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铜-二硫化钼自润滑导电涂层及其制备方法技术

技术编号:7807173 阅读:480 留言:0更新日期:2012-09-27 04:49
本发明专利技术公开一种铜-二硫化钼自润滑导电涂层及其制备方法。该涂层以铜和二硫化钼粉末为原料,采用烧结破碎法制备铜-二硫化钼复合粉末,利用大气等离子喷涂技术制备铜-二硫化钼复合涂层。本发明专利技术所制得铜-二硫化钼复合涂层的组分含量为铜:二硫化钼:余量=(75~90):(8~22):(2~3),厚度约为150~300μm。所得铜-二硫化钼复合涂层显著改善了真空下铜的摩擦磨损性能,是一种优良的固体导电自润滑涂层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层和制备方法,属于电滑动材料防护

技术介绍
有色金属铜由于优异的导热导电性、韧性、延展性和加工性能而成为电气原件的 首选材料。除作为输电线材外,铜还常被用作滑动电接触材料,如电刷、电枢等开关材料,特别是铜基复合材料已被选作高速列车的导电弓材料。由于铜本身強度低、易变形、磨损大,导致其作为滑动材料时虽然表现出很好的导电导热性能,也伴随有较大的磨损现象,尤其在载流条件下使用时,载流的大小会对电滑动材料的寿命产生直接的影响。这就要求载流条件下应用的电滑动材料必须具有较高的导电性和优良减磨润滑性能。因此,开发減少和防止铜基电滑动材料的摩擦磨损、延长其使用寿命的方法和技术具有重大的社会意义和经济效益。ニ硫化钥、石墨等固体润滑剂的研究表明它们可明显降低材料的摩擦磨损,延长材料的使用寿命。但ニ硫化钥和石墨的减磨润滑作用机理不同。石墨由于需要吸附空气中的水分子产生层裂来实现自润滑过程;而ニ硫化钥只有在真空中才表现出优异的自润滑性能。利用粉末冶金方法合成的块体铜-石墨、铜-ニ硫化钥复合材料已经作为电滑动材料使用,并已经被证明都具有良好的減磨作用。但铜-石墨、铜-ニ硫化钥涂层材料作为电滑动材料的研究还未见报道。目前制备金属-ニ硫化钥涂层的主要方法是沉积法。沉积法又包括溅射沉积法、电沉积法和热喷涂法等。相比较而言,溅射沉积法一般沉积率较低,设备复杂且价格较高;电沉积法沉积速度较慢、沉积厚度有限。等离子喷涂法同溅射沉积、电沉积法相比具有エ艺控制简单、适合大器件、大批量、厚度可控和结构在一定范围内可调的特点,并且可以在多种金属基材表面实施金属或陶瓷涂层的喷涂。热喷涂铜基材料形成的涂层主物相除金属铜夕卜,还会生成已被证明具有一定减磨作用的物相Cu2O。鉴于此,本专利技术期望通过利用等离子喷涂技术,制备ー种真空应用的铜基- ニ硫化钥自润滑电滑动涂层。至今,利用等离子喷涂技术制备真空电滑动铜-ニ硫化钥涂层的方法和技术尚未见报导。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供ー种铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层及其制备方法,该专利技术所得铜-ニ硫化钥复合涂层显著改善了真空下铜的摩擦磨损性能,是ー种优良的固体导电自润滑涂层。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是所述铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层由ニ硫化钥和金属铜粉经过真空粉末冶金法制备,其涂层组分变化范围为CikMoS2:余量=(75^90) : (8^22) : ( 2^3)。涂层厚度范围 150 μ πΓ300 μ m ;利用美国 Quantum Design 公司的PPMS-9综合物理性能测试仪器测定的体积电阻率范围5 13.8Χ10_8Ω · m。利用美国CETR公司的UMT-2摩擦设备测得的真空摩擦系数在O. 04、. 09范围。利用HST-100高速载流摩擦机測定的大气环境下载流I含30A,滑动速度g 10!11/8时,摩擦系数小于等于0.3。本专利技术制备所述铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层的方法包括下述步骤 (1)将市售铜包覆ニ硫化钥粉(Cu-MoS2)和铜粉根据需要比例在无水こ醇介质中进行球磨混合,磨介为玛瑙球。控制球磨转速为100 150r/min,混合时间为12 24h ;所述铜粉粒度范围为15 50 μ m ;所述铜包覆ニ硫化钥粉的粒度范围为5(Γ150 μ m ; (2)将上述混合粉末在4(T80°C下烘干,烘干后粉末在真空中烧结,烧结温度为800 1000で,恒温I 2h ; (3)将烧结后块体破碎形成粉体,所选粉体平均粒径75μπι;粉体组分含量为铜ニ硫 化钥余量=(75 90) : (8 22) : ( 2 3); (4)对金属基材进行表面预处理。所述金属基材表面预处理包括清洗、除油、喷砂等。