处理液供给机构制造技术

本发明专利技术提供一种能够防止处理液残留在容器主体的处理液供给机构。该处理液供给机构包括：固定筒部，自盖部向容器主体的上方突出，在其周面上形成有螺纹；移动筒部，与该固定筒部同轴地螺合设置于该固定筒部的内侧或外侧；处理液供给管，相对于由固定筒部和移动筒部构成的筒部沿轴向移动自如地贯通该筒部和上述盖部的同时，轴向的位置相对于移动筒部被固定；旋转操作部，具有与移动筒部同轴设置的环状部。在上述移动筒部及上述环状部分别设置有卡合部及被卡合部，在旋转上述旋转操作部时，卡合部及被卡合部相互卡合而移动筒部旋转，当施加于移动筒部的转矩变大时，卡合被解除。由此使处理液供给管的下端抵接于容器主体的底部而被固定。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种处理液供给机构，该处理液供给机构使用于储存有抗蚀剂等处理液并利用加压用气体压送该处理液的容器主体。
技术介绍
在半导体器件的制造工序的光刻工序中，向基板例如半导体晶圆(以下称为晶圆)供给抗蚀剂等各种各样的处理液。如图15所示，在储存有抗蚀剂110的储液瓶101上，设置有能够相对于该储液瓶 101自由装卸的抗蚀剂供给机构102。抗蚀剂供给机构102具有堵在储液瓶101的开口部 103的瓶盖104，经由设置在瓶盖104上的加压气体供给管105，将加压气体例如氮气(N2) 供给至储液瓶101内。从而，抗蚀剂110流入到下端浸在液面下的处理液供给管106内，被向晶圆压送。抗蚀剂被消耗变少时，更换储液瓶101。瓶盖104的下部设置有固定处理液供给管106的高度位置的锁定机构107。锁定机构107是例如外周形成有螺纹的环构件，旋入瓶盖104，从而瓶盖104的内周与处理液供给管106之间的摩擦增大，处理液供给管106固定于瓶盖104。但是，有时抗蚀剂110较昂贵，最好在储液瓶101内的抗蚀剂110全部用光之后再更换储液瓶101，因此要求处理液供给管106的高度位置能够调整，使得处理液供给管106 的下端接触储液瓶101的底面。所以按以下的工序，将瓶盖104安装到储液瓶101。首先，在解除锁定机构107的锁定的状态下，将抗蚀剂供给机构102安装至储液瓶 101，调整处理液供给管106的高度位置，摸索处理液供给管106的下端接触储液瓶101底部的位置。接着，以使处理液供给管106和瓶盖104之间的相互位置不会偏离的方式将瓶盖104从储液瓶101取下，通过锁定机构107将处理液供给管106锁定于瓶盖104。锁定之后，再次将瓶盖104安装于储液瓶101。但是，从摸索到了处理液供给管106的高度位置后至锁定为止，是否能够准确地保持处理液供给管106和瓶盖104的位置关系，受到进行更换工作的操作人员的经验、技能的影响。并且，在储液瓶101所放置的清洁室(clean room)内的气氛中，为了防止抗蚀剂 110变质，储液瓶101由遮光性构件构成。因此，从储液瓶101的外侧无法目视确认处理液供给管106的下端在储液瓶101内的位置。从而，即使操作人员遵照上述操作顺序锁定了处理液供给管106，实际上也会有处理液供给管106的下端从储液瓶101的底面浮起，浮起部分的抗蚀剂就残留在储液瓶101内的情况。另外，虽然根据处理液的种类，储液瓶101也可以由明亮度较高的材料构成，但是由于处理液具有遮光性，所以也有无法从储液瓶101的外侧确认处理液供给管106的下端的位置的情况。在这种情况时，也会发生处理液供给管106的下端从储液瓶101的底面浮起的现象。在图15的抗蚀剂供给机构102中，锁定机构107从瓶盖104的下侧进行锁定，但有时也构成为从瓶盖104的上侧进行锁定。在该情况下可以保持着将瓶盖104安装在容器主体101的状态地进行锁定，但是处理液供给管106的位置会随着锁定机构107的拧入向下方侧偏离，处理液供给管106的下端有可能弯曲。因此，操作人员需要将处理液供给管106 向上提起后锁定，向上提起的量为由于拧入而向下方侧偏离的量。关于这个向上提起的量， 也会因操作人员的经验、技能而产生差异，有时造成处理液残留。 并且储液瓶101的形状多种多样，有时在每次更换储液瓶101时必须如上所述那样进行处理液供给管106的位置调整，花费时间和人力。在专利文献1中，针对上述处理液供给机构的一个例子进行了说明，但是关于上述问题并没有记载，并不能解决该问题。另外，在专利文献2中，针对操作盘盖的构成进行了说明，这种操作盘盖用于汽油罐，与本专利技术的相关性很低，并不能解决上述的问题。 专利文献1 日本特开2008-6325公报专利文献2 日本特开昭60-251047公报
技术实现思路
