研磨垫用辅助板和采用它的研磨垫的再生方法技术

本发明专利技术涉及一种研磨垫用辅助板和采用它的研磨垫的再生方法。本发明专利技术的课题在于提供一种新结构的研磨垫用辅助板，其可在确保研磨垫相对旋转平台的固定力的同时，容易进行研磨垫相对旋转平台的装卸，特别是可防止在从旋转平台上取下研磨垫时的研磨垫的损伤。一种研磨垫用辅助板，其包括放置于旋转平台(12)的顶面上的辅助板主体(14)；设置于该辅助板主体(14)的顶面中间部分的垫支承面(14a)；嵌合周壁部(18)，其形成于辅助板主体(14)的外周缘部，嵌合于该旋转平台(12)的外周。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及以硅片、半导体基板、玻璃基板等这样的要求高平坦加工精度的作为工件的基板为对象的研磨的技术，本专利技术特别是涉及可实现用于对该基板的表面进行研磨时的研磨垫的再使用的技术。
技术介绍
如人们熟知的那样，在半导体的制造时，对构成组成部件的硅片或半导体基板、玻璃基板等的基板的表面进行平坦化的研磨处理。上述研磨处理一般通过下述方式实施，该方式为通过双面胶带而将由树脂材料等形成的圆板形状的研磨垫直接固定于研磨机的旋转平台上，一边供给包括研磨颗粒的研磨液，一边使研磨垫和基板相对地进行旋转运动，进行研磨。于是，作为用于实施这样的研磨处理的研磨垫，如日本特开2002-11630号公报 (专利文献1)等中记载的那样，采用由发泡或未发泡的氨基甲酸乙酯等形成的树脂垫。另外，在上述研磨垫的研磨表面上，在许多的场合，进行同心圆状或格子状、辐射状等的槽加工，或使发泡树脂的气泡开口等的处理。不过，在采用研磨垫而进行研磨加工的场合，作为研磨对象的基板在进行种类切换等时，具有必须将用于研磨加工的研磨垫与旋转平台剥离开，替换为另一研磨垫的情况。 另外，比如，即使以再使用等为目的，通过另一加工装置对伴随研磨加工而劣化的研磨垫进行表面开槽等的再加工这样的场合等，仍必须将研磨垫与旋转平台剥离开。但是，薄壁圆板状的树脂垫通过粘接胶带而牢固地固定于研磨装置的旋转平台上，故将研磨垫与旋转平台剥离开时，研磨垫容易产生弯曲或折断、褶皱、破坏等的损伤。于是，由于这样的损伤的原因，具有产生许多虽然没有到达寿命期限，却无法再使用该研磨垫，不得不将其废弃的问题。并且，由于一边按照不损伤的方式进行细心的操作，一边将研磨垫与旋转平台剥离开的作业要求熟练和谨慎，故还具有对作业者造成较大的负担的问题。此外，由于将研磨垫与旋转平台剥离开的作业必须要求相当的时间，故还具有必须在较长时间停止高价、贵重的设备的研磨装置，限制设备的操作时间的问题。此外，在日本特开2001-54859号公报(专利文献2)中，提出了下述的结构，其中，直接将平板形状的支承体层成一体地形成于研磨垫的内面上，并且通过磁力或负压吸引力，将该支承体层吸附保持于研磨机的旋转平台上，由此，可从旋转平台上容易取下研磨垫。但是，不仅难以直接成一体地在研磨垫上形成支承体层，而且比如，即使在可成一体地在研磨垫上形成支承体层的情况下，实用化仍是存在问题。但是，在上述专利文献2中，虽然例举了通过磁力或负压吸引力将研磨垫相对旋转平台的固定的例子，但是在薄壁的支承体层上，经由厚壁的旋转平台，作用充分的磁力是极困难的，另外，负压吸引也未在平板状的支承体层和旋转平台之间形成与外部空间确实隔绝的密封区域，难以作用充分的吸附力。再有，在上述专利文献2中，还公开有通过粘接胶带而将支承体层的内面固定于旋转平台上的结构，但是，具有仅覆盖研磨垫的内面的薄壁平板形状的支承体层中未获得充分的刚性，在将支承体层与旋转平台剥离开时，与单体结构的研磨垫相同产生弯曲或折断、折皱等的损伤的危险。另外，在上述的单体结构的研磨垫，与在专利文献2中记载的研磨垫中的任意者中，均具有单纯的圆板形状，由此，还具有难以进行将其正确地相对旋转平台进行对中(中心对准)而安装的作业，并且费事的问题。已有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2002-11630号公报专利文献2 日本特开2001-54859号公报
技术实现思路
