基板用玻璃及玻璃基板制造技术

本发明专利技术提供适合于高记录密度化的不容易破裂的基板用玻璃。本发明专利技术的基板用玻璃，以下述氧化物基准的摩尔％表示，含有66～77％的SiO2、7～17％的Al2O3、0～7％的B2O3、0～9％的Li2O、0～8％的Na2O、0～3％的K2O、0～13％的MgO、0～6％的CaO、0～5％的TiO2、0～5％的ZrO2，SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和SiO2+Al2O3+B2O3为81～92％，Li2O、Na2O及K2O的含量之和Li2O+Na2O+K2O为3～9％，MgO及CaO的含量之和MgO+CaO为4～13％，Na2O、K2O及CaO的含量之和Na2O+K2O+CaO为0～10％，TiO2及ZrO2的含量之和TiO2+ZrO2为0～5％。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及磁盘(硬盘)等信息记录媒体、被用于信息记录媒体等的玻璃基板以及用于这些基板的玻璃。
技术介绍
近年来，随着硬盘驱动器的记录容量的增加，快速推进高记录密度化。但是，随着高记录密度化，存在磁性粒子的微细化损害热稳定性、串扰以及再生信号的SN比降低的问题。因此，作为光和磁的融合技术，热辅助磁记录技术备受瞩目。该技术是在通过对磁记录层照射激光或近场光而使得局部被加热的部分的矫顽磁力降低的状态下施加外部磁场并记录、通过GMR元件等读取记录磁化的技术，能够记录在高保持力的媒体，因此能够保持热稳定性的同时使磁性粒子微细化。但是，在将高保持力媒体制成多层膜而进行成膜的情况下，需要充分地加热基板，要求高耐热基板。·另外，提出了在垂直磁记录方式中也满足高记录密度化要求的与以往的磁记录层不同的磁记录层，但是这样的磁记录层的形成通常需要在基板为高温的情况下进行。因此，提出了作为能够满足如前所述的热辅助磁记录技术的基板的硅基板(参照专利文献I)。硅基板与玻璃基板相比通常存在强度方面的问题。因此，基板为高温的情况下形成磁记录层的磁盘的制造方法中也优选使用玻璃基板。作为信息记录媒体用基板、特别是磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板用玻璃，以下述氧化物基准的摩尔％表示，含有66～77％的SiO2、7～17％的Al2O3、0～7％的B2O3、0～9％的Li2O、0～8％的Na2O、0～3％的K2O、0～13％的MgO、0～6％的CaO、0～5％的TiO2、0～5％的ZrO2，SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和SiO2+Al2O3+B2O3为81～92％，Li2O、Na2O及K2O的含量之和Li2O+Na2O+K2O为3～9％，MgO及CaO的含量之和MgO+CaO为4～13％，Na2O、K2O及CaO含量之和Na2O+K2O+CaO为0～10％，TiO2及ZrO2的含量之和TiO2+ZrO2为0～5％。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：远藤淳，中岛哲也，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：