组合物制造技术

一种低刺激清洁组合物，所述组合物包含：(a)式(I)的阴离子表面活性剂化合物：其中R1表示C4-36取代或未取代的烃基；R2、R3、R4和R5分别独立表示氢原子或C1-4烷基，并且其中R2、R3、R4和R5至少之一不为氢，并且M+表示阳离子；和(b)两性表面活性剂；其中组分(a)与组分(b)的摩尔比为0.25∶1至4∶1，其中组合物包含小于3％重量聚乙氧基化非离子物种。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·科特雷尔，
申请(专利权)人：因诺斯佩克有限公司，
类型：发明
国别省市：