本发明专利技术公开一种高压均质装置的导流构造，包含有：一导入组件，具有一第一内端面与一第一外端面；至少二个入流单元，设于该导入组件的预定部位；各入流单元分别具有一入流孔连通于各第一内端面与第一外端面之间，以及一导流槽设于第一内端面上，其一端与对应的入流孔连通，另一端则朝预定方向延伸并与另一入流单元的导流槽连接；一导出组件，具有与第一内端面抵接的一第二内端面以及一第二外端面；至少一出流单元，连通于第二内端面与第二外端面之间，并与入流单元的预定部位相连通。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及高压均质装置，特别是指一种具有多样化相对角度的流道，以增进其适用性与效能的高压均质装置的导流构造。
技术介绍
本专利技术以下所称的高压均质装置(High Pressure Homogenizer)，指利用一高压帮浦将混合液体加压至特定压力，并以一高压管路将该混合液体输送至一均质阀(Homogenizing Valve)，再通过该均质阀所具有的流道截面积缩减设计，将原先的高压混合液转换为高速混合液(其流速可达600m/s)，利用两股高速混合液于交汇时，所产生的冲击力、剪切力、气穴及降压等效应，以进行粉体粉碎分散、油水混合液乳化或细胞破碎等应用。与传统研磨设备比较，高压均质装置由于加工过程中较少有污染物产生，而且加工时间短，因此已逐渐成为业界大量采用的主流设备。就现有技术所知，美国第4,533,254号专利公开一种利用高压均质装置(High Pressure Homogenizer)制作乳化物的装置，是在一入料载台与一出料载台之间夹置一间隔片，并于各入、出料载台与间隔片之间形成一流道，入料载台具有分别连接于流道两端的二个入流孔，用以输入高压混合液，出料载台具有连接于该流道中央的一泄流口；藉此以使二股高压混合液在流道中央部位相向冲击，并在完成反应后，再由泄流口排出。另有一日本第JP2261525号专利公开一种乳化装置，是在一入料载台上设置二个入流孔分别连通至其一端面，并通过设于该端面上的一直槽予连接，另一出料载台上设置二个泄流口分别连通至其一端面，并通过设于该端面上的一横槽予连接，操作时，以二端面相向结合，并使各直槽与横槽的中央部位交叉且连通，藉此使进入该二入流孔内的高压混合液，可在直槽中央部位相向冲击，并在完成反应后，经由横槽导引至该二泄流口排出。该日本专利所公开的技术，固然已将上述美国专利所公开的三件式结构，改善为较便于加工与组合的二件式，不过在制造上其必须分别在各入流载台与出流载台上，分别加工制做各直槽与横槽，而且，其用以导引高压混合液相互冲击的方向为恒定，并不适用于需以不同角度进行冲击与反应的场合。
技术实现思路
为解决以上所述的现有技术中存在的问题，本专利技术的主要目的即在于提供一种高压均质装置的导流构造，其具有便于改变流道方向以增进使用效果的作用。本专利技术的另一目的在于提供一种高压均质装置的导流构造，其具有方便制做流道的优点。为达成前述的目的，本专利技术公开一种高压均质装置的导流构造，包含有一导入组件，具有一第一内端面与一第一外端面；至少二个入流单元，设于该导入组件的预定部位；各入流单元分别具有一入流孔连通于各第一内端面与第一外端面之间，以及一导流槽设于第一内端面上，其一端与对应的入流孔连通，另一端则朝预定方向延伸并与另一入流单元的导流槽连接；一导出组件，具有与第一内端面抵接的一第二内端面以及一第二外端面；至少一出流单元，连通于第二内端面与第二外端面之间，并与入流单元的预定部位相连通。附图说明图1是本专利技术较佳实施例(一)使用状态的配置图。图2是本专利技术较佳实施例(一)的立体示意图。图3是本专利技术较佳实施例(二)的立体示意图。图4是本专利技术较佳实施例(三)的立体示意图。图5是本专利技术较佳实施例(四)的立体示意图。图6是本专利技术较佳实施例(四)其导入组件的正视图。图7是本专利技术较佳实施例(五)其导入组件的正视图。图8是本专利技术较佳实施例(六)的立体示意图。图9是本专利技术较佳实施例(七)的立体示意图。其中，附图标记10导流构造11定位组件20导入组件12套管 22第一内端面13连接件24第一外端面14锁紧组件26，28入流单元 30导出组件260，280入流孔 32第二内端面262，282导流槽 34第二外端面264，284分流槽 36出流单元具体实施方式为使本专利技术上述结构、特征与功效能更明显易懂，兹举若干较佳实施例，并配合所附图式，进一步予以详细说明如下。