正性光敏树脂组合物制造技术

本发明专利技术提供了一种正性光敏树脂组合物，包括：(A)聚苯并噁唑前体；(B)光敏重氮醌化合物；(C)硅烷化合物；(D)聚酰胺酸酯化合物；以及(E)溶剂。该正性光敏树脂组合物可以减少膜收缩，具有高感光度、高分辨率、以及极好的残留物去除性能，并且可以实现良好的图案形状。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种正性光敏树脂组合物(正性感光树脂组合物)。更具体地，本专利技术涉及一种这样的正性光敏树脂组合物，其显著减小膜收缩，具有高感光度、高分辨率、以及极好的残留物去除性能，并且可以实现良好的图案形状。
技术介绍
用于半导体器件的常规的表面保护层和层间绝缘层包含具有极好的耐热性、电气特性、机械特性等的聚酰亚胺树脂。聚酰亚胺树脂近来已经作为光敏聚酰亚胺前体组合物的形式使用，并且它能够通过在半导体器件上涂布聚酰亚胺前体组合物，通过紫外(UV)线来图案化，显影，以及热酰亚胺化所述组合物被涂布并且形成用于表面保护层、层间绝缘层等的基于聚酰亚胺的树脂膜。因此，与常规非光敏聚酰亚胺前体组合物相比，可以显著缩短用于表面保护层、层间绝缘层等的处理。光敏聚酰亚胺前体组合物可以被用作其中通过显影溶解而曝光(暴露)的部分的正型以及其中固化并维持曝光的部分的负型。优选使用正型，这是因为它可以通过非毒性碱性水溶液来显影。正性光敏聚酰亚胺前体组合物包括聚酰胺酸的聚酰亚胺前体、重氮基萘醌(diazonaphtoquinone)的光敏材料等。然而，正性光敏聚酰亚胺前体组合物具有不能获得期望的图案的问题，这本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种正性光敏树脂组合物，包括：（Ａ）聚苯并噁唑前体，包括由以下化学式１表示的重复单元；（Ｂ）光敏重氮醌化合物；（Ｃ）硅烷化合物；（Ｄ）聚酰胺酸酯化合物；以及（Ｅ）溶剂，［化学式１］其中，在以上化学式１中：Ｘ１是芳香族有机基团，四价至六价脂肪族有机基团，包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的四价至六价脂肪族有机基团；Ｘ２是芳香族有机基团，二价至六价脂肪族有机基团，包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的二价至六价脂肪族有...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2008.09.29 KR 10-2008-00955691.一种正性光敏树脂组合物，包括(A)聚苯并噁唑前体，包括由以下化学式1表示的重复单元；(B)光敏重氮醌化合物；(C)硅烷化合物；(D)聚酰胺酸酯化合物；以及(E)溶剂， [化学式1]OH—rNH—Xi ~~NHOCi~~Yi “-CO ““--NH”-Xi -NHOC-Yti~~00~4~i I-W Itil特in !EOH其中，在以上化学式1中X1是芳香族有机基团，四价至六价脂肪族有机基团，包括选自由N、0、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由N、O、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的四价至六价脂肪族有机基团；X2是芳香族有机基团，二价至六价脂肪族有机基团，包括选自由N、0、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由N、O、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的二价至六价脂肪族有机基团，或由以下化学式2表示的基团；Y1和Y2是相同或不同的，并且独立地是芳香族有机基团，二价至六价脂肪族有机基团， 包括选自由N、O、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由N、O、 P、S、以及Si组成的组中的杂原子的二价至六价脂肪族有机基团； Iii1和m2分别是摩尔比，其中H^m2是IOOmol % ； Hi1在60mol%至IOOmol %的范围内；以及 1112在0至40mol%的范围内， [化学式2]η—0+!+…*L I Jk Ri其中，在以上化学式2中R1和R2是相同或不同的，并且...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵显龙，郑斗瑛，俞龙植，郑知英，李种和，郑闵鞠，李吉成，车明焕，
申请(专利权)人：第一毛织株式会社，
类型：发明
国别省市：KR