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等离子体处理装置、等离子体处理方法及电子设备的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:7143379
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本发明的等离子体处理装置的特征在于,具备:处理容器,可保持与大气相比进行了减压的环境;排气单元,将所述处理容器的内部减压至规定压力;气体导入单元,向所述处理容器的内部导入工艺气体;微波导入单元,向所述处理容器的内部导入微波;及升降销,升降自...
该专利属于芝浦机械电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过芝浦机械电子株式会社授权不得商用。
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