纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜及其制备方法，纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜具有三层结构，其结构为ABA型，A层材料包括有占A层材料总质量百分比为68%-88%的超有光聚酯切片、10%-30%的纳米二氧化硅复合母切片和1%-2%的纳米荧光隐形防伪聚酯功能母粒，B层材料为超有光聚酯切片，制备时，先制备纳米二氧化硅复合母切片和纳米荧光隐形防伪聚酯功能母粒，最后，由纳米二氧化硅复合母切片、超有光聚酯切片、纳米荧光隐形防伪聚酯功能母粒制备纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜，制备的纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜拉伸强度强、表面粗糙度低、光学效果好、又具备隐形防伪功能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种聚酯薄膜及其制备方法，特别涉及一种。
技术介绍
现有的双向拉伸聚酯薄膜由于其优良的物理性能、阻隔性能被广泛应用软包装、 电子、护卡、绝缘等领域。随着包装行业的迅速发展以及人们法制观念、自我保护意识地不断增强，对包装材料要求越来越高，普通薄膜材料已不能满足日益增长的特种防伪领域的需要。因此，通过适当的方法赋予双向拉伸聚酯薄膜具有拉伸强度高、表面粗糙度低、光学效果好、又具备隐形防伪效果的功能，对提高人们生产和生活水平具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术的目的为了克服现有技术的缺陷，提供了一种拉伸强度强、表面粗糙度低、透光效果好、又具备隐形防伪功能的纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜。本专利技术的另一目的提供了该纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜的制备方法。本专利技术的技术方案一种纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜，所述的纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜具有三层结构，其结构为ABA型，A层材料包括有占所述A层材料总质量百分比为68%-88%的超有光聚酯切片、10%-30%的纳米二氧化硅复合母切片和1%- 的纳米荧光隐形防伪聚酯功能母粒，B层材料为超有光聚酯切片，超有光聚酯切片为一种现有材料，本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜，其特征在于：所述的纳米高透荧光隐形防伪聚酯薄膜具有三层结构，其结构为ＡＢＡ型，Ａ层材料包括有占所述Ａ层材料总质量百分比为６８％－８８％的超有光聚酯切片、１０％－３０％的纳米二氧化硅复合母切片和１％－２％的纳米荧光隐形防伪聚酯功能母粒，Ｂ层材料为超有光聚酯切片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：易志龙，彭齐飞，
申请(专利权)人：浙江强盟实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：33