基板处理装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够缩短整个工序时间。本发明专利技术一实施方式的基板处理装置包括：基板支持单元，支持基板；喷墨嘴，向上述基板吐出第1处理液；涂敷嘴，向上述基板吐出与第1处理液不同的第2处理液；以及台架单元，使上述喷墨嘴和上述涂敷嘴沿第1方向直线移动，使得上述喷墨嘴和上述涂敷嘴的位置相对于上述基板支持单元变更。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基板处理装置，更详细地说，涉及执行液晶显示屏的工序处理的装置。
技术介绍
液晶显示屏的制造工序包括涂布工序，向玻璃基板表面上供给及涂布处理液；和涂敷(Coating)工序，在涂布了处理液的基板上形成涂层。作为执行涂布工序的装置，使用以喷墨印刷方式在基板表面上直接印刷处理液的装置。涂布工序和涂敷工序在工序中使用的装置互不相同，在每个独立的腔室中执行工序。因此，在涂布装置和涂敷装置之间要求有用于传送基板的传送装置。这种装置有下述问题不仅增加了整个设备面积，而且传送基板增加了整个工序时间。现有技术文献·专利文献专利文献I :韩国专利公开第10-2010-0060690号公报
技术实现思路
本专利技术的实施方式提供一种能够缩短整个工序时间的装置及方法。此外，本专利技术的实施方式提供一种能够减少设备整个面积的装置。此外，本专利技术的实施方式提供一种能够用I个装置涂布多种处理液的装置及方法。本专利技术一实施方式的基板处理装置包括基板支持单元，支持基板；喷墨嘴(喷墨喷嘴)，向上述基板吐出第I处理液；涂敷嘴(涂敷喷嘴)，向上述基板吐出与第I处理液不同的第2处理液；以及台架单元，使上述喷墨嘴和上述涂敷嘴沿第I方向直线移动，使得上述喷墨嘴和上述涂敷嘴的位置相对于上述基板支持单元变更。此外，上述台架单元可以包括 第I台架，支持上述喷墨嘴，横穿上述基板支持单元的上部而从上述基板支持单元的一侧向另一侧沿上述第I方向直线移动；和第2台架，支持上述涂敷嘴，横穿上述基板支持单元的上部而从上述基板支持单元的一侧向另一侧沿上述第I方向直线移动。此外，上述第I台架和上述第2台架可以沿一对导轨直线移动，该一对导轨在上述基板支持单元的两侧相互对置并沿上述第I方向配置。此外，上述涂敷嘴中，其长度可沿从上部看时与上述第I方向垂直的第2方向配置，在底面上可沿上述第2方向形成吐出上述第2处理液的狭缝孔。此外，可以在上述第I台架上安装有多个上述喷墨嘴；上述喷墨嘴沿从上部看时与上述第I方向垂直的第2方向排列；还包括喷墨嘴移动部，其使上述喷墨嘴沿上述第2方向直线移动，使得上述喷墨嘴相对于上述第I台架的相对位置变更。此外，多个上述喷墨嘴可沿上述第2方向排列成一列；至少提供2个以上的、上述喷墨嘴的列。此外，上述台架单元还可以包括台架驱动部，其使上述第I台架旋转，使得上述第I台架的长度方向按照相对于从上部看时与上述第I方向垂直的第2方向以规定角度倾斜的方式配置。此外，上述台架驱动部可以上述第I台架的一端为旋转中心而使上述第I台架的另一端旋转。此外，上述台架单元可以包括第2台架，其支持上述喷墨嘴和上述涂敷嘴，横穿上述基板支持单元的上部而从上述基板支持单元的一侧向另一侧沿上述第I方向直线移动。此外，上述涂敷嘴中，其长度可沿从上部看时与上述第I方向垂直的第2 方向配置，在底面上可沿上述第2方向形成吐出上述第2处理液的狭缝孔；上述喷墨嘴沿上述第I方向分别位于上述涂敷嘴的前方和后方，其沿上述第2方向排列有多个。本专利技术一实施方式的基板处理方法包括第I处理液吐出阶段，喷墨嘴在基板支持单元的上部沿第I方向直线移动，将第I处理液吐出到被上述基板支持单元支持的基板上；和第2处理液吐出阶段，涂敷嘴在上述基板支持单元的上部沿第I方向直线移动，将与上述第I处理液不同的第2处理液吐出到上述基板上；上述第I处理液吐出阶段和上述第2处理液吐出阶段依次、连续进行。此外，可以使上述喷墨嘴被支持在第I台架上进行移动，该第I台架能够沿上述第I方向直线移动；上述涂敷嘴被支持在第2台架上进行移动，该第2台架与上述第I台架并列配置，能够沿上述第I方向直线移动。