【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及使用内部气相沉积工艺制造光纤用初级预制品的方法，所述方法包括以下步骤i)设置具有供给侧和排出侧的中空玻璃基管，ii)由加热炉包围至少部分的中空玻璃基管，iii)将掺杂或未掺杂的玻璃形成气体经由中空玻璃基管的供给侧供给至中空玻璃基管的内部，iv)创建反应区，在所述反应区中创建条件以使玻璃沉积发生在中空玻璃基管的内部，和ν)使反应区在位于中空玻璃基管的供给侧附近的换向点和位于中空玻璃基管的排出侧附近的换向点(reversal point)之间沿着中空玻璃基管的长度往复移动，其中在至少部分步骤ν)期间，当反应区沿排出侧的方向移动时气体流包含第一浓度的含氟化合物。本专利技术进一步涉及光纤用最终预制品的制造方法。本专利技术进一步涉及光纤的制造方法。
技术介绍
此类方法本身是从美国专利申请US2005/0000253已知的。更具体地，所述专利申请公开了根据PCVD技术的内部气相沉积工艺，其中玻璃基管部分或全部由沿着其圆筒体轴(cylindrical axis)的共振腔包围，和其中将包含02、SiCl4、GeCl4的气体混合物供给至基管。在所述共振腔中产生局部等...
【技术保护点】
１．一种光纤用初级预制品的制造方法，其使用内部气相沉积工艺，所述方法包括以下步骤：ｉ）设置具有供给侧和排出侧的中空玻璃基管，ｉｉ）由加热炉包围至少部分的所述中空玻璃基管，ｉｉｉ）将掺杂或未掺杂的玻璃形成气体经由所述中空玻璃基管的供给侧供给至所述中空玻璃基管的内部，ｉｖ）创建反应区，在所述反应区中创建条件以使玻璃沉积发生在所述中空玻璃基管的内部，和ｖ）使所述反应区在位于所述中空玻璃基管的供给侧附近的换向点和位于所述中空玻璃基管的排出侧附近的换向点之间沿着所述中空玻璃基管的长度往复移动，其中，在至少部分步骤ｖ）期间，当所述反应区沿所述排出侧的方向移动时，气体流包含第一浓度的含氟...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：I·米莉瑟维克，M·J·N·范·斯特劳伦，J·A·哈特苏克，E·阿尔迪，
申请(专利权)人：德拉克通信科技公司，
类型：发明
国别省市：NL
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