一个或多个支撑块,用来支撑面板输送轴和供应用来 处理面板的流体;以及流体喷射单元,该单元设在面板处理区域中,用来通过流体通道单元向面板喷射流体。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:朴庸硕
申请(专利权)人:显示器生产服务株式会社
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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