磁盘用玻璃基板及磁盘制造技术

本发明专利技术的课题在于提供一种在算术平均粗糙度（Ｒａ）为０．１ｎｍ附近的水平、表面存在的缺陷非常少、适合作为高记录密度磁盘用的基板的磁盘用基板及其制造方法。本发明专利技术的磁盘用玻璃基板的特征在于，使用原子力显微镜以２μｍ×２μｍ见方、２５６×２５６像素的分辨率测定的玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度（Ｒａ）为０．１２ｎｍ以下，使用一边向所述玻璃基板的主表面照射波长６３２ｎｍ的氦氖激光，一边扫描时的入射光和反射光之间的波长差检测出的、以俯视为０．１μｍ～０．６μｍ的大小，且０．５ｎｍ～２ｎｍ的深度检测出的缺陷每２４ｃｍ２不足１０个。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及安装于硬盘驱动装置的磁盘用玻璃基板及磁盘。
技术介绍
作为安装于硬盘驱动器(HDD装置)的磁记录介质，有磁盘。磁盘是在由铝-镁合金等构成的金属基板上被覆NiP膜，或在玻璃基板或陶瓷基板上层叠磁性层或保护层而制造。目前，作为磁盘用的基板广泛使用铝合金基板，但随着近年的磁盘的小型化、薄板化、高密度记录化，逐步使用与铝合金基板相比，表面平坦度及薄板的强度优异的玻璃基板。对于在磁盘用玻璃基板上至少形成磁性层而制成的磁盘，高记录密度化逐年进展，具备含颗粒粒子的磁性层的磁盘成为主流。在这种磁性层中，为了实现进一步的高记录密度化(例如，160GB以上/片，特别是250GB以上/片)，需要进一步缩小颗粒粒子的粒径， 提高颗粒粒子的晶体取向性。这样，为了缩小颗粒粒子的粒径，并提高颗粒粒子的晶体取向性，磁盘用玻璃基板的特性，特别是需要降低表面粗糙度，减少表面存在的缺陷。作为减小了表面粗糙度的磁盘用玻璃基板，例如有专利文献1中公开的玻璃基板。另外，近年来，为了谋求进一步的记录密度的高密度化，将邻接的磁道磁分离的分离磁道介质等图案化介质的开发正在进展。作为制造该图案化介质的方法例如有在玻璃基板上形成磁性层后，将该磁性层物理地分割而将磁道间分离的方法。而且，在分割磁性层时，使用纳米刻印技术，在磁性层上形成图案。这时，在玻璃基板上存在缺陷(特别是凸缺陷)的情况下，在存在该缺陷的磁性层上无法形成上述图案。具体地说，在形成磁性层时，会接着玻璃基板上的缺陷而在磁性层上也形成缺陷。在该状态下进行纳米刻印时，只在该缺陷的周围未形成压模的图形。另外，根据情况，压模也有可能破损。因此，在使用纳米刻印技术制造图案化介质的情况下，要求玻璃基板上缺陷极少。现有技术文献专利文献1 特开2006-95676号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题在表面粗糙度非常低的水平，例如在算术平均粗糙度(Ra)为0. Inm附近，降低表面粗糙度和减少表面存在的缺陷易成为综合调整关系。即，虽说是表面粗糙度降低，但表面存在的缺陷数不一定减少。这是因为在表面粗糙度为0. Inm附近水平的玻璃基板的情况下，目前以去除附着物等为目的进行的洗涤成为使玻璃基板表面变粗的原因。即，具有 0. Inm附近水平非常低的表面粗糙度的玻璃基板，为了维持表面粗糙度需要在用于去除表面存在的缺陷的洗涤中使用比较弱的化学溶液。另外，该趋势在磁盘用玻璃基板特别是在由铝硅酸盐玻璃那样的多成分系玻璃构成的情况中尤为显著。本专利技术是鉴于这样的情况而开发的，其目的在于，提供一种在算术平均粗糙度(Ra)为0. Inm附近的水平，表面存在的缺陷数非常少，适合作为高记录密度磁盘用的基板的磁盘用玻璃基板及磁盘。用于解决课题的手段本专利技术的一个方式提供一种磁盘用玻璃基板，其特征在于，使用原子力显微镜以2 μ mX 2 μ m见方、256X 256像素的分辨率测定的玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度 (Ra)为0. 12nm以下，在检测以5μπι点径照射波长405nm的光时的、来自所述玻璃基板的散射光时，在以0. 1 μ m以上0. 3 μ m以下的尺寸检测出的缺陷中，固定存在于所述玻璃基板上的缺陷的个数每Mcm2为1个以下。在本专利技术的磁盘用玻璃基板的一个方式中，优选玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)相对于最大峰高(Rp)的比(Ra/Rp)为0. 15以上。本专利技术另一方式的磁盘用玻璃基板，其特征在于，使用原子力显微镜以 2 μ mX2 μ m见方、256X256像素的分辨率测定的玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度 (Ra)为0. 12nm以下，使用一边向所述玻璃基板的主表面照射波长632nm的氦氖激光，一边扫描时的入射光和反射光之间的波长差检测出的、以俯视为0. 1 μ m以上0. 