旋转抛光垫制造技术

技术编号:7696847 阅读:176 留言:0更新日期:2012-08-18 14:39
本发明专利技术提供了一种平面抛光垫,其包括多个可变尺寸的孔。在朝向垫中心的区域中所述孔通常较大,而在朝向所述垫周边的区域中所述孔通常较小。一些实施例还包括沿着一个或多个同心圆环设置的孔,所述一个或多个同心圆环沿着所述正面布置并且关于旋转轴线大致对称。孔的这些构造可实现优良的切削性能和高级的光洁度。此外,这些构造使得抛光操作中一些不可取的状况减至最轻程度,诸如随着旋转垫在整个待抛光表面上滑动,抛光膏抛洒、振动、颤摆以及操作工感到的拖拽。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
抛光垫针为抛光工件表面而装备。更具体地讲,图案化的旋转抛光垫被装备以用于抛光工件表面。
技术介绍
涂漆表面,例如,外部涂漆的机动车和海船表面的视觉外观是重要的美学特性。原始设备制造商和售后市场产业已将大量资源投入可提供诸如(举例来说)低雾度和良好图像清晰度之类的美学品质的油漆系统的开发和应用。车辆和船舶制造商惯常使用面漆和清漆系统。面漆提供想要的颜色,而涂敷于面漆上方的清漆提供透明的抗刮痕和抗石击保护涂层。然而,这种油漆系统具有放大面漆或清漆中的缺陷(例如,刮痕、雾度和灰尘粒)的趋势。赋予或恢复油漆系统的高质量外观的通用方法是采用多步工艺。首先,使用细小磨粒粒度的涂附研磨产品抛光这些缺陷,例如使用砂纸或结构化磨料制品。该步骤可快速去除所述缺陷,但是通常留下需要被去除的擦痕或“旋涡”痕,且有时留下刮痕。接着,用抛光剂进行抛光来去除旋涡痕。抛光剂通常是含水或基于石油的材剂,其含有的磨粒粒度小于在涂附研磨制品中使用的磨粒粒度。然而,抛光步骤会导致具有模糊外观的表面,其具体程度取决于油漆系统。模糊外观通过其中利用整理剂将油漆系统的模糊部分抛光的整理步骤去除。整理剂通常是含水或基于石油的材剂,其含有的磨粒粒度小于在抛光剂中使用的磨粒粒度。最终,例如用软布去除抛光和/或整理剂的残留,从而产生基本不含表面残留的赏心悦目的饰面。在以上抛光步骤中使用的抛光垫通常是可压缩的,以能够在整个抛光表面上施加均匀的压力。这类垫通常由羊毛或聚合物泡沫制成。虽然抛光步骤可以是人工处理步骤,但是其可通过将抛光垫附着到电动或空气驱动的气动工具上来减轻劳动强度。如本文所用,“抛光步骤”包括在恢复或改善表面的工艺中使用的任何步骤,包括研磨、抛光和整理步骤。抛光垫的性能可基于多个因素评定。首先,抛光垫提供一定程度的切削性能(或“切削”),其定义为移动抛光垫去除表面缺陷的速率。切削性能应当足够高,以允许在合理的时间量内完成抛光。第二,抛光垫提供一定程度的光洁度。通过抛光操作提供的光洁度由所得表面的光洁度限定,并且可通过测量“雾度”量化。雾度随着光洁度的增加而降低,并因而应该尽可能低。第三,旋转抛光垫可根据用户经验评定。这里,理想的是,将旋转抛光垫与被抛光表面以可控方式接合,从而降低在抛光工艺中,动力工具的颠簸或其它不可预见的运动(通常称为“震颤”)的发生率。这帮助操作工保持对抛光垫的取向的高度控制,并有助于避免工件因疏忽而被切削。
技术实现思路
在抛光应用中,同时实现良好的切削性和高级光洁度这二者通常是具有挑战性的。为提高切削性能而改变抛光垫或研磨剂通常导致较粗糙的光洁度。相反,导致得到较高级光洁度的改变通常还势必会降低研磨速率,并且因此降低切削性能。切削性能与光洁度之间的明显的反比关系是许多本领域技术人员感到为难的原因。这里,提供旋转抛光垫,其解决了期望实现优良切削性能和高级光洁度这二者的人所面临的两难境地。通过利用包括多种可变尺寸的孔的平面抛光垫,实现了这些优点的结合。所述孔在朝着垫中心的区域中总体上较大,而在朝着垫周边的区域中总体上较小。这种大孔和小孔的协同布置既可实现优良的切削性能又可提供高级的光洁度。这种构造还具有超越传统泡沫抛光垫的其它意想不到的优点。首先,中间的孔有利地俘获多余的磨料组合物,从而降低了在抛光过程中抛射的液体量,并且因此不但减少废液量而且缩短完成操作后的清洁时间。第二,操作工在抛光过程中感觉到的振动或“震颤”量被维持在低的程度。降低的振动继而导致降低的疲劳并且提高操作工的舒适度。第 制,并且还防止垫在抛光过程中颤摆。由于颤摆能够导致抛光垫在表面上跳动或颠簸,因此这种构造可改善操作工控制并降低损坏被抛光表面的风险。在一个方面,提供了一种旋转抛光垫,其包括基板,其具有正面、背面和垂直于所述正面和背面的旋转轴线,所述基板还包括内部区域,其邻近并围绕所述旋转轴线;外部区域,其包围所述内部区域;具有第一平均尺寸的多个第一孔,其位于所述内部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸;以及具有第二平均尺寸的多个第二孔,其位于所述外部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸,其中所述第一平均尺寸大于所述第二平均尺寸。在另一方面,提供了一种旋转抛光垫,其包括基板,其具有正面、背面和垂直于所述正面和背面的旋转轴线,所述基板还包括内部区域,其邻近并围绕所述旋转轴线;外部区域,其包围所述内部区域;具有第一孔密度的多个第一孔,其位于所述内部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸;以及具有第二孔密度的多个第二孔,其位于所述外部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸,其中所述第一孔密度大于所述第二孔密度。