本发明专利技术公开了一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，其特征在于：通过磁控溅射法在玻璃表面镀有达到在可见光下具有自清洁功能的功能薄膜，所述的功能薄膜为改性纳米二氧化钛薄膜。本发明专利技术目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀，在可见光下具有自清洁功能的具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，本发明专利技术还提供一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃的制备方法。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，本专利技术还涉及一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃的制备方法。
技术介绍
玻璃是在当代的生产和生活中扮演着重要角色，建筑物的门窗汽车车窗和挡风玻璃等等许多地方都用到玻璃，给生产和生活带来了很多的方便。玻璃长期置与外界接触，极其容易被灰尘污染弄脏。玻璃弄脏后透过率就会降低，从而影响透光效果，且现有的镀膜玻璃的镀膜层与玻璃基材的结合力弱、镀膜层疏松、不均勻。
技术实现思路
本专利技术目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均勻，在可见光下具有自清洁功能的具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，本专利技术还提供一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃的制备方法。本专利技术是通过以下技术方案实现的一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，其特征在于通过磁控溅射法在玻璃表面镀有达到在可见光下具有自清洁功能的功能薄膜，所述的功能薄膜为改性纳米二氧化钛薄膜。如上所述的具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，其特征在于所述的玻璃表面和所述的功能薄膜之间设有一层纳米氧化锡。如上所述的具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，其特征在于所述的功能薄膜和所述的纳米氧化锡层间设有一层纳米二氧化硅薄膜。一种权利要求上述的具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃的制备方法，其特征在于包括如下步骤(1)制备溅射二氧化钛混合靶在二氧化钛中加入五氧化钨，混合后采用高温喷涂；(2)制备锡靶，将锡熔化后用铟绑定浇注在不锈钢管上制作锡靶；(3)制备硅靶，采用热喷涂法，按重量比为Si Al (98 2)制备硅靶;(4)烘干玻璃表面，利用去离子水用卧式清洗机清洗并烘干玻璃表面；(5)利用磁控溅射法在玻璃表面溅射二氧化锡薄膜，采用氧分压控制，采用氩氧摩尔比为1 2反应溅射，生成二氧化锡薄膜；(6)溅射二氧化硅薄膜，利用磁控溅射法，采用氧分压控制，氩氧摩尔比为1 2.5 反应溅射，生成二氧化硅薄膜；(7)溅射二氧化钛薄膜，在大面积镀膜设备上，用两个旋转双阴极溅射步骤(1) 制备好的混合有五氧化钨的二氧化钛混合靶，溅射气氛为氩气和氧气，按摩尔比Ar/仏为 25 1，得到渗有五氧化钨的二氧化钛薄膜。如上所述的制备方法，其特征在于步骤(5)中生成的二氧化锡薄膜厚度为18 22nm。如上所述的制备方法，其特征在于步骤(6)中生成的二氧化硅薄膜厚度为13 17nm。如上所述的制备方法，其特征在于步骤(7)中溅射功率为70KW，溅射速度为5m/ min，溅射反应压强为4X 10_3mbar。如上所述的制备方法，其特征在于步骤(7)中生成的渗有五氧化钨的二氧化钛薄膜厚度为30 50nm。与现有技术相比，本专利技术有如下优点镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均勻等优点。1、本专利技术采用磁控溅射法将在可见光下具有自清洁功能的改性纳米二氧化钛薄膜溅射在玻璃基材上，在可见光下具有自清洁功能，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均勻。能够使构件外边面自清洁，不易被污染，容易保持清洁。能够使构件外表面自清洁。2、本本专利技术玻璃具有较高的可见光透过率。附图说明图1是本专利技术工艺流程图。具体实施方式一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，通过磁控溅射法在玻璃表面镀有达到在可见光下具有自清洁功能的功能薄膜，所述的功能薄膜为改性纳米二氧化钛薄膜。