此外，多个上述喷墨嘴可以沿从上部看时与上述第I方向垂直的第2方向排列成一列，相邻的上述喷墨嘴之间的间隔被固定；上述第I台架被旋转规定角度而沿上述第2方向来变更上述喷墨嘴之间的间隔。此外，上述喷墨嘴和上述涂敷嘴可以被支持在台架上进行移动，该台架能够沿上述第I方向直线移动；上述喷墨嘴可以沿上述第I方向位于上述涂敷嘴的前方和后方中的至少某一方。根据本专利技术的实施方式，在装置之间不需要传送基板，所以能缩短整个工序时间。此外，根据本专利技术的实施方式，能够用I个装置执行多个工序，所以能减少设备面积。附图说明图I是示出本专利技术一实施方式的基板处理装置的透视图。图2是示出图I的基板处理装置的俯视图。图3是示出图I的第I驱动部的图。图4是示出图I的第2驱动部的图。图5是示出第I台架旋转的形态的图。图6是示出喷墨嘴的位置随第I台架旋转而变化的图。图7是示出第I处理液吐出阶段的图。图8是示出第I处理液吐出阶段的图。图9是示出第I处理液吐出阶段的图。图10是示出第2处理液吐出阶段的图。图11是示出第2处理液被吐出到基板上的形态的图。图12是示出根据本专利技术另一实施方式的基板处理装置的透视图。图13是示出图12的基板处理装置的俯视图。图14是示出图12的台架和处理液供给部的主视图。图15是示出本根据专利技术另一实施方式的基板处理装置的透视图。图16是示出利用图15的装置吐出处理液的过程的图。 标号说明10…基板处理装置100…基板支持单元200…台架单元300…第I处理液供给单元400…第2处理液供给单元500…视觉检查单元600…喷嘴清洗单元具体实施例方式以下，参照附图，详细说明本专利技术优选实施方式的。在说明本专利技术时，在判断为对关联的公知结构或功能的具体说明可能会模糊本专利技术的要旨的情况下，省略其详细说明。图I是示出根据本专利技术一实施方式的基板处理装置的透视图，图2是示出图I的基板处理装置的俯视图。参照图I及图2，基板处理装置10向基板S上涂布处理液。基板处理装置10包括基板支持单元100、台架单元200、第I处理液供给单元300、第2处理液供给单元400、视觉检查单元500、及喷嘴清洗单元600。基板支持单元100支持基板S，台架单元200使第I处理液供给单元300的喷墨嘴310和第2处理液供给单元400的涂敷嘴410直线移动。第I处理液供给单元300向基板S供给第I处理液，第2处理液供给单元400供给第2处理液。视觉检查单元500检查喷墨嘴310和涂敷嘴410有无异常，喷嘴清洗单元600清洗喷墨嘴310和涂敷嘴410。以下，详细说明各结构。基板支持单元100被配置在底座B的上面。底座B可以以具有一定厚度的直六面体块提供。基板支持单元100包括支持部件110、旋转驱动部件(未图示)、及直线驱动部件 120。支持部件110支持基板S。支持部件110以矩形的板提供，在其上面放置基板S。支持部件110具有比基板S大的面积。旋转驱动部件(未图示)可位于支持部件110的下部。旋转驱动部件使支持部件110旋转。基板S可与支持部件110 —起被旋转。直线驱动部件120使支持部件110和旋转驱动部件沿轨道130直线移动。以下，将支持部件110进行直线移动的方向作为第I方向(X)，将从上部看时与第I方向(X)垂直的方向作为第2方向(Y)。将与第I及第2方向(X、Y)垂直的方向作为第3方向(Z)。轨道130沿第I方向(X)被配置在底座B的中心区域。台架单元200使喷墨嘴310和涂敷嘴410向第I方向(X)直线移动，使得喷墨嘴310和涂敷嘴410的位置相对于基板支持单元100变更。台架单元200包括第I台本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，包括：基板支持单元，支持基板；喷墨嘴，向上述基板吐出第1处理液；涂敷嘴，向上述基板吐出与第1处理液不同的第2处理液；以及台架单元，使上述喷墨嘴和上述涂敷嘴沿第1方向直线移动，使得上述喷墨嘴和上述涂敷嘴的位置相对于上述基板支持单元变更。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金哲佑，李晟熙，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：