干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种干膜光致抗蚀剂所包含的光敏树脂组合物，更详细地，涉及一种维持优异的细线密着性和分辨率的同时，对蚀刻液的耐酸性也优异，并且不仅在PCB的制备，以ITO作为传感器以及电极使用的触控面板等的制备中也能够提高质量及生产率的干膜光致抗蚀剂中所包含的光敏树脂组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物。
技术介绍
光敏树脂组合物以干膜光致抗蚀剂(Dry Film Photoresist，DFR)或液态光致抗蚀剂油墨(Liquid Photoresist Ink)等形态来主要使用于印刷电路板(PrintedCircuit Board，PCB)及导线架(Lead Frame)等中。这种光敏树脂组合物，在基板上以一定的厚度进行涂布后，为了形成所希望的电路而选择性地照射紫外线后，利用碱显影液来进行形成所希望的电路的显影工艺，在显影后，根据工艺而进行对基板进行蚀刻或利用金属对基板部位进行电镀的工艺。最近，随着对触控面板的需求增加，使用容易进行图案化的平板印刷方法来对用于电极和传感器的ITO等进行处理，但现有的正型光敏材料均为液状，因此在进行涂布的过程中损失严重。为了克服这一缺点，最近对干膜光致抗蚀剂的关心及需求呈增加的趋势。现有的光敏树脂组合物通常由溶于碱水溶液的粘合剂聚合物、交联性单体、颜料、光聚合引发剂及溶剂组成。根据需要可以含有用于增强与基板粘合力的粘合力增强剂、用于保存稳定性的稳定剂、用于增强与颜料的分散性的分散剂等添加剂。这种现有的光敏树脂组合物使用溶于碱水溶液的纯丙烯酸树脂来作为粘合剂聚合物，因此对组成蚀刻液的盐酸、硝酸等成分的耐酸性弱，因此存在工艺收率不佳等问题。另一方面，虽然公开有使用酚醛清漆型环氧树脂与丙烯酸进行反应而形成的环氧乙烯酯树脂的光敏树脂组合物(韩国公开专利第2008-0014147号)，但仍然存在分辨率降低的问题。
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题本专利技术的主要目的在于提供一种维持优异的细线密着性和分辨率的同时，对蚀刻液具有优异的耐酸性的干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物。解决技术问题的方式为了实现上述目的，本专利技术的一个实施方式提供一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，其特征为，所述干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物含有碱显影性粘合剂聚合物(A)、光聚合引发剂(B)及光聚合性化合物(C)，所述碱显影性粘合剂聚合物(A)含有环氧改性丙烯酸树脂。本专利技术的一个优选实施方式，其特征为，所述环氧改性丙烯酸树脂的酸值为100至250mg KOH/g，重均分子量为35,000至100,000g/mol。本专利技术的一个优选实施方式，其特征为，所述环氧改性丙烯酸树脂为，使丙烯酸单体进行聚合而生成丙烯酸聚合物后，对所生成的丙烯酸聚合物与环氧树脂在催化剂存在下进行开环聚合而获得的生成物。本专利技术的一个优选实施方式，其特征为，所述环氧树脂的环氧当量为180g/eq至1500g/eq。本专利技术的一个优选实施方式，其特征为，所述环氧树脂选自双酚型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、线型脂肪族环氧树脂、脂环式环氧树脂及联苯型环氧树脂中的一种以上。本专利技术的一个优选实施方式，其特征为，所述光敏树脂组合物含有20至80重量％的碱显影性粘合剂聚合物(A)、2至10重量％的光聚合引发剂(B)及10至70重量％的光聚合性化合物(C)。专利技术的效果根据本专利技术的干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，在维持优异的细线密着性和分辨率的同时，对蚀刻液的耐酸性也优异，不仅在PCB的制备，以ITO作为传感器、以及电极使用的触控面板等的制备中也能够提高质量及生产率。具体实施方式本说明书中所使用的全部技术及科学术语在未以其他方式进行定义的情况下，具有与本领域技术人员通常所能理解的意思相同的意思。本说明书中
使用的命名法一般为本领域所熟知的通常使用的命名方法。在本专利技术说明书整体中，当使用某一部分“包含”某种成分的表述时，在没有特别指明与其相反的记载的情况下，并不表示排除其他成分，而是表示可以进一步包含其他成分。本说明书中使用的表示程度的术语，例如“约”、“实际上”等术语表示在其所涉及的意思上，在固有的制备及物质允许误差被公开时，用作与该数值相同或接近该数值的意思，是为了防止不怀好意的侵权人不当地利用用于理解本专利技术而涉及正确或绝对的数值的公开内容的。本专利技术涉及一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，其特征为，该干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物含有碱显影性粘合剂聚合物(A)、光聚合引发剂(B)及光聚合性化合物(C)，所述碱显影性粘合剂聚合物(A)含有环氧改性丙烯酸树脂。