【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种聚对二甲基苯沉积系统，尤其涉及一种可方便控制气体流量并提高镀膜质量的聚对二甲基苯沉积系统。
技术介绍
高分子聚对二甲基苯沉积系统的原理是将一种二聚物置放于真空环境下，经由蒸发、高温裂解为单分子并重新键结后，将聚对二甲基苯以高分子的型态沉积于基材表面。请参阅图1，其是现有的聚对二甲基苯沉积系统的架构图，如图所示的沉积系统9，首先是将聚对二甲基苯的粉末放入蒸发管91并启动机械式真空泵95使整个沉积系统9保持低真空状态，并开始加热到150°C以上，促使聚对二甲基苯蒸发为气态并进入裂解管92中；之后，裂解管92的温度达650°C以上，气态聚对二甲基苯进入时会被高温裂解为单分子型态的聚对二甲基苯；然后，高温的气态聚对二甲基苯会被喷射到沉积室的腔体93中，使得聚对二甲基苯开始重新键结成为高分子型态的聚对二甲基苯并附着于基材(图未示)表面上，但是此时的气态聚对二甲基苯并非已完全附着于腔体93或基材表面，所以在真空泵95前需设置一冷冻捕捉器94来捕捉残余的聚对二甲基苯并使其冷凝于冷却棒上，以避免残余的聚对二甲基苯气体沉积于真空泵95或影响泵油质量。如上所述，传...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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