用于检验微珠的单元和分析微珠的方法技术

本文公开了用于检验微珠的单元和分析微珠的方法，该单元用于检验均形成为具有彼此相对并且基本上平行的上表面和下表面以及与上表面和下表面相连续的侧面的圆柱形状的微珠，上表面和下表面中的至少一个设置有识别图案，该单元包括：支撑基板；以及盖体，设置为与支撑基板相对，其中，支撑基板和盖体之间的空间形成其中用于设置微珠的容纳空间，并且支撑基板和盖体之间的距离大于微珠的厚度并小于微珠的厚度的两倍。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及检验单元。更具体地，本专利技术涉及在微珠分析中使用的检验单元。
技术介绍
在核酸或蛋白质等的生物化学分析中，已经使用了称为“微珠”的微粒支撑体。例 如，在核酸分析中，已经使用了在其表面上将具有与目标核酸链互补的碱基序列的探针核 酸链固定为固相的微珠，以基于目标核酸链与探针核酸链的相互作用来分离目标核酸链。 类似地，在蛋白质分析中，已经使用了在其表面上将与目标蛋白质有关的抗体固定为固相 的微珠，以分离目标蛋白质。可以通过预先利用荧光物质标注微珠，来光学地检测通过在微珠表面上俘获而 分离的目标核酸链或目标蛋白质。另外，通过测量珠子表面的荧光强度，也能够确定由此 而分离的目标物质。在目标物质为核酸链的情况下，已经使用了一种(通过被吸收在由目 标核酸链和探针核酸链之间的相互作用所形成的混合链之间而能够发射荧光的)插入剂 (intercalator)以光学地检测所分离的目标核酸链。现在，将描述微珠的光学检测方法的实例。首先，将其中分散有微珠的分散液置于 测量基板上，并且将盖玻片设置在其上放置有分散液的测量基板的表面上，以形成用于测 量的单元。从设置在该单元之上的光源投射光，并且通过设置在该单元之上的诸如CCD或 CMOS的成像装置来拾取微珠的透过图像或荧光图像。关于更多的信息，参考日本专利公开第2009-270946号、第JP-T-2005-504275号 和第 JP-T-2008-505321 号。
技术实现思路
微珠通常为具有微米级(几微米至几百微米)的直径和厚度的微小物体。当为了 提高检测效率而增加微珠在分散液中的浓度时，因此，可能出现微珠在测量基板之上彼此 重叠并且难以实现重叠微珠的正常成像的问题。因此，需要一种防止微珠彼此重叠并且可以实现高精度地进行分析的检验单元。为了满足以上需要，根据本专利技术的实施方式，提供了一种用于检验微珠的单元，其 用于检验均形成为具有彼此相对并且基本上平行的上表面和下表面以及与上表面和下表 面相连续的侧面的圆柱形状的微珠，上表面和下表面中的至少一个设置有识别图案，其中， 该单元包括支撑基板和设置为与支撑基板相对的盖体。支撑基板和盖体之间的空间形成了 用于设置微珠的容纳空间，并且支撑基板和盖体之间的距离被设定为大于微珠的厚度并小 于微珠的厚度的两倍。支撑基板和盖体中的任意一个或两个可以设置有柱体。优选地，柱体的高度大于 微珠的厚度并小于微珠的厚度两倍。此外，优选地，该柱体设置有小于微珠的上表面的直径 和微珠的下表面的直径中的至少一个的至少一个切口。柱体可以被形成为包围容纳空间，并且盖体可以形成有通孔，容纳空间通过该通4孔连接至外部空间。在这种情况下，优选地，吸收构件被设置为面对切口。此外，优选地，支 撑基板形成有使支撑基板面对容纳空间的那部分突出以高于其他部分的安装部，并且吸收 构件被设置在比支撑基板的安装部低的边缘部处。另外，该单元可以设置有供给口和排出口，容纳空间和外部空间通过供给口和排 出口而彼此连接。在这种情况下，柱体位于供给口和排出口之间，从而将容纳空间分割为在 供给口侧的供给空间和在排出口侧的排出空间。优选地，供给空间设置有朝着排出口膨胀 的膨胀部。反射镜可以至少被设置在支撑基板面对容纳空间的那部分的一部分处。另外，根据本专利技术的另一实施方式，提供了一种分析均形成为具有彼此相对并彼 此平行的上表面和下表面以及与上表面和下表面相连续的侧面的圆柱形状的微珠的方法， 上表面和下表面中的至少一个设置有识别图案。该分析方法(检验方法)包括以其间的 距离大于微珠的厚度并小于微珠的厚度的两倍将支撑基板和盖体设置为彼此相对、并将微 珠设置在支撑基板和盖体之间的容纳空间中的容纳步骤；以及对存在于容纳空间中的微珠 成像的成像步骤。