一种可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘制造技术

本实用新型专利技术公开一种可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘，包括金属基盘(2)和与金属基盘(2)中心连接的抛光盘主轴(1)，其特征在于：金属基盘(2)下表面连接上缓冲层(3)，上缓冲层(3)下表面与上粘接层(4)上表面连接，上粘接层(4)下表面与下粘接层(5)上表面连接，下粘接层(5)下表面与下缓冲层(6)上表面连接，下缓冲层(6)下表面与抛光织物层(7)上表面连接，金属基盘(2)、上缓冲层(3)、上粘接层(4)、下粘接层(5)、下缓冲层(6)和抛光织物层(7)带有相互对应连接的多个抛光液流入孔(8)，抛光液导流管(9)插入到各个抛光液流入孔(8)直达抛光织物层(7)的下表面。本实用新型专利技术抛光效率高，操作简便。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及冶金铸坯检验
中的铸坯试样自动抛光装置，尤其涉及一 种可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘。
技术介绍
在专利CN 1031671A “金相试样抛光机”中，涉及一种金相试样抛光机，它由磨盘、 试样夹持盘、压力调节器所组成。在专利CN 1033955A “金相试样磨光、抛光电磁吸盘”中，涉及一种能够对不同外 形和大小的金相试样，不要镶嵌，就可对多只试样同时进行磨光或抛光的电磁吸盘装置。所 不同的特征是试样与盘之间的正压力是由磁场提供的，是一个电磁吸盘装置。在铸坯枝晶检验、弱冷酸蚀检验中，要求对被检验铸坯截面进行抛光处理，由于检 验的试样受检面积大，重量重，表面抛光精度要求高。因此，与常规微观试样抛光相比，其抛 光盘与试样表面接触面积相应较大，在抛光时，采用常规的人工侧面加抛光液的方法进行 抛光，操作中很难保证抛光液在整个抛光盘的工作面上持续存在，因此试样容易出现磨面 过热或焦糊的问题。为避免这一现象的发生，经常需要间歇的停下来，人为调整抛光盘与 试样面的相对位置，让抛光液流至抛光盘的工作面。这样，大大降低了自动抛光机的工作效 率。
技术实现思路
为克服现有装置存在的上述缺陷，本技术所要解决的技术问题在于提供一种 在金属铸坯凝固组织检验中，具有自动连续导流抛光液功能的可自动输送抛光液的铸坯试 样抛光盘，从而替代笨重的手工操作，抛光效率高，操作简便。本技术通过下述技术方案予以实现可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘包括金属基盘和与金属基盘中心连接的抛 光盘主轴，其特征在于金属基盘下表面连接上缓冲层上表面，上缓冲层下表面与上粘接 层上表面连接，上粘接层下表面与下粘接层上表面连接，下粘接层下表面与下缓冲层上表 面连接，下缓冲层下表面与抛光织物层上表面连接，金属基盘、上缓冲层、上粘接层、下粘接 层、下缓冲层和抛光织物层带有相互对应连接的多个抛光液流入孔，抛光液导流管插入到 各个抛光液流入孔，直达抛光织物层的下表面。抛光液流入孔与抛光织物层之间相互成50-60度角。使用自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘时，将由上粘接层、上缓冲层、金属基盘、 抛光盘主轴相互连接成一体的上半部分与由下粘接层、下缓冲层、抛光织物层相互连接成 一体的下半部分通过上粘接层与下粘接层接触粘接成一个整体。将抛光盘主轴与抛光机主 轴连接，用于对金属铸坯表面进行抛光处理。在对金属铸坯表面抛光时，金属基盘用于对所 抛光金属铸坯表面均勻施加压力，以利抛光。上缓冲层和下缓冲层可均勻缓冲抛光时金属 基盘对金属铸坯表面的抛光压力，同时校正金属基盘下表面与被抛光金属铸坯表面的面不平行度，避免受力不均和抛光时产生振颤。