低辐射复合膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种低辐射复合膜，包括银层和金属保护层，其特征在于，在金属保护层的外部还镀制有一层处于欠氧状态的氧化物保护层，其材料为NiCrOx。本实用新型专利技术通过在金属保护层NiCr层的外部再镀制一层处于欠氧状态的氧化物保护层，不仅可以很好地保护功能层Ag层，而且可以很大程度的提高低辐射复合膜的可见光透过率，使产品可以在保证低辐射率的情况下，得到最大限度地透光率，非常适合北方寒冷地区使用。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种低辐射复合膜，属于膜层结构

技术介绍
我们知道，传统的低辐射复合膜，在银层外部(一面或者两面)为一层金属保护层， 其材料为MCr，在实际的镀制过程中，为了更好地保护功能层Ag层，通常需要增加金属保护层MCr层的厚度，而此时，使得低辐射复合膜的透光率降低。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种不会影响复合膜的透光率，且能有效保护功能层Ag层的低辐射复合膜。本技术是通过以下技术方案来实现的一种低辐射复合膜，包括银层和金属保护层，其特征在于，在金属保护层的外部还镀制有一层处于欠氧状态的氧化物保护层。所述的氧化物保护层的材料为NiCrOx。本技术的有益效果是本技术通过在金属保护层MCr层的外部再镀制一层处于欠氧状态的氧化物保护层，不仅可以很好地保护功能层Ag层，而且可以很大程度的提高低辐射复合膜的可见光透过率，使产品可以在保证低辐射率的情况下，得到最大限度地透光率，非常适合北方寒冷地区使用。附图说明图1为本技术一实施例的结构示意图；图2为本技术另一实施例的结构示意图。图中主要附图标记含义为1、银层 2、金属保护层 3、氧化物保护层。具体实施方式下面将结合附图，详细说明本技术的具体实施方式图1为本技术一实施例的结构示意图。如图1所示低辐射复合膜，包括银层1和金属保护层2，其中，在银层1的一侧镀制有金属保护层2，而在金属保护层2的外部还镀制有一层处于欠氧状态的氧化物保护层 3，其材料为NiCrOx。图2为本技术另一实施例的结构示意图。低辐射复合膜，包括银层1和金属保护层2，其中，在银层1的两侧镀制有金属保护层2，而在金属保护层2的外部还镀制有一层处于欠氧状态的氧化物保护层3，其材料为 NiCrOx0上述的处于欠氧状态的氧化物保护层3的镀制方法为在应用真空磁控溅射镀膜方法镀制低辐射复合膜时，在其中的金属保护层MCr层中加入一定量的O2，加入A的具体方法是在纯Ar气氛中正常溅射的平面MCr的阴极中加入少量02，并观察阴极的电压情况，该电压会随着A的增加而升高，逐渐增加O2，直到该阴极电压不再升高为止，若加入O2 过量电压则会逐渐降低，这时需关掉O2，待电压稳定后，再次打开并适当减少A，直到电压升高到一定程度，且稳定下来，形成欠氧状态的氧化物保护层3，则可开始镀制低辐射复合膜的其他膜层。本技术通过在金属保护层2，即NiCr层的外面形成一层处于欠氧状态的氧化物保护层3，即NiCrOx，通常为NiCrO，从而保证能够更好地保护功能层Ag，并且大幅度地减少透光率的降低。本技术可以应用于目前各种低辐射复合膜系的架构中，如普通单银低辐射复合膜架构Sn02/NiCr/Ag/NiCr/ Sn02/Si3N4 ；TxO/ NiCr/Ag/NiCr/ Sn02/Si3N4 ；TxO/ ZnO/Ag/NiCr/ Sn02/Si3N4 ；普通双银低辐射复合膜架构Sn02/Zn0/Ag/NiCr/Sn02/ Zn0/Ag/NiCr/Sn02/ Si3N4 ；TxO/ ZnO/Ag/NiCr SnO2/ ZnO/Ag/NiCr/Sn02/Si3N4 ；可钢化单银低辐射复合膜架构Si3N4 /NiCr/Ag/NiCr/ Si3N4 ；在上述的低辐射复合膜系的架构中使用本技术均能起到很好地保护功能层 Ag层的作用，而且可以很大程度的提高低辐射复合膜层的可见光透过率，使产品可以在保证低辐射率的情况下，得到最大限度地透光率。以上已以较佳实施例公开了本技术，然其并非用以限制本技术，凡采用等同替换或者等效变换方式所获得的技术方案，均落在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种低辐射复合膜，包括银层和金属保护层，其特征在于，在金属保护层的外部还镀制有一层处于欠氧状态的氧化物保护层。2.根据权利要求1所述的低辐射复合膜，其特征在于，所述的氧化物保护层的材料为 NiCrOx。专利摘要本技术公开了一种低辐射复合膜，包括银层和金属保护层，其特征在于，在金属保护层的外部还镀制有一层处于欠氧状态的氧化物保护层，其材料为NiCrOx。本技术通过在金属保护层NiCr层的外部再镀制一层处于欠氧状态的氧化物保护层，不仅可以很好地保护功能层Ag层，而且可以很大程度的提高低辐射复合膜的可见光透过率，使产品可以在保证低辐射率的情况下，得到最大限度地透光率，非常适合北方寒冷地区使用。文档编号C03C17/36GK202016953SQ201020687189公开日2011年10月26日 申请日期2010年12月29日 优先权日2010年12月29日专利技术者林嘉宏 申请人:林嘉宏本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种低辐射复合膜，包括银层和金属保护层，其特征在于，在金属保护层的外部还镀制有一层处于欠氧状态的氧化物保护层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林嘉宏，
申请(专利权)人：林嘉宏，
类型：实用新型
国别省市：32