所述的玻璃表面和所述的功能薄膜之间设有一层纳米氧化锡。所述的功能薄膜和所述的纳米氧化锡层间设有一层纳米二氧化硅薄膜。一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃的制备方法，其特征在于包括如下步骤(8)制备溅射二氧化钛混合靶在二氧化钛中加入五氧化钨，混合后采用高温喷涂；(9)制备锡靶，将锡熔化后用铟绑定浇注在不锈钢管上制作锡靶；(10)制备硅靶，采用热喷涂法，按重量比为Si Al (98 幻制备硅靶，以提高硅靶的导电性；(11)利用去离子水用卧式清洗机清洗并烘干玻璃表面；(12)利用磁控溅射法在玻璃表面溅射二氧化锡薄膜，采用氧分压控制，采用氩氧摩尔比为1 2反应溅射，生成二氧化锡薄膜；(1 利用磁控溅射法，采用氧分压控制，氩氧摩尔比为1 2. 5反应溅射，生成二氧化硅薄膜；通过上述两层不同折射率的膜薄叠加，提高透过率。(14)在大面积镀膜设备上，用两个旋转双阴极溅射步骤(1)制备好的混合有五氧化钨的二氧化钛混合靶，溅射气氛为氩气和氧气，按摩尔比Ar/化为25 1，得到渗有五氧化钨的二氧化钛薄膜。步骤(5)中生成的二氧化锡薄膜厚度为18 22nm，二氧化锡薄膜厚度优选20nm。步骤(6)中生成的二氧化硅薄膜厚度为13 17nm。二氧化硅薄膜厚度为优选 15nm。步骤(7)中溅射功率为70KW，溅射速度为5m/min，溅射反应压强为4X 10_3mbar。步骤(7)中生成的渗有五氧化钨的二氧化钛薄膜厚度为30 50nm。本专利技术采用磁控溅射法将在可见光下具有自清洁功能的改性纳米二氧化钛薄膜溅射在玻璃基材上，在可见光下具有自清洁功能，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均勻。能够使构件外边面自清洁，不易被污染，容易保持清洁。能够使构件外表面自清洁。本本专利技术玻璃具有较高的可见光透过率。权利要求1.一种具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，其特征在于通过磁控溅射法在玻璃表面镀有达到在可见光下具有自清洁功能的功能薄膜，所述的功能薄膜为改性纳米二氧化钛薄膜。2.根据权利要求1所述的具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，其特征在于所述的玻璃表面和所述的功能薄膜之间设有一层纳米氧化锡。3.根据权利要求2所述的具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃，其特征在于所述的功能薄膜和所述的纳米氧化锡层间设有一层纳米二氧化硅薄膜。4.一种权利要求3所述的具有可见光响应的磁控溅射自清洁玻璃的制备方法，其特征在于包括如下步骤(1)制备溅射二氧化钛混合靶在二氧化钛中加入五氧化钨，混合后采用高温喷涂；(2)制备锡靶，将锡熔化后用铟绑定浇注在不锈钢管上制作锡靶；(3)制备硅靶，采用热喷涂法，按重量比为Si Al (98 2)制备硅靶；(4)烘干玻璃表面，利用去离子水用卧式清洗机清洗并烘干玻璃表面；(5)利用磁控溅射法在玻璃表面溅射二氧化锡薄膜，采用氧分压控制，采用氩氧摩尔比为1 2反应溅射，生成二氧化锡薄膜；(6)溅射二氧化硅薄膜，利用磁控溅射法，采用氧分压控制，氩氧摩尔比为1 2. 5反应溅射，生成二氧化硅薄膜；(7)溅射二氧化钛薄膜，在大面积镀膜设备上，用两个旋转双阴极溅射步骤(1)制备好的混合有五氧化钨的二氧化钛混合靶，溅射气氛为氩气和氧气，按摩尔比Ar/化为25 1， 得到渗有五氧化钨的二氧化钛薄膜。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于步骤(5)中生成的二氧化锡薄膜厚度为18 2&im。6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于步骤(6)中生成的二氧化硅薄膜厚度为13 17nm。7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于步骤(7)中溅射功率为70KW，溅射速度为5m/min，溅射反应压强为4X10_3mbar。8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于步骤(7)中生成的渗有五氧化钨的二氧化钛薄膜厚度为30 50nm。全文摘要本专利技术公开了一种具有可见光响应的磁控溅射自本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林改，
申请(专利权)人：中山市格兰特实业有限公司火炬分公司，
类型：发明
国别省市：
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