【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及正型放射线敏感性组合物、由该组合物形成的层间绝缘膜以及该层间绝缘膜的形成方法，该正型放射线敏感性组合物适合作为液晶显示元件(LCD)、有机EL显示元件(OLED)等显示元件用的层间绝缘膜形成材料。
技术介绍
在显示元件中一般基于使层状地配置的布线间绝缘的目的而设置层间绝缘膜。作为层间绝缘膜的形成材料，广泛使用正型放射线敏感性组合物，这是因为得到必要的图案形状的工序数少，而且具有足够平整性是优选的。形成这种层间绝缘膜时使用的正型放射线敏感性组合物要求良好的放射线灵敏度和保存稳定性，由此得到的层间绝缘膜要求优异的耐热性和透明性等。作为上述正型放射线敏感性组合物的成分广泛采用丙烯酸类树脂，例如在日本特开2004-4669号公报中提出了一种正型化学增幅抗蚀剂组合物，其特征在于具有交联剂、 酸产生剂及一种树脂，该树脂本身是不溶或难溶于碱水溶液，但是具有能够由于酸的作用裂解的保护基团，该保护基团裂解后能溶于碱水溶液。另外，在日本特开2004-264623号公报中提出了一种放射线敏感性组合物，其特征在于含有树脂和酸产生剂，该树脂含有缩醛和/或缩酮结构以及环氧基。...
【技术保护点】
１．一种正型放射线敏感性组合物，其包括：［Ａ］在一同或不同聚合物分子中具有包含下述式（１）所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物；［Ｂ］光酸产生剂；以及［Ｃ］从含受阻酚结构的化合物、含受阻胺结构的化合物、含亚磷酸烷基酯结构的化合物以及含硫醚结构的化合物构成的群组中选出的一种或两种以上化合物，式（１）中，Ｒ１和Ｒ２各自独立地是氢原子、烷基、环烷基或芳基，这些烷基、环烷基或芳基的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，其中，不包括Ｒ１和Ｒ２都是氢原子的情形，Ｒ３是烷基、环烷基、芳烷基、芳基或－Ｍ（Ｒ３ｍ）３所示的基团，Ｍ是Ｓｉ、Ｇｅ或Ｓｎ，Ｒ３ｍ是烷基，这些的氢原子的...
【技术特征摘要】
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