太阳能电池片的背场制造技术

技术编号:6876690 阅读:243 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供了一种太阳能电池片的背场,所述背场覆盖在太阳能电池片的背表面,并且所述背场的边沿距离所述太阳能电池片的边沿为0.4mm至0.6mm。本实用新型专利技术提供的太阳能电池片的背场,将背场范围拓宽至太阳能电池片边沿的0.4mm至0.6mm,背场面积增大可以有效降低背表面载流子的复合率,进而增强短路电流。对进入太阳能电池片内部的光线,增大的背场面积可以延长光线反射的光程,配合表面绒面结构可以形成光陷阱效果,进一步提高光的利用率。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光电
,特别涉及一种太阳能电池片的背场
技术介绍
随着全球能源的日趋紧张,太阳能以无污染、市场空间大等独有的优势受到世界各国的广泛重视。光伏发电具有安全可靠、无噪声、故障率低等优点,太阳能电池是光伏发电技术中将太阳能直接转换为电能的主要器件。常见的晶体硅太阳能电池是由背电极、背场、半导体材料构成的P型层、N型层、 P-N结、减反射薄膜、正面栅电极等部分构成。当太阳光照射到太阳能电池表面时,减反射薄膜和绒面结构可有效减少电池表面的光反射损失。太阳能电池中的半导体结构吸收太阳光能后,激发产生电子、空穴对,电子、空穴对被半导体内部P-N结自建电场分开,电子流入N 区,空穴流入P区,形成光生电场,如果将晶体硅太阳电池的正、负电极与外部电路连接,外部电路中就有光生电流流过。目前多数的晶硅太阳能电池采用P型硅片,经过磷扩散后形成P-N结,在P型硅上制作背电极和背场,在扩散形成的N面制作正面栅电极,整个器件利用P-N结的光生伏特效应来工作。采用丝网印刷制作的晶硅太阳能电池结构中,背场主要由铝浆烧结形成,起到表面钝化降低背表面复合速率,提供背发射增加光程,形成欧姆接触,降低接触本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种太阳能电池片的背场,所述背场覆盖在太阳能电池片的背表面,并且所述背场的边沿距离所述太阳能电池片的边沿为0.4mm至0.6mm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孙坚冯帅臣李勇陈清波张茂胜
申请(专利权)人:江苏伯乐达光伏有限公司
类型:实用新型
国别省市:32

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