本专利技术是以上述的情况为背景而提出的，提供一种新结构的研磨垫用辅助板，其可在充分地确保研磨垫相对旋转平台的固定力的同时，容易进行研磨垫相对旋转平台的装卸，特别是可防止在从旋转平台上取下研磨垫时的研磨垫的损伤，对于比如，研磨垫的再利用的实现也是有利的。此外，本专利技术的目的还在于提供采用上述研磨垫用辅助板实现研磨垫的再生利用的研磨垫的再生方法，以及下述的基板的制造方法，在该方法中，通过采用上述研磨垫用辅助板进行研磨加工的方式，获得研磨加工的基板。为了解决上述课题，涉及研磨垫用辅助板的本专利技术的第1形式为下述的研磨垫用辅助板，其包括放置于研磨机的旋转平台的顶面上的辅助板主体，通过该辅助板主体的外面的中间部分，构成重合而固定有用于半导体基板等研磨的研磨垫的垫支承面，形成嵌合周壁部，其在该辅助板主体的外周缘部，沿该研磨机的旋转平台的外周面而向下方突出，嵌合于该旋转平台的外周，由此，固定于该垫支承面上的研磨垫可装卸地安装于该旋转平台上。在本形式的研磨垫用辅助板中，通过在辅助板主体的外周缘部上形成嵌合周壁部，发挥在下面的(1) (6)中记载的那样的特别的技术效果。(1)可在将研磨垫固定于辅助板主体的顶面(外面)上的状态，与辅助板主体一起，相对旋转平台而安装和取下。于是，即使在从旋转平台上取下，对研磨垫进行清洁或再加工等的情况下，仍可在将研磨垫固定于辅助板的顶面上的状态进行该作业。(2)由于嵌合周壁部，针对辅助板主体可发挥极有效的增强效果。特别是，嵌合周壁部形成于脱离研磨机的旋转平台的顶面的外周侧，由此，可避免在旋转平台上进行的研磨等的加工作业的不利影响，同时以各种形状或尺寸而形成嵌合周壁部，获得对辅助板主体的有效的增强效果。于是，在上述(1)的场合，在将研磨垫固定于辅助板主体上的状态进行处理，由此，在研磨垫相对旋转平台的装卸时，或者研磨垫的清洁或再加工时等的场合， 显然，即使在研磨垫的运送时或保存时等的情况下，仍可防止研磨垫的弯曲或损伤，保持在良好的状态。(3)在将嵌合周壁部嵌入旋转平台时，通过旋转平台的外周面，对嵌合周壁部的内周面进行导向，由此，固定有研磨垫的辅助板主体可在保持与旋转平台的顶面基本平行的状态的情况下，进行重合。于是，伴随嵌合周壁部对辅助板主体的增强效果，防止研磨垫或辅助板主体的挠曲或倾斜，可有效地实现高精度地将辅助板主体和研磨垫重合于旋转平台的顶面上，实现密贴的稳定支承状态。(4)可根据嵌合周壁部相对旋转平台的外嵌结构，不仅将嵌合周壁部，而且将固定于其上的研磨垫容易而正确地相对旋转平台而对中，进行安装。(5)如在上述(1) O)中记载的那样，可防止研磨垫的损伤，并且如在上述 (3) 中记载的那样，可以正确的对位精度，快速地使研磨垫相对旋转平台而装卸，其结果是，没有因进行研磨垫的装卸等的作业，而使高价的研磨设备的操作时间不必要地受到限制的情况，可实现研磨设备的操作效率的提高，进而实现基板的生产效率(研磨作业效率)的提高。(6)作为上述⑴ (5)的协同效果，由于还可解决比如在研磨垫的再利用时的问题，故即使在没有特别的熟练或知识的情况下，仍能以实用水准实现研磨垫的再利用。艮口， 比如，在切换基板的种类等的情况下，再次利用暂时从旋转平台取下的研磨垫，或作为劣化对策的在另一加工装置中进行表面开槽等的再加工而将从旋转平台上暂时取下的研磨垫， 在再加工后再利用等的方式也可按照实用化水准进行研究。此外，在本形式中，“辅助板主体”支承研磨垫，可满足除了进行研磨机的研磨加工以外，在研磨垫表面上的修整、清扫、再开槽等的各种处理时所要求的强度或刚性、形状稳定性和精度即可，其材质或壁厚尺寸没有限定。特别是，上述辅助板主体无法通过其单体， 负担研磨垫的支承强度或刚性等的性能，比如，在研磨加工时，按照重合于研磨机的旋转平台上的方式使用，由此，通过旋转平台支承内面，这样，单本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种研磨垫用辅助板，其包括放置于研磨机的旋转平台的顶面上的辅助板主体，其特征在于：通过该辅助板主体的外面的中间部分构成垫支承面，该垫支承面重合而固定有用于半导体基板等研磨的研磨垫；形成嵌合周壁部，其在该辅助板主体的外周缘部，沿该研磨机的旋转平台的外周面而向下方突出，嵌合于该旋转平台的外周；固定于该垫支承面上的该研磨垫可装卸地安装于该旋转平台上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：铃木辰俊，铃木英资，
申请(专利权)人：东邦工程株式会社，
类型：发明
国别省市：JP