首先请参阅图1、2，本专利技术所公开的导流构造10是由可相向紧密结合的一导入组件20与一导出组件30所共同组成。使用时被置于一管状定位组件11之中，其两端分别为一套管12与一连接件13所抵住，且该定位组件11的两端又各设有一锁紧组件14，用以由两端相向迫紧各套管12与连接件13。导入组件20具有一第一内端面22与一第一外端面24，至少二个入流单元(26，28)设于该导入组件20的中央部位；各入流单元(26，28)又分别包含有一入流孔(260，280)连通于各第一内端面22与第一外端面24之间，以及一导流槽(262，282)凹设于第一内端面22上，其中的一导流槽262的一端与对应的入流孔260连通，另一端则沿一直线方向朝下延伸(以附图方向为准)并与沿同一直线方向延伸的另一导流槽282上端连接。导出组件30具有一第二内端面32与一第二外端面34，至少一出流单元36设于第二内端面32的中央部位，为贯通于各第二内端面32与第二外端面34间的一穿孔，且其连通至第二内端面32的一端，恰对应于各导流槽(262，282)的邻接处。各第一、第二内端面(22，32)相向紧密结合后，可供第一内端面22外的高压混合液(图中未示)，分别经由各入流孔(260，280)流至对应的各导流槽(262，282)，并于其汇流处相向冲击以进行反应，再使已经过反应的混合液，经由出流单元36排至第二外端面34之外。图3中所示的导入组件20，系将其上所设的该二入流单元(26，28)上的各导流槽(262，282)安排为各自沿一直线方向延伸，且该二直线方向相互垂直。图4中所示的导入组件20，其上设有使其导流槽262呈一上一下相向延伸的一对入流单元26，以及使其导流槽282呈一左一右横向延伸的一对入流单元28；导出组件30上的出流单元36，延伸至第二内端面32的一端，则与纵向延伸的对导流槽262，以及横向延伸的对导流槽282的汇流处对应。前述图2、3、4中所示的各导流槽(262，282)，固然可设为分别沿重叠或相互垂直的二条直线方向延伸，但是在实际的运用上，该二直线的延伸方向所共同界定的夹角，可以设为介于5°至180°之间，以使流经其间的高压混合液可以不同角度进行冲击与反应。图5、6中所示的各入流单元(26，28)，上述各导流槽(262，282)设为分别沿一曲线方向延伸，并使该二者末端的相衔接处沿同一切线方向t延伸。图7所示的各入流单元(26，28)，同样分别具有弯曲状的导流槽(262，282)，各导流槽(262，282)相互衔接的末端处，分别沿一切线方向(t1，t2)延伸，该二切线方向(t1，t2)不但相互平行且相隔一适当的距离d，该距离d小于各导流槽(262，282)宽度的一半。图8、9所示的导流构造10的导入组件20，其第一内端面22上进一步凹设有二个分流槽(264，284)，各分流槽(264，284)分别具有适当的长度，并以其一端与各导流槽(262，282)的相交部位衔接，在本实施例中，其另一端分别沿对应的各分流槽(262，282)的延伸方向，再持续延伸一适当的长度；导出组件30上则设有二个出流单元36，分别以其延伸至该第二内端面32的一端与各分流槽(264，284)末端连通。藉以使已经冲击与反应过后的混合液，经由各分流槽(264，284)与对应的各出流单元36，流至该第二外端面34。权利要本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高压均质装置的导流构造，其特征在于，包含有：一导入组件，具有一第一内端面与一第一外端面；至少二个入流单元，设于所述导入组件的预定部位；各入流单元分别具有一入流孔连通于各第一内端面与第一外端面之间，以及一导流槽设于所述第一内端面上 ，其一端与对应的入流孔连通，另一端则朝预定方向延伸并与另一入流单元的导流槽连接；及一导出组件，具有与所述第一内端面抵接的一第二内端面以及一第二外端面；至少一出流单元，连通于所述第二内端面与第二外端面之间，并与所述入流单元的预定部位相 连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：周大鑫，徐绍煜，苏志杰，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。