所述基材为Α3低碳钢、不锈钢、硬铝(LY12)铝合金和轴承钢等; (5)以步骤(3)所得粉体为原料,利用大气等离子喷涂方法制备铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层,大气等离子喷涂设备为美国美科(Sulzer Metco)公司大气等离子喷涂设备,使用ABB机械臂,喷枪为美国美科(Sulzer Metco )9MB Plasma Gun,喷涂參数为主气和辅气的流量为45 70slpm和Olslpm ;喷涂过程中控制电流为35(Γ450Α,电压为5(T65V ;喷涂距离为80 100 mm ;控制喷涂时间为25 40min,控制喷涂次数为30 80次。送粉器为ZB-80型双筒送粉器,载气为氩气,送粉气体流量为3 4slpm ;送粉率为2(T50g/min ;使所制备涂层厚度为150 300 μ m。(6)喷涂结束,取下样品进行真空封存。(7)本专利技术所得涂层的组分是铜和ニ硫化钥,厚度为15(Γ300 μ m。所述铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层的组分为铜ニ硫化钥余量=(75、0) : (8^22) : (2^3),所述涂层的优选组分为铜ニ硫化钥余量=(80 85) : (10 15) : (O. 5 I)。(e)铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层的參数測定 ①铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层的体积电阻率采用四探针法測定。线切割机将涂层切下,打磨清洗并加工成IOmmX ImmX Imm形状,采用PPMS-9综合物理性能测试仪器(PPMS-9 ;美国Quantum Design公司)测量量程10nA_5mA, l_95mV,最大测量电阻9M,试验机测试体积电阻,并采用下面公式计算铜基复合涂层的体积电阻率本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层,其特征是所述铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层由ニ硫化钥和金属铜粉经过真空粉末冶金法制备,其涂层组分质量比为铜ニ硫化钥余量=(75 90) : (8 22) : (2 3);涂层厚度150 μ πΓ300 μ m ;涂层的体积电阻率5 13.8Χ10_8Ω ·πι;涂层的摩擦系数O. 04、. 09;大气环境下载流为I含30Α,滑动速度含10!11/8时,涂层的摩擦系数小于等于0.3。2.根据权利要求I所述的铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层,其特征是所述铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层的优选组分质量比为铜ニ硫化钥余量=(8(Γ85) : (1(Γ15) : (O. 5^1)。3.ー种制备权利要求I或2所述的铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层的方法,其特征是所述方法包括以下步骤 a)将市售铜包覆ニ硫化钥、铜粉和市售ニ硫化钥粉体,根据所需涂层中组分质量比,在无水こ醇介质中进行球磨混合,控制球磨转速为10(Tl50r/min,混合时间为12 24h,混磨介质为玛瑙球; b )将上述混合粉末在4(Γ80 V下烘干,烘干后将所述混合粉末在真空中烧结,烧结温度为800 1200で,恒温I 2h ; c)将烧结后块体破碎形成粉体,所得粉体组分质量比为铜ニ硫化钥余量=(75 90) : (8 22) : (2 3),所选粉体平均粒径为75 μ m左右; d)采用步骤c所得粉体为原料,利用大气等离子喷涂方法制备铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层,大气等离子喷涂设备为美国美科公司大气等离子喷涂设备,使用ABB机械臂,喷枪为美国美科9MB Plasma Gun,送粉器为ZB-80型双筒送粉器,载气为氩气;喷涂前对金属基材进行表面预处理,所述基材为A3低碳钢、不锈钢、LY12硬铝合金和轴承钢。e)铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层的參数測定 i .铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层的体积电阻率采用四探针法測定,采用美国QuantumDesign公司综合物理性能测试仪器型号PPMS-9测试体积电阻,測定的体积电阻率范围为5^13. 8 X IO-8 Ω ·πι,计算铜-ニ硫化钥自润滑导电涂层体积电阻率的公式如下 A=平 公式中 Pv -体积电阻率,単位为欧姆 米(Ω·πι); Rv-铜基涂层的体积电阻,単位欧姆(Ω); B -涂层横截面的宽度,単位米(m); D -涂层厚度,単位米(m); L-涂层测试电极间长度,单位米(m);·用型号HST-10载流高速摩擦磨损试验机測定的大气环境下载流I含30Α,滑动速度g 10m/s时,摩擦系数...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁波温银堂甄文柱王文魁
申请(专利权)人:燕山大学
类型:发明
国别省市:

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