在另一方面,提供了一种旋转抛光垫,其包括基板,其具有正面、背面和垂直于所述正面和背面的旋转轴线,所述基板还包括内部区域,其邻近并围绕所述旋转轴线;外部区域,其包围所述内部区域;具有第一平均尺寸的多个第一孔,其位于所述内部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸;具有第二平均尺寸的多个第二孔,其位于所述外部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸;其中所述第一平均尺寸大于所述第二平均尺寸,并且其中所述外部区域还包括至少一个环形区域,并且其中所述多个第二孔还包括布置在所述至少一个环形区域中的第二孔的第二子集,所述第二子集从所述正面朝着所述背面延伸,并沿着所述至少一个圆环布置,每个圆环与所述正面共面,并且大致关于所述旋转轴线对称。在另一方面,提供了一种旋转抛光垫,其包括基板,其具有正面、背面和垂直于所述正面和背面的旋转轴线,所述基板还包括内部区域,其邻近并围绕所述旋转轴线;外部区域,其包围所述内部区域;以及多个孔,所述多个孔从所述正面朝所述背面延伸,其中所述孔具有一定的尺寸分布,并且相对于所述外部区域,具有相对大尺寸的孔主要位于所述内部区域中。附图说明图I是根据本专利技术一个实施例的抛光垫的前视图;图2是沿着图I中的线2-2的抛光垫的剖面正视图;图3是从背面看的图I-图2中的抛光垫的透视图;图4是图I的矩形插入框中所示的抛光垫的局部放大前视图;以及图5是根据本专利技术实施例的抛光垫的前视图。定义 如本文所用“孔”指在制品中的开口,其可以或可以不穿透所述制品;“孔间距”指两个相邻孔之间的中心至中心的距离;“可压缩的”指材料在被施加压力时缩小体积。“直径”指最大横向尺寸;以及“孔密度”指在给定区域中布置的孔的总数量除以该区域的总表面积。具体实施例方式以下描述涉及可用于从表面上去除缺陷和抛光所述表面使其达到高级光洁度的抛光垫。在机动车和海船应用中,这些抛光垫是尤其有用的,因为它们需要抛光涂漆的外表面以产生有光泽的悦目外观。然而,抛光垫不限于这些应用。例如,它们可用于任何其它涂漆表面或甚至非涂漆表面,并且不限于任何特定类型制品上的抛光操作。例如,工件表面可包括大理石面、亮光漆面、复合材料面或胶粘涂覆面。此外,抛光垫不限于特定使用方法。液体和固体形式的多种研磨抛光剂和研磨抛光膏中的任何一种都可有利地与这些抛光垫一起使用,实现理想的表面光洁度。各种动力工具可用于产生抛光垫和待抛光表面之间的相对运动。此外,这些垫的应用不限于用于抛光制品的工作流程的任何特定阶段。例如,它们可作为多步骤抛光方法的第一步骤、中间步骤或最后步骤。作为另外一种选择,这些抛光垫可用于单步骤抛光方法。本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.11.12 US 61/260,4981.一种旋转抛光垫,包括 基板,具有正面、背面和垂直于所述正面和背面的旋转轴线,所述基板进一步包括 内部区域,邻近并围绕所述旋转轴线; 外部区域,包围所述内部区域; 具有第一平均尺寸的多个第一孔,位于所述内部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸;以及 具有第二平均尺寸的多个第二孔,位于所述外部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸,其中所述第一平均尺寸大于所述第二平均尺寸。2.一种旋转抛光垫,包括 基板,具有正面、背面和垂直于所述正面和背面的旋转轴线,所述基板进一步包括 内部区域,邻近并围绕所述旋转轴线; 外部区域,包围所述内部区域; 具有第一孔密度的多个第一孔,位于所述内部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸;以及 具有第二孔密度的多个第二孔,位于所述外部区域内,并且从所述正面朝着所述背面延伸,其中所述第一孔密度大于所述第二孔密度。3.根据权利要求2所述的抛光垫,其中所述第一孔密度的范围为每平方厘米I.5至5. O个,并且所述第二孔密度的范围为每平方厘米O. 8至I. 5个。4.根据权利要求I或2所述的抛光垫,其中所述多个第二孔包括根据彼此间隔开的一系列重复多边形集聚布置的第二孔的第一子集。5.根据权利要求4所述的抛光垫,其中所述多边形集聚为六边形集聚。6.根据权利要求I或2所述的抛光垫,其中所述多个第一孔具有第一平均深度,并且所述多个第二孔具有小于所述第一平均深度的第二平均深度。7.根据权利要求I或2所述的抛光垫,其中所述多个第一孔具有第一平均直径,并且所述多个第二孔具有小于所述第一平均直径的第二平均直径。8.根据权利要求I或2所述的抛光垫,其中所述多个第一孔占据第一平均体积,并且所述多个第二孔占据小于所述第一平均体积的第二平均体积。9.根据权利要求I或2所述的抛光垫,其中所述基板包括开孔聚合物泡沫,当压缩到原始体积的25%时,所述泡沫的压缩变形值在2000至7000帕斯卡范围内。10.根据权利要求I或2所...

【专利技术属性】
技术研发人员:格雷戈里·A·克恩勒斯科特·R·库勒布兰特·A·默根堡舍恩·A·舒克内希特爱德华·J·伍
申请(专利权)人:三M创新有限公司
类型:发明
国别省市:

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