本实用新型专利技术涉及用于刻蚀电子产品上银浆的装置，高频率短脉冲激光器的输出端布置有光闸，光闸的输出端设置有扩束镜，扩束镜的输出端依次布置有1/2波片和格兰棱镜，格兰棱镜的输出端布置有45度全反射镜，45度全反射镜的输出端依次布置有振镜和扫描场镜，扫描场镜正对于四轴吸附平台，四轴吸附平台上安装有同轴吹吸气集尘系统，四轴吸附平台对角位置分别安装有CCD对位观察系统。采用高频率红外脉冲激光器作为激光源，通过对角线CCD抓靶加工材料的靶标位置，确定加工图形与平台上的样品位置一一对应，对不同触摸屏产品中不可视区域银浆或者铜薄膜或钼铝钼层进行蚀刻，使不可视区域的薄膜材料在高频率短脉冲红外激光器作用下气化而达到蚀除目的。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种红外短脉冲激光刻蚀电子产品上银浆、铜层或者钼铝钼层的直O
技术介绍
由于手机触摸屏、平板电脑等触控电子产品持续增长需求，对于玻璃基底或PET 基底的银浆蚀刻有较高刻蚀功能性要求。具体体现在蚀刻银浆厚度在200nm 30um范围内变化时，可以制造出稳定的较小线宽、功能完好的银浆线条。银浆系由高纯度的(99. 9% )金属银的微粒、粘合剂、溶剂、助剂所组成的一种机械混和物的粘稠状的浆料。导电银浆对其组成物质要求十分严格，其品质的高低、含量的多少，以及形状、大小对银浆性能都有着密切关系。传统的银浆线条功能的实现是应用丝网印刷方式，这种方法印刷银浆宽度最细只能达到80um，且良品率较低，线性不均勻，更换不同批次产品较为繁琐，需要用化学药水清洗，污染环境；绷网张力值较小，成品材料耐磨性、耐化学药品性较差，易老化发脆。这种印刷方式工序复杂、生产中需要较多耗材，产线需要较多人力维护，局限性较大，丝网印刷银浆引脚的线性不良成为导致显示器和触摸屏失效的重要因素。银浆的激光蚀刻可以避免这些问题的出现，而且激光具有非接触、无污染环境、易控制等特性，使其成为当代银浆线刻蚀宽控制的重要应用热点，并且逐渐会在工业中得到广泛的应用。经过试验研究，用红外激光器蚀刻银浆可以达到较稳定的线宽，使银浆的线宽最细可以达到20um，可以使未来触摸屏不可视区域更小，生产时可以方便的更换蚀刻图形， 无废弃物产生，可大量节省研发成本，缩短产品开发周期。高精度控制系统，特殊机构设计， 能进行高效率蚀刻，快速、平稳、重覆性高，能确保加工的稳定度与精密度，大幅提升良率。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种用于刻蚀电子产品上银浆的装置。本技术的目的通过以下技术方案来实现用于刻蚀电子产品上银浆的装置，特点是高频率短脉冲激光器的输出端布置有光闸，光间的输出端设置有扩束镜，扩束镜的输出端依次布置有1/2波片和格兰棱镜，格兰棱镜的输出端布置有45度全反射镜，45度全反射镜连接功率实时反馈探测探头，45度全反射镜的输出端依次布置有振镜和扫描场镜，扫描场镜正对于四轴吸附平台，所述四轴吸附平台上安装有同轴吹吸气集尘系统，所述四轴吸附平台的对角位置分别安装有CCD对位观察系统。进一步地，上述的用于刻蚀电子产品上银浆的装置，所述高频率短脉冲激光器是波长为IOOOnm llOOnm、脉宽在IOOps 50ns、频率在IOKHz 200KHz的激光器。本技术技术方案突出的实质性特点和显著的进步主要体现在采用高频率的红外脉冲激光器作为激光源，通过对角线CCD抓靶加工材料的靶标位置，确定加工图形与平台上的样品位置一一对应，对不同触摸屏产品中不可视区域银浆或者铜薄膜或者钼铝钼层进行激光蚀刻，使不可视区域的薄膜材料在高频率的短脉冲红外激光器的作用下气化而达到蚀除的目的。通过高速扫描振镜结合大幅面扫描场镜，一次性将样品扫描完毕，从而实现高精度、高效率的银浆刻蚀，以得到较细较稳定的线宽，且不损伤基底。产生的粉尘在经过特制的吹气系统和大流量积尘系统集尘，加工无污染，线性稳定。以下结合附图对本技术技术方案作进一步说明附图说明图1 本技术的光路系统示意图。图中各附图标记的含义见下表权利要求1.用于刻蚀电子产品上银浆的装置，其特征在于高频率短脉冲激光器(1)的输出端布置有光闸O)，光闸( 的输出端设置有扩束镜(3)，扩束镜C3)的输出端依次布置有1/2 波片(1 和格兰棱镜G)，格兰棱镜的输出端布置有45度全反射镜(5)，45度全反射镜(5)连接功率实时反馈探测探头(13)，45度全反射镜(5)的输出端依次布置有振镜(6) 和扫描场镜(11)，扫描场镜(11)正对于四轴吸附平台(10)，所述四轴吸附平台(10)上安装有同轴吹吸气集尘系统(7)，所述四轴吸附平台(10)的对角位置分别安装有CCD对位观察系统(9)。2.根据权利要求1所述的用于刻蚀电子产品上银浆的装置，其特征在于所述高频率短脉冲激光器(1)是波长为IOOOnm llOOnm、脉宽在IOOps 50ns、频率在IOKHz 200KHz的激光器。专利摘要本技术涉及用于刻蚀电子产品上银浆的装置，高频率短脉冲激光器的输出端布置有光闸，光闸的输出端设置有扩束镜，扩束镜的输出端依次布置有1/2波片和格兰棱镜，格兰棱镜的输出端布置有45度全反射镜，45度全反射镜的输出端依次布置有振镜和扫描场镜，扫描场镜正对于四轴吸附平台，四轴吸附平台上安装有同轴吹吸气集尘系统，四轴吸附平台对角位置分别安装有CCD对位观察系统。采用高频率红外脉冲激光器作为激光源，通过对角线CCD抓靶加工材料的靶标位置，确定加工图形与平台上的样品位置一一对应，对不同触摸屏产品中不可视区域银浆或者铜薄膜或钼铝钼层进行蚀刻，使不可视区域的薄膜材料在高频率短脉冲红外激光器作用下气化而达到蚀除目的。文档编号B23K26/36GK202123319SQ20112015836公开日2012年1月25日 申请日期2011年5月18日 优先权日2011年5月18日专利技术者张伟, 狄建科, 赵裕兴 申请人:江阴德力激光设备有限公司, 苏州德龙激光有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．用于刻蚀电子产品上银浆的装置，其特征在于：高频率短脉冲激光器（１）的输出端布置有光闸（２），光闸（２）的输出端设置有扩束镜（３），扩束镜（３）的输出端依次布置有１／２波片（１２）和格兰棱镜（４），格兰棱镜（４）的输出端布置有４５度全反射镜（５），４５度全反射镜（５）连接功率实时反馈探测探头（１３），４５度全反射镜（５）的输出端依次布置有振镜（６）和扫描场镜（１１），扫描场镜（１１）正对于四轴吸附平台（１０），所述四轴吸附平台（１０）上安装有同轴吹吸气集尘系统（７），所述四轴吸附平台（１０）的对角位置分别安装有ＣＣＤ对位观察系统（９）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵裕兴，狄建科，张伟，
申请(专利权)人：苏州德龙激光有限公司，江阴德力激光设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32
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