一种磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃制造技术

本发明专利技术公开了一种磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地磁控溅射有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层，第二层为TiO2层，第三层为CrNx层，第四层为ZnO层，第五层为Ag层，第六层为NiCrOy层，第七层为TiO2层，第八层为ZnSn3O4层，第九层为ZnO层，第十层为Ag层，第十一层为NiCrOy层，第十二层为TiO2层，最外层为Si3N4Oy层。本发明专利技术目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃
本专利技术涉及一种磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃。
技术介绍
玻璃是在当代的生产和生活中扮演着重要角色，建筑物的门窗汽车车窗和挡风玻璃等等许多地方都用到玻璃，给生产和生活带来了很多的方便。但是现有的镀膜玻璃的镀膜层与玻璃基材的结合力弱、镀膜层疏松、不均勻。
技术实现思路
本专利技术目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均勻的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃。本专利技术是通过以下技术方案实现的一种磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地磁控溅射有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SW2 层21，第二层为TiA层22，第三层为CrNx层23，第四层为ZnO层M，第五层为Ag层25，第六层为NiCrOy层沈，第七层为TW2层27，第八层为SiSn3O4层观，第九层为ZnO层四，第十层为Ag层210，第i^一层为NiCrOy层211，第十二层为TiO2层212，最外层为Si3N4Oy层213。如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SW2层21 的厚度为23 27nm。如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第二层TW2层22的厚度为28 32nm。如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层CrNx层23的厚度为1. 5 3nm。如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层ZnO层M的厚度为8 12nm。如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第五层Ag层25的厚度为8 12nm。 如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第六层NiCrOy层沈的厚度为1. 5 3nm。如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第七层TiA层27的厚度为28 32nm。如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第八层SiSn3O4层28 的厚度为58 62nm。如上所述的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第九层ZnO层四的厚度为8 12nm，第十层Ag层210的厚度为8 12nm，第i^一层NiCrOy层211的厚度为 1. 5 3nm，第十二层TW2层212的厚度为18 22nm，最外层Si3N4Oy层213的厚度为观 32nm。与现有技术相比，本专利技术有如下优点1、本专利技术采用磁控溅射法将镀膜层溅射在玻璃基材上，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均勻。2、本玻璃利用TiO2膜的高折射率，使镀膜玻璃颜色呈中性，使之具有较高的可见光透过率，本玻璃透光率T (透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率达 84%，辐射率< 0. 04，并利用TiO2降低银膜的面电阻，减少银的消耗。3、本玻璃钢化前后透过率偏差小于1.5%，漂移小，ΔΕ < 1.0，颜色偏差小，按国标法测耐磨ΔΕ < 2. 0。附图说明图1是本专利技术结构示意图。具体实施方式一种磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地磁控溅射有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层21，第二层为TiA层22，第三层为CrNx层23，第四层为ZnO层M，第五层为Ag层25，第六层为NiCrOy 层沈，第七层为TW2层27，第八层为SiSn3O4层观，第九层为ZnO层四，第十层为Ag层210， 第—^一层为NiCrOy层211，第十二层为TiO2层212，最外层为Si3N4Oy层213。所述第一膜层SiA层21，即二氧化硅层，通过与TiO2结合提高折射率，SiO2的厚度为 23 27nm，nm 是纳米，Im = 109nm。所述第二膜层的T^2层22，即钛的氧化物——二氧化钛。采用高折射率η = 2. 5 的TW2是为了提高玻璃的透光率，而且玻璃呈中性颜色，使之具有较高的可见光透过率，并利用TW2降低银膜的面电阻，减少银的消耗。TiO2膜表面非常光滑，因而改善了银膜的导电率。TiO2层厚度为观 32nm。第三层CrNx层23，即氮化铬层，提高耐磨性，CrNx层厚度为1. 5 3nm。CrNx厚度为 1. 5 3nm。第四层ZnO层24，即氧化锌层，是减反射的金属氧化物层，同时进一步提高银膜的导电率。氧化锌ZnO可用作助熔剂，降低玻璃的烧结温度，用作玻璃涂料，让可见光通过的同时反射红外线，以达到保温或隔热的效果。ZnO层厚度为8 12nm。所述第五层Ag层25，即金属银层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用；Ag层厚度为8 12nm。第六层，即氧化镍铬层，氧化镍铬层为了进一步保护银膜，以避免银膜在反应溅射过程受到浸蚀，还要在薄的银膜一侧或两侧增加所谓的“阻挡层”，对于镀层具有非常良好的抗化学和机械性能。NiCrOy层的厚度为1. 5 3nm。第七层TW2层27，即钛的氧化物——二氧化钛。TW2层的厚度为观 32nm。第八层SiSn3O4层28，即氧化锌锡层，ZnSn304的的厚度为58 62nm，第九层ZnO层29，即氧化锌层，是减反射的金属氧化物层，同时进一步提高银膜的导电率。氧化锌ZnO可用作助熔剂，降低玻璃的烧结温度，用作玻璃涂料，让可见光通过的同时反射红外线，以达到保温或隔热的效果。ZnO层的厚度为8 12nm。第十层Ag层210，即金属银层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用；Ag层的厚度为8 12nm。第十一层NiCrOy层211，即氧化镍铬层，氧化镍铬层为了进一步保护银膜，以避免银膜在反应溅射过程受到浸蚀，还要在薄的银膜一侧或两侧增加所谓的“阻挡层”，对于镀层具有非常良好的抗化学和机械性能。NiCrOy层的厚度为1. 5 3nm。第十二层TW2层212，即钛的氧化物——二氧化钛，厚度为18 22nm。最外层Si3N40y层29，即氮氧化硅层，氮氧化硅提高钢化时抗高温氧化性，Si3N4Oy 层厚度为观 32nm。权上述的可钢化双银LOW-E玻璃的方法，包括如下步骤(1)磁控溅射SiO2层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料51 Al (90 98 2 10)；(2)磁控溅射Ti02层，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶；(3)磁控溅射CrNx层，用氮气做反应气体，用直流电源溅射；(4)磁控溅射ZnO层，平滑CrNx层，用中频交流电源溅射陶瓷Si靶，为Ag层作铺垫；(5)磁控溅射Ag层，交流电源溅射；(6)磁控溅射NiCrOy层，用氮气做反应气体，渗少量氧气，用直流电源溅射；(7)磁控溅射Ti02层，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶；(8)磁控溅射aiSn304层，用中频交流电流溅射^Sn重量比(Zn Sn48 52 48 5 ；(9)磁控溅射ZnO层，平滑CrNx层，用中频交流电源溅射陶瓷Si靶，为Ag层作铺垫；(10)磁控溅射Ag层，交流电源溅射；(11)磁控溅射NiCrOy层，用氮气做反应气体，渗少量氧气，用直流电源溅射；(12)磁控溅射Ti02层，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶；(13)磁控溅射Si3N40y层，氮气作反应气体、用交流中频电源溅射半导本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林改，
申请(专利权)人：中山市格兰特实业有限公司火炬分公司，
类型：实用新型
国别省市：