根据本专利技术的干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，由于碱显影性粘合剂聚合物(A)中含有环氧改性丙烯酸树脂，因此在维持优异的干膜光致抗蚀剂的细线密着性和分辨率的同时，不仅对蚀刻液具有优异的耐酸性，而且在需要对其他酸具有耐酸性的所有的平板印刷工艺中均能使用。下面，对本专利技术进行进一步详细地说明。碱显影性粘合剂聚合物(A)光敏树脂组合物中，由于碱显影性粘合剂聚合物根据它们的成分、结构、玻璃转化温度、分子量、酸值等来决定光致抗蚀剂的物理性质，因此对光致抗蚀剂的物理性质产生很大影响。尤其是，通常的负型光致抗蚀剂中所使用的碱显影性粘合剂聚合物中一般主要使用纯丙烯酸树脂，而这种丙烯酸类粘合剂聚合物对组成蚀刻液的盐酸、硝酸等成分的耐酸性弱，因此在蚀刻工艺中引起许多问题。为此，作为改善光致抗蚀剂耐酸性的方法，本专利技术确认了在聚合物中，将耐化学性优异的环氧基改性至丙烯酸的情况下，对蚀刻液具有优异的耐酸性，并且电路密着性也优异，容易调节涂布流动性，进而完成了本专利技术。根据本专利技术的环氧改性丙烯酸树脂为：在丙烯酸单体进行聚合而生成丙烯酸聚合物后，所生成的丙烯酸聚合物与环氧树脂在催化剂存在下进行开环聚合，进而使环氧树脂接枝(grafting)到丙烯酸聚合物上而获得的生成物。此时，
所述丙烯酸单体的聚合可以在40至120℃下进行1至10小时，所述开环聚合可以在60至100℃下进行1至8小时，但并不限定于此。只要是能够将丙烯酸树脂改性为环氧基的所属领域公知的方法及条件，均可以使用。即，本专利技术的环氧改性丙烯酸树脂中，“环氧改性”是指在丙烯酸聚合物上接枝(grafting)环氧树脂的意思，与将丙烯酸单体及环氧树脂单纯地进行合成(synthesis)反应不同。此外，所述丙烯酸单体及环氧树脂的含量比为70～95:5～30的重量比，在超出上述含量比的情况下，将不表现出环氧树脂的特性，或者是因过量的环氧树脂而使光致抗蚀剂层过软，进而会发生不能够进行涂布或分层的问题。此外，所述开环聚合中所使用的催化剂，只要是能够用于环氧开环反应的催化剂，可以没有限制地使用。具体可列举辛酸锌、辛酸锡、辛酸钴等。其添加量以反应物总重量计可以为0.01至5重量％。所述丙烯酸单体可列举如苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、2-乙基己基丙烯酸酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸月桂酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯酸羟乙酯、2-丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯、丙烯酸羟丁酯等。也可以将它们分别使用或混合使用。此外，作为环氧树脂，可以列举如双酚型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、线型脂肪族环氧树脂、脂环式环氧树脂及联苯型环氧树脂等。从操作性及耐化学性方面来看，优选其中的双酚型环氧树脂。所述双酚型环氧树本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，其特征为，该干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物含有：碱显影性粘合剂聚合物(A)、光聚合引发剂(B)及光聚合性化合物(C)，所述碱显影性粘合剂聚合物(A)含有环氧改性丙烯酸树脂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.12.24 KR 10-2013-0162183;2014.12.19 KR 10-2011.一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，其特征为，该干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物含有：碱显影性粘合剂聚合物(A)、光聚合引发剂(B)及光聚合性化合物(C)，所述碱显影性粘合剂聚合物(A)含有环氧改性丙烯酸树脂。2.根据权利要求1所述的干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，其特征为，所述环氧改性丙烯酸树脂的酸值为100至250mg KOH/g，重均分子量为35,000至100,000g/mol。3.根据权利要求1所述的干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，其特征为，所述环氧改性丙烯酸树脂...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔钟昱，
申请(专利权)人：可隆工业株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR