【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及研磨清洗技术,尤其涉及一种,以提升研磨效率。
技术介绍
现有技术中,玻璃、光学膜片例如偏光片等材料在使用前通常需要进行研磨清洗。 而现有的研磨平台使用聚氨酯(polyurethane)等硬质材料作为研磨垫固定在承载台上, 长时间使用后会出现磨耗,时间久了出现磨耗的地方将无法与被研磨物充分接触而导致研磨不尽。此外,在研磨的同时需要使用外界的喷水装置进行喷水以进行清洗,并需要较好的控制喷水角度,然此喷水角度较难控制。
技术实现思路
本专利技术的目的之一是提供一种研磨平台,以克服现有技术中存在的缺陷,提升研磨效率。本专利技术的另一目的是提供一种研磨方法,以克服现有技术中存在的缺陷,提升研磨效率。具体地,本专利技术实施例提供的研磨平台包括承载台与柔性研磨垫。柔性研磨垫固定在承载台上;柔性研磨垫具有研磨表面,且研磨表面与承载台之间形成有容置空间以容置清洗流体;研磨表面上设置有多个通孔,且这些通孔与容置空间相连通。在本专利技术的实施例中,柔性研磨垫的材料可为硅胶(silicone)、橡胶(rubber)、 铁氟龙(teflon)和乳胶(latex)等中的至少一种。在本专利技术的实施例中,研磨平台还可包括安装在承载台上的流体输送管道,且流体输送管道与容置空间相连通以提供清洗流体。进一步地,流体输送管道上可设单向阀,以防止容置空间内的清洗流体回流。在本专利技术的实施例中,研磨平台还可包括成对设置的支撑墙,而成对设置的支撑墙安装在承载台上,且每对支撑墙设置在柔性研磨垫的相对两侧以支撑柔性研磨垫。进一步地,成对设置的支撑墙的高度可调节;甚至,成对设置的支撑墙的间 ...
【技术保护点】
1.一种研磨平台,其特征在于,包括: 承载台;柔性研磨垫,固定在所述承载台上;所述柔性研磨垫具有研磨表面,且所述研磨表面与所述承载台之间形成有容置空间以容置清洗流体;所述研磨表面上设置多个通孔,且所述通孔与所述容置空间相连通。
【技术特征摘要】
1.一种研磨平台,其特征在于,包括 承载台;柔性研磨垫,固定在所述承载台上;所述柔性研磨垫具有研磨表面,且所述研磨表面与所述承载台之间形成有容置空间以容置清洗流体;所述研磨表面上设置多个通孔,且所述通孔与所述容置空间相连通。2.根据权利要求1所述的研磨平台,其特征在于,所述柔性研磨垫的材料选自硅胶、橡胶、铁氟龙和乳胶中的至少一种。3.根据权利要求1所述的研磨平台,其特征在于,所述研磨平台还包括安装在所述承载台上的流体输送管道,且所述流体输送管道与所述容置空间相连通以提供所述清洗流体。4.根据权利要求3所述的研磨平台,其特征在于,所述流体输送管道上设置有单向阀, 以防止所述容置空间内的清洗流体回流。5.根据权利要求1所述的研磨平台,其特征在于,所述研磨平台还包括成对设置的支撑墙,所述成对设置的支撑墙安装在所述承载台上,且每对支撑墙设置在所述柔性研磨垫的相对两侧以支撑所述柔性研磨垫。6.根据权利要求5所述的研磨平台,其特征在于,所述成对设置的支撑墙的高度可调节。7.根据权利要求5所述的研磨平台,其特征在于,所述成对设置的支撑墙的间距可调节。8.根据权利要求1所述的研磨平台,其特征在于,所述柔性研磨垫的周缘固定在所述承载台上以与所述承载台共同围成所述容置空间。9.根据权利要求1所述的研磨平台,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:周洁,王磊,梁双,牛雯雯,
申请(专利权)人:友达光电苏州有限公司,友达光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:32
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