6 μ m以下的尺寸、且0. 5nm以上2nm以下深度检测出的缺陷的个数每Mcm2不足10个。在本专利技术另一方式的磁盘用玻璃基板中，优选玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)相对于最大谷深(Rv)的比(Ra/Rv)为0. 15以上。具有上述构成的本专利技术的磁盘用玻璃基板，在算术平均粗糙度(Ra)为0. Inm附近的水平，表面存在的特定的缺陷数非常少，所以适合作为160GB以上/片、特别是250GB以上/片的高记录密度磁盘用的基板。在本专利技术的磁盘用玻璃基板中，优选玻璃基板为中央具有孔部的圆盘形状，将从中心至最外周的距离设定为100%时，距中心80%以上90%以下的范围内的主表面的算术平均粗糙度(Ra。)和距中心10%以上20%以下的范围内的主表面的算术平均粗糙度(Ra1) 的差(Ra0-Ra1)为 0. Olnm 以下。在本专利技术的磁盘用玻璃基板中，玻璃基板具有主表面和端面，在主表面和端面上形成有压缩应力层，优选主表面的压缩应力层深度比端面的压缩应力层深度浅。本专利技术的磁盘的特征在于，在上述的磁盘用玻璃基板上至少形成有磁性层。在该情况下，优选上述磁盘为至少邻接的记录磁道被磁分离的图案化介质。作为本专利技术另一方式的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，具有使用含添加剂的抛光液对玻璃基板的主表面进行抛光的抛光工序、和使用含所述添加剂的洗涤液， 对经抛光的所述玻璃基板进行洗涤的洗涤工序。在本专利技术的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选所述添加剂包含羧酸、多元胺、氨基酸、氨基多元羧酸、膦酸类、次膦酸、磷酸、焦磷酸、三聚磷酸、氨基三亚甲基膦酸、或这些酸的盐的至少一种。在本专利技术的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选在所述抛光液中，在0. 01重量％ 以上、10. 0重量％以下的范围内含有所述添加剂，在所述洗涤液中，在0. 01重量％以上、 5. 0重量％以下的范围内含有所述添加剂。在本专利技术的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选在所述抛光液中，在0. 1重量％ 以上、5.0重量％以下的范围内含有所述添加剂，在所述洗涤液中，在0. 1重量％以上、3.0重量％以下的范围内含有所述添加剂。专利技术效果本专利技术的磁盘用玻璃基板，使用原子力显微镜以2 μ mX2 μ m见方、256X256像素的分辨率测定的玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)为0. 12nm以下，在检测以5μπι 点径照射波长405nm的光时的、来自所述玻璃基板的散射光时，在以0. 1 μ m以上0. 3 μ m以下尺寸检测出的缺陷中，固定存在于所述玻璃基板上的缺陷的个数每Mcm2为1个以下，所以在算术平均粗糙度(Ra)为0. Inm附近的水平，表面存在的缺陷数非常少。因此，适合作为用于制造磁性粒子的尺寸更小，例如具有160GB以上/片、特别是 250GB以上/片的记录密度的磁盘的基板。另外，本专利技术的磁盘用玻璃基板，使用原子力显微镜以2μπιΧ2μπι见方、 256X256像素的分辨率测定的玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)为0. 12nm以下， 使用向所述玻璃基板的主表面一边照射波长632nm的氦氖激光，一边扫描时的入射光和反射光之间的波长差检测出的、以俯视为0. 1 μ m以上0. 6 μ m以下尺寸、且0. 5nm以上2nm以下深度检测出的缺陷的个数每Mcm2不足10个，所以在算术平均粗糙度(Ra)为0. Inm附近的水平，表面存在的缺陷数非常少。因此，适合作为用于制造磁性粒子的尺寸更小本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种磁盘用玻璃基板，其特征在于，使用原子力显微镜以２μｍ×２μｍ见方、２５６×２５６像素的分辨率测定的玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度（Ｒａ）为０．１２ｎｍ以下，在检测以５μｍ点径照射波长４０５ｎｍ的光时的、来自所述玻璃基板的散射光时，在以０．１μｍ以上０．３μｍ以下的尺寸检测出的缺陷中，固定存在于所述玻璃基板上的缺陷的个数每２４ｃｍ２为１个以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：江田伸二，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP