真空蒸镀用镀材舟及真空蒸镀系统技术方案

本发明专利技术提供一种镀材舟和真空蒸镀系统，所述的镀材舟包含：一镀材容器，用以容纳镀材，并具有一开口；一盖板，设置于该镀材容器的开口上方并与该镀材容器保持一预定间隙，且该盖板的垂直投影面覆盖该镀材容器的该开口，使该镀材汽化后所产生的镀材蒸气经由该预定间隙发散至该镀材舟外部时，通过该盖板控制该镀材蒸气的发散范围；以及一支撑构件，连接该镀材容器及该盖板，以维持其二者间的预定间隙。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种蒸镀用镀材舟及一种真空蒸镀系统。更具体而言，本专利技术关于一种具有盖板的蒸镀用镀材舟，以及一种包含该镀材舟的真空蒸镀系统。
技术介绍
真空蒸镀技术是一种物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术。在真空蒸镀制程中，利用电力或其它加热方式使镀材汽化。由于蒸镀环境为高度真空，所以蒸镀空间中几乎不存在任何可能撞击经汽化的镀材分子的其它气体分子。因此，在真空的蒸镀空间中，镀材分子的行进方向为直线。当经汽化的镀材分子接触被镀物的表面时，便遇冷凝结并在被镀物的表面上形成薄膜。为了达到置放镀材并加热的目的，一般常使用可利用电阻方式加热的金属线、镀材舟或坩埚(适用低于1500°C的汽化温度)。其中因镀材舟具有价格低廉及易于操作的优点，所以受到最为广泛的使用。大多数的镀材舟利用例如钨、钼及钽等高熔点金属的长条形薄片所制成。图Ia为已知技术中的镀材舟10，图Ib为图Ia的AA方向的横剖面图。由图 Ib可知，镀材舟10具有朝上的开口，且具有用以存放镀材11的凹部。镀材舟10的长度方向上的两端连接至电源(未显示)，用以加热镀材舟10的凹部内的镀材11，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：施莹哲，
申请(专利权)人：巨擘科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：