本发明专利技术提出一种掩模版的固定装置，掩膜版包括多个第一导磁部。固定装置包括承载部和多个吸附模块。承载部承载掩膜版。多个吸附模块固定于承载部，每个吸附模块于第一导磁部的位置一一对应。每个吸附模块包括电磁铁，当电磁铁通电时，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。电磁铁可以被第一磁铁和第二磁铁替代，第一磁铁或第二磁铁可改变磁极方向，当第一磁铁和第二磁铁磁极方向相同时，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。本发明专利技术提出一种掩膜版的固定装置，通过磁力吸附的方式将掩膜版固定在固定装置上，制作简单，使用可靠，控制方便。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种固定装置，且特别涉及ー种掩模版的固定装置，掩膜版的固定方法也ー并涉及。
技术介绍
光刻设备是一种将掩模图案曝光成像到硅片上的设备。已知的光刻设备包括步进重复式和步进扫描式。在上述的光刻设备中，需具有相应的装置作为掩模版和硅片的载体， 装载有掩模版/硅片的载体产生精确的相互运动来满足光刻需要。上述掩模版的载体被称之为承版台，硅片的载体被称之为承片台。承版台和承片台分别位于光刻设备的掩模台分系统和エ件台分系统中，为上述分系统的核心模块。在承版台和承片台的相互运动中，须保证掩模版和硅片始终被可靠地定位，也即上述掩模版和硅片的六个自由度皆被限制住。掩模版在固定过程中产生的变形误差直接影响了芯片制作的好坏，高端光刻机都要求掩模版在夹持カ下的变形为纳米级別，因此如何解决掩模版在夹持カ下产生的变形攸关重要。在承版台的模块中，掩模版的固定方式目前有机械加紧式和真空吸附式，机械加紧式固定精度较低，并且可以能引起掩模版的变形较大，适用于较低端的光刻机。真空吸附方式容易漏气，且由于承版台的夹具(Chuck)较大，真空管道细长，夹具由是ー种非常特殊的材料制造，因此在夹具上面加工细长的孔有很大的难度。在美国专利公开号US20040178362A1中，图1所示为先前技术的固定装置结构示意图。支撑台12包括销18，膜16与中间支撑16通过静电吸附，中间支撑14通过销18支撑。版10与中间支撑14之间通过表面M上的突起22固定垂向位置，由静电提供吸附カ。此种方法可以固定版10，但控制静电カ难度较大；并且存在中间支撑14，増加了膜16的静电载荷。由于掩模版在工作时做高加速运动，有较大的切力的存在，使膜易损坏。 此专利技术没有针对掩模版的固定而专利技术，而是通用的版件固定，由于掩模版上面有掩模，中间支撑14必须为中间为空腔，其实现难度较大。
技术实现思路
本专利技术提出一种掩膜版的固定装置，通过磁力吸附的方式将掩膜版固定在固定装置上，制作简单，使用可靠，控制方便。为了达到上述目的，本专利技术提出一种掩模版的固定装置，掩膜版包括至少3个第 ー导磁部，包括承载部，承载掩膜版；以及至少3个吸附模块，固定于承载部，每个吸附模块于第一导磁部的位置一一对应， 每个吸附模块包括电磁铁，当电磁铁通电时，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。进ー步说，固定装置还包括第二导磁部，环绕电磁铁。进ー步说，当第一导磁部吸附在承载部上吋，吸附模块与第一导磁部的距离为0. lmm-0. 2mm。进ー步说，第一导磁部为镶嵌在掩膜版周围的导磁材料形成。进ー步说，第一导磁部的厚度为1. 5mm-2. 5mm。本专利技术还提供一种掩模版的固定装置，掩膜版包括至少3个第一导磁部，包括承载部，承载掩膜版；以及至少3个吸附模块，对应于多个第一导磁部，每个吸附模块包括第一磁铁；以及第二磁铁，第一磁铁或第二磁铁可改变各自磁极方向，当第一磁铁和第二磁铁磁极方向相同时，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。进ー步说，固定装置还包括第二导磁部，环绕第一磁铁和第二磁铁。进ー步说，第一磁铁或第二磁铁可旋转地安装在吸附模块上。进ー步说，第一磁铁或/和第二磁铁为电磁铁。进ー步说，固定装置还包括第三导磁部，第一磁铁和第二磁铁固定安装在第三导磁部上。