【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
利用了等离子体的干式工艺已被有效地利用于电子设备的制造、金属部件的表面 硬化、塑料部件的表面活化、无药剂杀菌等广泛的
例如，在制造半导体装置、液晶 显示装置等电子设备时，进行灰化、干蚀刻、薄膜沉积或表面改性等各种等离子体处理。由 于利用了等离子体的干式工艺成本低、高速，不使用药剂，因此在可降低环境污染方面也是 有利的。而且，提出了用于进行上述等离子体处理的各种等离子体处理装置。在该等离子 体处理装置的处理容器内设置有用于放置被处理物(例如半导体晶片等)的载置台。而且， 在载置台上设置有用于进行被处理物的交接的升降销。而且，有时在载置台上设置用于加 热被处理物的加热器。在此，公知有如下技术，通过升降销从载置台的上面举起被处理物并对被处理物 进行处理。例如，在通过升降销从载置台的上面举起被处理物并进行等离子体处理时，在使 被处理物从交接位置进一步上升之后产生等离子体(参照专利文献1)。此时，当被处理物的上升量较多而被处理物和载置台之间相隔过远时，则存在如 下情况，导入到处理容器内的微波被被处理物吸收，等离子体的点火率降低。相...
【技术保护点】
１．一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：处理容器，可保持与大气相比进行了减压的环境；排气单元，对所述处理容器的内部进行减压；气体导入单元，向所述处理容器的内部导入工艺气体；微波导入单元，向所述处理容器的内部导入微波；及升降销，升降自如地插通在设置于所述处理容器内部的载置台上，在端面上支撑被处理物，在导入所述微波来进行等离子体点火时，通过所述升降销将所述被处理物支撑于所述载置台上面附近的第１位置，在所述等离子体点火后，通过所述升降销将所述被处理物支撑于与所述第１位置相比远离所述载置台的第２位置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：新田秀幸，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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