一种多功能PVD镀膜机制造技术

本发明专利技术提供一种多功能PVD镀膜机，包括真空室、设置在真空室内的导电工件转架、等离子电弧蒸发源和电弧电源，还包括脉冲偏压电源、中频溅射源、中频电源、气体离子源、离子源电源，所述脉冲偏压电源和等离子电弧蒸发源、中频溅射源、气体离子源通过四组开关进行单独控制，脉冲偏压电源和等离子电弧蒸发源、中频溅射源、气体离子源都可以单独或协同工作。本发明专利技术的特点在于，一台机器可以实现等离子电弧镀膜和溅射镀膜，不需要更换机台或配置，就可以实现多种镀膜的选择，大大降低了设备投入成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及PVD真空离子镀膜领域，特别涉及溅射、等离子电弧镀膜机的改进。
技术介绍
PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD的方法也就是经由直接的传质将所需体沉积的物理材料传递至基体表面。PVD (物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离 子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。随着人们环保意识的提高，PVD镀膜技术越来越受到重视，其中的各种镀膜技术都有得到广泛的应用。等离子电弧(俗称电弧、多弧)沉积是指在一定的真空条件下，在靶材表面(所需要沉积的材料)产生弧光放电，从而引起靶材的物态变化，同时喷射出靶材原子、离子、熔融颗粒；优点沉积离子的蒸发速率高、溅射的能量高；缺点膜层较为粗糙本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张笑，朱宏辉，
申请(专利权)人：上海仟纳真空镀膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：