在容纳步骤中，优选地，将容纳空间连接至供给单元和排出单元，在供给单元和排 出单元之间产生压力差，并且将其中分散有微珠的分散液吸入容纳空间中。此外，在容纳步 骤中，优选地，将振动力传递至供给单元和排出单元之间的流路以便搅拌分散液。根据本专利技术，防止了微珠彼此重叠，并且可以容易地执行每个微珠的成像，因此， 可以高精度地分析目标物质。附图说明图IA和图IB是示出了在本专利技术中使用的支撑基板和盖体的截面图；图2A和图2B是示出了根据本专利技术第一实施方式的检验单元的组装状态的平面图 和截面图；图3是示出了本专利技术中的柱体的第一实例的平面图；图4是示出了本专利技术中的柱体的第二实例的平面图；图5是示出了本专利技术中的柱体的第三实例的平面图；图6是示出了本专利技术中的柱体的第四实例的平面图；图7是示出了微珠的实例的透视图；图8是示出了本专利技术中的柱体和通孔之间的位置关系的另一实例的平面图；图9A和图9B是在没有反射镜的情况下拾取的图像；图9C和图9D是在具有反射 镜的情况下拾取的图像；图10是根据本专利技术第二实施方式的检验单元的示意性平面图；图11是示出分割柱体的示意性平面图(编号1)；图12是用于示出分割柱体的示意性平面图(编号2)；图13是用于示出分割柱体的示意性平面图(编号3)；图14是检验装置的实例的框图；以及图15是示出了供给口的实例的放大截面图。具体实施例方式现在，下文中，将参考附图来描述用于实施本专利技术的优选实施方式。顺便提及，以 下是对作为用于实施本专利技术的代表性实施方式的第一实施方式和第二实施方式的描述，代 表性实施方式不限制本专利技术的范围。以下的描述将按下面的顺序进行。A.第一实施方式1.检验单元la.支撑基板lb.盖体Ic.柱体Id.组装状态2.检验方法2a.要检验的对象(微珠)2b.检验步骤的具体程序B.第二实施方式1.检验单元la.支撑基板lb.盖体Ic.柱体Id.组装状态2.检验方法2a.要检验的对象(微珠)2b.检验步骤的具体程序A.第一实施方式1.检验单元图IA和图IB中的符号1表示根据本专利技术实施方式的用于检验微珠的单元的实 例，下文中，其将称为“检验单元”；检验单元1包括支撑基板11、盖体21和柱体31。支撑 基板11和盖体21是可分离的。图IA为支撑基板11在分离状态下的截面图，图IB为盖体 21在分离状态下的截面图。la.支撑基板支撑基板11的平面形状没有特别限制，而是可以为矩形、正方形、圆形、椭圆形 等；这里，支撑基板11为矩形板。在支撑基板11中，中央部(这里，为在长度方向上的中央 部)突出，以高于边缘部19，作为(其上将安装后述的盖体21的)安装部18。反射镜15设置在安装部18处。反射镜15没有特别限制；例如，其可以通过电镀、 气相沉积、溅射等而由诸如铝、银、不锈钢等的反射金属材料形成的反射金属膜构成。设置 反射镜15的位置没有特别限制。当支撑基板11为透明的时，反射镜15可以嵌入在安装部 18中，或者可以设置在安装部18的其上安装有盖体21的表面(前侧面)相对侧的后表面 上。然而，优选地，将反射镜15设置在安装部18的前侧面上。在将反射镜15设置在安装部18的前侧面上的情况下，为了增强反射镜15的润湿 性以通过后述的分散液来润湿，可以在反射镜15的表面上形成对分散液具有高亲和力(例如，高亲水性)的透明树脂膜。在这种情况下，树脂膜的材料和厚度优选地被设计为防止由 于来自树脂膜的表面和反射镜15的表面的反射光而引起的干涉条纹等的产生。反射镜15本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于检验微珠的单元，用于检验均形成为具有彼此相对并且基本上平行的上表面和下表面以及与所述上表面和所述下表面相连续的侧面的圆柱形状的微珠，所述上表面和所述下表面中的至少一个设有识别图案，所述单元包括：支撑基板；以及盖体，与所述支撑基板相对地设置，其中所述支撑基板和所述盖体之间的空间形成所述微珠设置于其中的容纳空间，以及所述支撑基板和所述盖体之间的距离大于所述微珠的厚度并小于所述微珠的厚度的两倍。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：坂本直久，岸井典之，伊东和峰，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP