【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及硅钢片性能测 试，尤其涉及硅钢片电气性能的测试装置及测试方法。
技术介绍
硅钢片的涂层绝缘性能是评价硅钢产品质量的一项重要指标。国际上通用两种方法，一种方法是国际电工委员会“磁性钢片和钢带表面绝缘电阻的测定方法(IEC60404-11 1999)”标准。该方法通过在硅钢片单面施加规定电压，通过测量测试通过涂层的电流大小来评价涂层绝缘性能。该方法在操作中不可避免的产生了接触电阻，导致测试结果有较大的离散性。第二种方法是美国标准“通过两片绝缘涂层叠加测试层间电阻的标准方法(ASTMA937/937M-06)”采用四端法原理，测试流过两片叠加的绝缘涂层的电流在两涂层间产生的电压降，来计算两片涂层的绝缘性能，该方法优点是避免了接触电阻对测试结果的影响。按照ASTM标准规定的方法进行操作，会出现对绝缘涂层表面施加压力时，上下未施加压力的试样涂层部分也会相互挤压，造成实际测试面积不确定的情况，易导致结果出现偏差。因此，设计一种能够避免改变测试绝缘涂层面积变化的方法和装置是有必要的。
技术实现思路
本专利技术旨在解决上述缺陷，提供一种硅钢片层间电阻双层叠加测试装置及其测试方法。本专利技术在施加压力时导致的测试面积与计算面积不会产生不符合的问题，能准确的测量出上下叠加的固定涂层面积的绝缘性能。本专利技术是这样实现的，一种硅钢片层间电阻双层叠加测试装置，它包括带有绝缘涂层的上层、下层硅钢片、直流恒流源、数字电压表、插入上层、下层硅钢片的电极和包括压头的压力传递装置，所述上层硅钢片面积和形状和压头一致，所述下层硅钢片的面积大于上层硅钢片的面积，所述电极有四个，...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.ー种硅钢片层间电阻双层叠加测试装置，它包括带有绝缘涂层的上层、下层硅钢片、直流恒流源、数字电压表、插入上层、下层硅钢片的电极和包括压头的压カ传递装置，其特征在于，所述上层硅钢片面积和形状和压头一致，所述下层硅钢片的面积大于上层硅钢片的面积，所述电极有四个，四个电极分别接入直流恒电流源和数字电压表，数字电压表测试相叠加的绝缘涂层的电压降。2.根据权利要求I所述的硅钢片层间电阻双层叠加测试装置，其特征在于，所述压カ传递...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡志远，沈杰，周星，李平，
申请(专利权)人：上海宝钢工业检测公司，
类型：发明
国别省市：
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