以良好的制造效率提供显示质量高的液晶显示装置。本发明专利技术的液晶显示装置包含反射区域和透射区域，具备：ＴＦＴ基板，其具备形成在ＴＦＴ上的第１透明层和第２透明层以及形成在第１透明层或者第２透明层上的像素电极；相对基板；以及液晶层，形成在反射区域内的第１子像素电极形成在第２透明层的面上，形成在透射区域内的第２子像素电极形成在第１透明层的面上，第２透明层包括第１突起，所述第１突起以比第１子像素电极更向液晶层侧突出、包围第１子像素电极和第２子像素电极的方式形成。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及液晶显示装置及其制造方法，特别是涉及使用薄膜晶体管(Thin Film Transistor ；TFT)等开关元件的有源矩阵型的液晶显示装置及其制造方法。
技术介绍
近年来，要求液晶显示装置进一步的高性能化。对便携电话机、便携式电子设备等强烈要求低功耗化、更适于室外使用的性能，作为充分满足这些性能的方案，正在开发用具有光反射性的像素电极利用外光进行显示的不需要光源装置的反射型液晶显示装置。在反射型液晶显示装置的TFT基板上利用反射率高的金属薄膜形成有像素电极 (反射电极)。反射型液晶显示装置使从显示画面侧射入的自然光、电灯光在TFT基板上反射，将该反射光用作液晶显示用的光源。反射电极具有凹凸状的表面。反射电极的凹凸状的表面是通过在表面具有凹凸的感光性树脂膜上形成反射电极而得到的。使从显示画面侧射入的光在反射电极的凹凸状表面漫反射，由此实现高亮度和广视野角的反射型液晶显示直ο专利文献1和专利文献2记载了利用反射光进行显示的液晶显示装置的例子。在专利文献1的液晶显示装置中，着色层和多隙(multigap)部设于像素基板侧， 防止像素基板与相对基板的定位偏差造成开口率降低、成品率降低。另外，在该液晶显示装置中，作为着色层的上层的多隙部形成在开口部上，在开口部的四周的内侧设有接触孔。由此，在多隙部的形成时能同时形成接触孔，因此能谋求减少制造工序数。另外，在接触孔内不形成着色层与多隙部的台阶，因此减少透明电极的导通不良，也提高了利用反射光的显示的开口率。而且，在开口部内配置接触孔，因此能防止着色面积随着像素密度的上升而减少，能进行高精细并且彩度高的显示。专利文献2记载的液晶显示装置是反射透射型的液晶显示装置，具备按每个像素设置的透射区域和反射区域；设于一对基板之间的垂直取向型的液晶层；设于一对基板中的一方、具有开口部的层间绝缘膜；以及设于一对基板中的一方的透射区域的中心部的铆钉(rivet)。无施加电压时的液晶层的液晶分子的取向由铆钉和层间绝缘膜的倾斜面限制。因此，在由铆钉取向的液晶分子与由倾斜面取向的液晶分子之间，会产生取向方向不连续的不连续区域。专利文献2的液晶显示装置具备用于遮挡通过该不连续区域的光而不使其到达观测者的遮光部。在这种具备透射区域和反射区域的垂直取向型的液晶显示装置中，期望透射区域的单元间隙(液晶层的厚度)与反射区域的单元间隙之比为2 1。因此，一般仅在反射区域配置称为白色(White)的透明树脂层，如上述那样调整单元间隙的比。现有技术文献专利文献专利文献1 特开2006-30951号公报专利文献2 特开2005-331926号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题用图12 图16说明反射透射型液晶显示装置的一个例子。图12是示意性地表示反射透射型液晶显示装置100的1个像素的构成的平面图，图13的(a)和(b)是分别表示液晶 显示装置100的图12中的A-A'截面和B-B'截面的构成的截面图。图14 图16 是表示液晶显示装置100的制造方法的截面图。液晶显示装置100具有矩阵状配置的多个像素10 ；沿着像素10的边界在纵方向 (图12的上下方向)上延伸的多个信号线(漏极总线)12;以及在横方向(图12的左右方向)上延伸的多个扫描线(栅极总线)14。如图12所示，各像素10由相邻的2个信号线 12和2个扫描线14包围。各像素10的边界位于信号线12和扫描线14的中心线上。像素10具有2个透射区域16 (设上侧的透射区域为16a，下侧的透射区域为16b) 以及被2个透射区域16a和16b夹着的1个反射区域17。像素10的像素电极20包括透射区域16a的子像素电极20a、透射区域16b的子像素电极20b以及反射区域17的子像素电极20c。子像素电极20a与子像素电极20c、以及子像素电极20b与子像素电极20c由像素电极20的一部分相互连接。在像素10的左下部分的信号线12与扫描线14的交点附近配置有TFT18。