本专利技术还提供一种掩膜版的固定方法，应用于掩膜版的固定装置中，掩膜版包括至少3个第一导磁部，固定装置包括承载部承载掩膜版，还包括至少3个固定于承载部的吸附模块，每个吸附模块包括电磁铁，固定方法包括以下步骤将掩膜版放置在承载部上，其中第一导磁部的位置一一对应于吸附模块；以及将电磁铁通电，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。本专利技术还提供一种掩膜版的固定方法，应用于掩膜版的固定装置中，掩膜版包括至少3个第一导磁部，固定装置包括承载部承载掩膜版，还包括至少3个固定于承载部的吸附模块，每个吸附模块包括第一磁铁和第二磁铁，其中第一磁铁或第二磁铁可改变磁极方向，固定方法包括以下步骤将掩膜版放置在承载部上，其中第一导磁部的位置一一对应于吸附模块；以及将第一磁铁和第二磁铁设置为磁极方向相同，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。进ー步说，改变第一磁铁或第二磁铁的磁极方向的步骤为旋转第一或第二磁铁。进ー步说，改变第一磁铁或第二磁铁的磁极方向的步骤为第一磁铁或/和第二磁铁为电磁铁，改变第一或第二磁铁的通电方向。本专利技术提供的掩膜版的固定装置，通过磁力吸附的方式将掩膜版固定在固定装置上，制作简单，使用可靠，控制方便。本专利技术通过磁吸附方式实现了一根电线代替真空管道的问题，在控制上，只需控制带动磁铁旋转的驱动装置或只需改变电流方向，实现掩模版的吸附，从而解决了传统采用真空吸附时加工长孔(真空孔)的难题，也解决了因加工精度没有达标或变形等问题引起的真空漏气问题。附图说明图1所示为先前技术的固定装置结构示意图。图2所示为本专利技术实施中的固定装置所固定的掩膜版的结构示意图。图3所示为本专利技术固定装置的结构示意图。图4a、4b所示为本专利技术固定装置的局部剖面和俯视示意图。图5所示为本专利技术第一实施例中固定装置固定掩膜版时的局部剖面示意图。图6所示为本专利技术第二实施例中固定装置固定掩膜版时的局部剖面示意图。图7所示为本专利技术第二实施例中固定装置释放掩膜版时的局部剖面示意图。图8所示为本专利技术第三实施例中固定装置固定掩膜版时的局部剖面示意图。具体实施例方式为了更了解本专利技术的
技术实现思路
，特举具体实施例并配合所附图式说明如下。请參看图2，图2所示为本专利技术实施中的固定装置所固定的掩膜版的结构示意图。掩膜版101承载掩模104以满足光刻机的光刻需要。掩膜版包括多个第一导磁部 105。多个第一导磁部105为镶嵌在掩膜版101周围的导磁材料形成，较佳的，第一导磁部 105可以设置在掩膜版101的四个角上。第一导磁部105的厚度为1. 5mm-2. 5mm。需要说明的是，虽然图2中所示的第一导磁部105的个数为4个，但是，本领域技术人员根据3个点决定ー个平面的基本原理，并基于本专利技术的精神可知，第一导磁部105最少为3个时，就能够将掩模104固定在ー个平面上。图3所示为本专利技术固定装置的结构示意图。请參考图3。固定装置100包括承载部102和多个吸附模块103。承载部102承载掩膜版101。多个吸附模块103固定于承载部102。每个吸附模块103利用磁力提供掩膜版101吸附力，以此将掩膜版101固定在固定装置100上。需要进ー步说明的是，虽然图3中所示的吸附模块103对应于图2中的第一导磁部105，个数为4个。但是本领域技术人员根据前文所述，当第一导磁部105为3个，吸附模块103也可以为3个，即可将第一导磁部105吸附在其上，从而将掩模104固定在ー个平面上。图4a、4b所示为本专利技术固定装置的局部剖面和俯视示意图。请结合參考图3、图如和图4b。吸附模块103与承载部102的上表面不齐平，存在距离T，距离T可以为0. lmm-o. 2mm。这样，吸附模块103并不直接接触掩模版101，当吸附カ作用于掩模版101吋，掩模版101受カ区域被承载部102支撑，减小掩模版101大面积受力。图5所示为本专利技术第一实施例中固定装置固定掩膜版时的局部剖面示意图。电磁铁109固定在固定装置100中，第二导磁部108环绕电磁铁109并固定在承载部102本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黎刚生，齐芊枫，顾鲜红，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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