正性光敏树脂组合物制造技术

本发明专利技术提供了一种正性光敏树脂组合物，包括：(A)聚苯并噁唑前体；(B)光敏重氮醌化合物；(C)硅烷化合物；(D)聚酰胺酸酯化合物；以及(E)溶剂。该正性光敏树脂组合物可以减少膜收缩，具有高感光度、高分辨率、以及极好的残留物去除性能，并且可以实现良好的图案形状。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种正性光敏树脂组合物(正性感光树脂组合物)。更具体地，本专利技术涉及一种这样的正性光敏树脂组合物，其显著减小膜收缩，具有高感光度、高分辨率、以及极好的残留物去除性能，并且可以实现良好的图案形状。
技术介绍
用于半导体器件的常规的表面保护层和层间绝缘层包含具有极好的耐热性、电气特性、机械特性等的聚酰亚胺树脂。聚酰亚胺树脂近来已经作为光敏聚酰亚胺前体组合物的形式使用，并且它能够通过在半导体器件上涂布聚酰亚胺前体组合物，通过紫外(UV)线来图案化，显影，以及热酰亚胺化所述组合物被涂布并且形成用于表面保护层、层间绝缘层等的基于聚酰亚胺的树脂膜。因此，与常规非光敏聚酰亚胺前体组合物相比，可以显著缩短用于表面保护层、层间绝缘层等的处理。光敏聚酰亚胺前体组合物可以被用作其中通过显影溶解而曝光(暴露)的部分的正型以及其中固化并维持曝光的部分的负型。优选使用正型，这是因为它可以通过非毒性碱性水溶液来显影。正性光敏聚酰亚胺前体组合物包括聚酰胺酸的聚酰亚胺前体、重氮基萘醌(diazonaphtoquinone)的光敏材料等。然而，正性光敏聚酰亚胺前体组合物具有不能获得期望的图案的问题，这是因为所使用的聚酰胺酸的碳酸(含碳酸)对于碱过于高度可溶。为了解决该问题，已经建议(参见日本专利公开号H10-30739) —种通过用具有至少一个羟基基团的醇化合物酯化聚酰胺酸而向其中引入酚式羟基酸来代替碳酸(含碳酸) 的材料，但这种材料开发不充分，导致层减少或树脂从衬底(基板)分层的问题。最近，混合其聚苯并噁唑前体与重氮基萘醌(diazonaphtoquinone)化合物的材料已经引起关注(日本专利公开号S63-96162)，但当实际使用聚苯并噁唑前体组合物时， 未曝光部分的层减少会显著增加，使得在显影工艺以后很难获得期望的图案。为了对此进行改善，如果增加聚苯并噁唑前体的分子量，则会减小未曝光部分的层减少量，但会产生显影残留物(浮渣)，使得它劣化分辨率并延长在曝光部分上的显影持续时间。为了解决该问题，已报道通过向聚苯并噁唑前体组合物中加入一定的酚类化合物可以抑制层减少(日本专利公开号H9-302221和日本专利公开号2000-292913)。然而，抑制未曝光部分的减少量的效果是不够的，所以需要进行研究以增加对抑制层减少的效果，以及防止产生显影残留物(浮渣)。此外，在热固化期间在高温下用来调节溶解度的酚会分解或引起副反应，或当在高温下蒸发时它会在层中形成微孔。由于这些问题，酚最终会损害最终获得的固化膜的力学性能。因此，需要开发可以解决所述问题的溶解控制剂 (dissolution control1ingagent)0
技术实现思路
技术问题4本专利技术的一种实施方式提供了一种正性光敏树脂组合物，该组合物可以具有高感光度、高分辨率、极好的图案形成性能、以及极好的残留物去除性能，仅用微量的聚苯并噁唑前体，该组合物就可以保持最佳的固体含量和粘度，并且该组合物可以实现低的膜收缩和极好的膜特性。技术方案本专利技术的另一种实施方式提供了一种半导体器件，该器件包括通过使用正性光敏树脂组合物而制备的光敏树脂膜。本专利技术的实施方式并不限于上述技术目的，并且本领域普通技术人员可以理解其它技术目的。根据本专利技术的一种实施方式，提供了一种正性光敏树脂组合物，该组合物包括(A) 聚苯并噁唑前体，其包括由以下化学式1表示的重复单元，(B)光敏重氮醌化合物，(C)硅烷化合物，(D)聚酰胺酸酯化合物，以及(E)溶剂。[化学式1]本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种正性光敏树脂组合物，包括：（Ａ）聚苯并噁唑前体，包括由以下化学式１表示的重复单元；（Ｂ）光敏重氮醌化合物；（Ｃ）硅烷化合物；（Ｄ）聚酰胺酸酯化合物；以及（Ｅ）溶剂，［化学式１］其中，在以上化学式１中：Ｘ１是芳香族有机基团，四价至六价脂肪族有机基团，包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的四价至六价脂肪族有机基团；Ｘ２是芳香族有机基团，二价至六价脂肪族有机基团，包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的二价至六价脂肪族有机基团，或由以下化学式２表示的基团；Ｙ１和Ｙ２是相同或不同的，并且独立地是芳香族有机基团，二价至六价脂肪族有机基团，包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、以及Ｓｉ组成的组中的杂原子的二价至六价脂肪族有机基团；ｍ１和ｍ２分别是摩尔比，其中ｍ１＋ｍ２是１００ｍｏｌ％；ｍ１在６０ｍｏｌ％至１００ｍｏｌ％的范围内；以及ｍ２在０至４０ｍｏｌ％的范围内，［化学式２］其中，在以上化学式２中：Ｒ１和Ｒ２是相同或不同的，并且独立地是取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烷氧基、或羟基；Ｒ３和Ｒ４是相同或不同的，并且独立地是取代或未取代的亚烷基、或取代或未取代的亚芳基；以及ｋ是１至５０的整数。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2008.09.29 KR 10-2008-00955691.一种正性光敏树脂组合物，包括(A)聚苯并噁唑前体，包括由以下化学式1表示的重复单元；(B)光敏重氮醌化合物；(C)硅烷化合物；(D)聚酰胺酸酯化合物；以及(E)溶剂， [化学式1]OH—rNH—Xi ~~NHOCi~~Yi “-CO ““--NH”-Xi -NHOC-Yti~~00~4~i I-W Itil特in !EOH其中，在以上化学式1中X1是芳香族有机基团，四价至六价脂肪族有机基团，包括选自由N、0、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由N、O、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的四价至六价脂肪族有机基团；X2是芳香族有机基团，二价至六价脂肪族有机基团，包括选自由N、0、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由N、O、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的二价至六价脂肪族有机基团，或由以下化学式2表示的基团；Y1和Y2是相同或不同的，并且独立地是芳香族有机基团，二价至六价脂肪族有机基团， 包括选自由N、O、P、S、以及Si组成的组中的杂原子的脂环族有机基团，或包括选自由N、O、 P、S、以及Si组成的组中的杂原子的二价至六价脂肪族有机基团； Iii1和m2分别是摩尔比，其中H^m2是IOOmol % ； Hi1在60mol%至IOOmol %的范围内；以及 1112在0至40mol%的范围内， [化学式2]η—0+!+…*L I Jk Ri其中，在以上化学式2中R1和R2是相同或不同的，并且...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵显龙，郑斗瑛，俞龙植，郑知英，李种和，郑闵鞠，李吉成，车明焕，
申请(专利权)人：第一毛织株式会社，
类型：发明
国别省市：KR