TFT18 的栅极电极连接到扫描线14，漏极电极连接到信号线12，源极电极连接到子像素电极20b。 在像素10的反射区域17下，辅助电容线(Cs线)15在左右方向上延伸。另外，在辅助电容线15与子像素电极20c之间形成有反射层25。反射层25电连接到TFT18的源极电极，发挥中间电极的功能。反射层(中间电极)25下的辅助电容线15发挥辅助电容电极15c的功能，在反射层25与辅助电容电极15c之间形成像素10的辅助电容。图13的(a)是反射区域17的截面图，(b)是透射区域16a的截面图。如图13所示，液晶显示装置100具备TFT基板30、相对基板40和配置在TFT基板30与相对基板40 之间的液晶层50。液晶层50是包括具有负的介电常数各向异性的液晶分子的垂直取向型的液晶层。TFT基板30具备玻璃基板31、形成在玻璃基板31上的栅极绝缘层32、形成在栅极绝缘层32上的保护层33、形成在保护层33上的彩色滤光片(CF) 34和形成在彩色滤光片 34上的透明绝缘层(JAS)35。在反射区域17的透明绝缘层35上形成有透明树脂层36，在透明树脂层36上形成有子像素电极20c。在透射区域16a和16b中不形成透明树脂层36， 在透明绝缘层35上形成有子像素电极20a和20b。仅在反射区域17配置透明树脂层36， 由此将透射区域16的单元间隙与反射区域17的单元间隙之比设定为2 1。反射区域17的辅助电容电极15c形成在玻璃基板31与栅极绝缘层32之间，反射层25形成在栅极绝缘层32与保护层33之间。在反射层25中形成有用于使光扩散反射的凹凸。该凹凸是反映形成于下层的辅助电容电极15c的开口或者凹陷而形成的。在栅极绝缘层32与保护层33之间也形成有图12示出的TFT18。TFT18具有构成 TFT18的沟道的包括例如非晶硅(a-Si)的工作半导体层和作为Ii+-Si层的欧姆接触层。欧姆接触层连接到源极电极和漏极电极，源极电极通过使保护层33、彩色滤光片34和透明绝缘层35开口形成的接触孔电连接到上部的子像素电极20b。另外，源极电极也电连接到反射区域17的反射层25，反射层25通过使保护层33、彩色滤光片34、透明绝缘层35和透明树脂层36开口形成的接触孔电连接到上部的子像素电极20c。如图12和图13所示，在透射区域16a和16b以及反射区域17的四周，形成有分别围绕子像素电极20a、20b和20c地延伸的突起(肋)27。突起27具有使液晶分子向透射区域16a和16b以及反射区域17的内侧取向的功能。相对基板40具备玻璃基板41 ；形成在玻璃基板41的液晶层50侧的相对电极 42 ；以及形成在相对电极42的液晶层50侧的面上的3个位置的突起(肋)45(45a、45b和 45c)。突起45a、45b和45c分别形成在子像素电极20a、20b和20c的中心位置的上部。反射区域17的单元间隙(子像素电极20c与相对电极42之间的距离或者被两个电极夹着的液晶层50的厚度)例如为1.7μπι，透射区域16a和16b的单元间隙(子像素电极20a和20b与相对电极42之间的距离或者被两个电极夹着的液晶层50的厚度)例如为 3.4μπι。这样，透射区域16a和16b的单元间隙为反射区域本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种液晶显示装置，具备多个像素，所述像素包括：反射区域，其使从显示面侧射入的光反射来进行显示；以及透射区域，其使从与上述显示面相反的一侧射入的光透射来进行显示，所述液晶显示装置具备：ＴＦＴ基板，其具备按上述多个像素中的每一个配置的ＴＦＴ、形成在上述ＴＦＴ上的第１透明层和第２透明层以及形成在上述第１透明层或者上述第２透明层上的像素电极；相对基板，其具备与上述像素电极相对的相对电极；以及液晶层，其配置在上述ＴＦＴ基板和上述相对基板之间，上述像素电极包括形成在上述反射区域内的第１子像素电极和形成在上述透射区域内的第２子像素电极，上述第１子像素电极形成在上述第２透明层的上述液晶层侧的面上，上述第２子像素电极形成在上述第１透明层的上述液晶层侧的面上，上述第２透明层包括第１突起，所述第１突起以比上述第１子像素电极更向上述液晶层侧突出、包围上述第１子像素电极和上述第２子像素电极的方式形成。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：美崎克纪，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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