本专利技术是基于上述情况而做出的，其目的在于提供一种能够防止处理液残留在容器主体的处理液供给机构。本专利技术的处理液供给机构，该处理液供给机构用于利用加压用气体压送被储存于由容器主体和堵在此容器主体的上面开口部的盖部构成的容器内部的处理液，其特征在于，其包括固定筒部，其自上述盖部向容器主体的上方突出，在其周面上形成有螺纹；移动筒部，其与上述固定筒部同轴地螺合(螺纹连接)设置于该固定筒部的内侧或外侧；处理液供给管，其以相对于由上述固定筒部和移动筒部构成的筒部沿轴线方向移动自如地贯通该筒部和上述盖部的同时，相对于移动筒部而轴线方向的位置被固定；旋转操作部，其具有与上述移动筒部同轴设置的环状部；卡合部及被卡合部，它们分别设置在上述移动筒部及上述环状部，在旋转上述旋转操作部时，卡合部及被卡合部相互卡合而移动筒部旋转，当施加于移动筒部的转矩变大时卡合被解除，使旋转操作部旋转而使处理液供给管的下端抵接于容器主体的底部时，卡合部和被卡合部的卡合被解除，旋转操作部空转。替代容器具有遮光性，处理液具有遮光性的情况也包含在权利范围之内。并且作为本专利技术的具体形态可以例举以下内容。(a)固定筒部位于移动筒部的内侧。(b)上述环状部以包围移动筒部的方式设置于该移动筒部的外侧。(c)在上述处理液供给管上设置有与处理液流路相区分的上述加压用气体的供给路径。依据本专利技术，在移动筒部及环状部分分别设置卡合部和被卡合部，从而在使旋转操作部旋转时，处理液供给管的轴向位置被固定的移动筒部旋转，施加于移动筒部的转矩变大时，卡合被解除。因此，即使容器具有遮光性，也可以使处理液供给部的下端接触容器主体的底部，能够抑制该容器主体的液体残留。附图说明图1是本专利技术的实施方式的包含抗蚀剂供给机构的加压式抗蚀剂供给容器的立体图。图2是上述加压式抗蚀剂供给容器的纵剖侧视图。图3是构成上述加压式抗蚀剂供给容器的抗蚀剂供给机构的纵剖侧视图。图4是上述抗蚀剂供给机构的立体图。图5是上述抗蚀剂供给机构的分解图。图6是构成抗蚀剂供给机构的上部侧盖的横剖俯视图。图7是表示上述上部侧盖旋转情况的说明图。图8是能够适用加压式抗蚀剂供给容器的抗蚀剂涂覆装置的概略图。图9是表示将抗蚀剂供给机构安装至储液瓶的顺序的工序图。图10是表示将抗蚀剂供给机构安装至储液瓶的顺序的工序图。图11是其它的抗蚀剂供给机构的立体图。图12是其它的抗蚀剂供给机构的纵剖侧视图。图13是其它的抗蚀剂供给机构的横剖俯视14是其它的抗蚀剂供给机构的概略纵剖侧视图。图15是以往抗蚀剂供给机构的纵剖侧视图。具体实施例方式参照图1的立体图及图2的纵剖侧视图，说明作为本专利技术的实施方式的具有抗蚀剂供给机构1的加压式抗蚀剂供给容器2。加压式抗蚀剂供给容器2由抗蚀剂供给机构1 和作为容器主体的储液瓶21构成，抗蚀剂供给机构1相对于储液瓶21能够自由装卸地构成。抗蚀剂供给机构1具有作为处理液供给管的抗蚀剂供给管3和瓶盖5。储液瓶21 中储存有作为处理液的抗蚀剂20。抗蚀剂供给管3将上述抗蚀剂20从储液瓶21供给至外部的晶圆。瓶盖5具有调整高度位置以使抗蚀剂供给管3的下端接触储液瓶21的底部并且将抗蚀剂供给管3固定于该高度位置的作用。对储液瓶21进行说明。在储液瓶21的上侧设有开口部22。与开口部22相连的抗蚀剂的储存空间23的上侧朝着该开口部22变窄地构成。包围开口部22的储液瓶21的侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种处理液供给机构，该处理液供给机构用于供给储存于由容器主体和堵在该容器主体的上面开口部的盖部构成的容器的内部的处理液，其特征在于，其包括：固定筒部，其自上述盖部向容器主体的上方突出，在其周面上形成有螺纹；移动筒部，其与该固定筒部同轴地螺合设置于该固定筒部的内侧或外侧；处理液供给管，其相对于由上述固定筒部和移动筒部构成的筒部沿轴向移动自如地贯通该筒部和上述盖部的同时，轴向的位置相对于移动筒部被固定；旋转操作部，其具有与上述移动筒部同轴设置的环状部；卡合部及被卡合部，它们分别设置在上述移动筒部及上述环状部，在旋转上述旋转操作部时，该卡合部及该被卡合部相互卡合而移动筒部旋转，并且，当施加于移动筒部的转矩变大时，卡合被解除，使旋转操作部旋转而处理液供给管的下端抵接于容器主体的底部时，卡合部和被卡合部的卡合被解除，旋转操作部空转。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：中岛常长，白石俊介，竹尾俊英，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP