在玻璃基板上制备膜层的方法及其玻璃基板、膜系结构技术

技术编号:7122681 阅读:341 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术实施例公开了一种在玻璃基板上制备膜层的方法,包括在玻璃基板单面或双面采用磁控溅射法生成抗反射增透混合膜层,该抗反射增透混合膜层为低折射率膜层与高折射率膜层的层叠结构;采用磁控溅射法在所述抗反射增透混合膜层另一面生成氮化碳化合物膜层。本发明专利技术还公开了一种膜系结构及镀有膜层的玻璃基板,以及另一种在玻璃基板上制备膜层的方法及镀有膜层的玻璃基板。采用本发明专利技术,保证了保护屏的质量,抗刮伤、耐磨及超硬抗划伤能力强。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示领域,尤其涉及一种在玻璃基板上制备膜层的方法、膜系结构及镀有膜层的玻璃基板。
技术介绍
在目前的显示领域,各种显示器件层出不穷,如电视、电脑、户外显示屏、医疗仪器、摄像机、展示橱窗玻璃等。而采用保护屏对显示器件进行保护是一种常用手段,一般的保护屏在玻璃基板上采用抗反射增透(AR)膜层,但是这种保护屏耐磨及抗划伤能力弱,无法满足产品的质量要求。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题在于,提供一种在玻璃基板上制备膜层的方法、膜系结构及镀有膜层的玻璃基板,以保证保护屏的质量,耐磨及超硬抗划伤能力强。为了解决上述技术问题,本专利技术实施例提出了一种在玻璃基板上制备膜层的方法,包括在玻璃基板单面或双面采用磁控溅射法生成抗反射增透混合膜层,该抗反射增透混合膜层为低折射率膜层与高折射率膜层的层叠结构;采用磁控溅射法在所述抗反射增透混合膜层另一面生成氮化碳化合物膜层。相应地,本专利技术实施例还提供了一种在玻璃基板上制备膜层的方法,包括在玻璃基板单面或双面采用磁控溅射法生成氮化碳化合物膜层。相应地,本专利技术实施例还提供了一种膜系结构,包括抗反射增透混合膜层,以及生成于该抗本文档来自技高网...

【技术保护点】
1. 一种在玻璃基板上制备膜层的方法,其特征在于,包括:在玻璃基板单面或双面采用磁控溅射法生成抗反射增透混合膜层,该抗反射增透混合膜层为低折射率膜层与高折射率膜层的层叠结构;采用磁控溅射法在所述抗反射增透混合膜层另一面生成氮化碳化合物膜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐日宏詹达勇郭永飞罗高军
申请(专利权)人:深圳市三鑫精美特玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:94

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