上粘接层与下粘接层可以实现上下两部分的连 接与分离，分离后，可根据需要更换不同要求的抛光织物，更换后，再通过上粘接层与下粘 接层将上下两部分粘接成一个整体。自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘上方的抛光液通过 插在抛光液流入孔中的抛光液导流管流入到抛光织物层上所在的铸坯表面，在旋转力的驱 动下抛光液透过抛光织物层向四周均勻扩散，起到润滑摩擦抛光的作用。本技术的自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘，可适用于铸坯凝固组织检验过 程中对铸坯表面进行大面积连续抛光处理，该装置具有自动输送抛光液的功能，可实行自 动控制操作，抛光压力均勻可控，抛光液可自动注入到被抛光试面中心所在区域，再均勻散 开，避免了由于抛光液加入不及时而造成抛光面局部过热或焦糊的现象，抛光效率高，效果 好，操作简便，具有自动校正适应抛光盘与被抛光金属铸坯表面的面不平行度功能，可避免 受力不均产生的振颤。上下两部分可根据工艺要求实现分离与连接，可根据不同金属铸坯 检验的要求。随时更换不同要求的抛光织物，满足了不同检验要求的不同光洁度抛光操作。 确保铸坯自动抛光操作的顺行。附图说明图1自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘示意图；图2抛光液流入孔示意图；其中，1抛光盘主轴，2金属基盘，3上缓冲层，4上粘接层，5下粘接层，6下缓冲层， 7抛光织物层，8抛光液流入孔，9抛光液导流管。具体实施方式以下结合附图对本技术的具体实施方式作进一步说明如图1所示，自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘由抛光盘主轴1金属基盘2、上缓 冲层3、上粘接层4、下粘接层5、下缓冲层6、抛光织物层7、抛光液流入孔8、抛光液导流管 9组成。金属基盘2下表面连接上缓冲层3上表面，上缓冲层3下表面与上粘接层4上表 面连接，上粘接层4下表面与下粘接层5上表面连接，下粘接层5下表面与下缓冲层6上表 面连接，下缓冲层6下表面与抛光织物层7上表面连接，金属基盘2、上缓冲层3、上粘接层 4、下粘接层5、下缓冲层6和抛光织物层7带有相互对应连接的多个抛光液流入孔8，抛光 液导流管9插入到各个抛光液流入孔8直达抛光织物层7的下表面。如图2所示，4个抛光液流入孔8对称分布在金属基盘2上表面靠近抛光盘主轴1 根部附近，抛光液流入孔8与抛光织物层7之间相互成60度。抛光液导流管9直接插入到各个抛光液流入孔8中，抛光液导流管9由塑料制成；上缓冲层3和下缓冲层6由弹力纤维毡制成，上粘接层4和下粘接层5由塑料粘 接纤维制成。图1所示，自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘的主轴1与金属基盘2、上缓冲层3、 上粘接层4相互连接，形成自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘的上半部分。下粘接层5与 下缓冲层6、抛光织物层7相互连接，形成自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘的下半部分。 将上下两部分对正用力按压，使上下粘接层的塑料粘接纤维相互粘接牢固，形成一个整体，再将抛光盘主轴1与抛光机主轴连接，即可对金属铸坯表面进行抛光处理。在对金属铸坯 表面抛光时，金属基盘2对所抛光金属铸坯表面均勻施加压力，向下的抛光压力通过上缓 冲层3、上粘接层4、下粘接层5、下缓冲层6、抛光织物层7抵达被抛光金属表面。上缓冲层 3、下缓冲层6均勻缓冲抛光时金属基盘2对金属铸坯表面的抛光压力，当被抛光金属铸坯 表面与金属基盘2表面不平行时，上缓冲层3和下缓冲层6可校正金属基盘2下表面与被 抛光的金属铸坯表面的面不平行度，以适应对金属表面的旋转抛光压力，避免受力不均和 抛光时产生的振颤。可通过上粘接层4和下粘接层5实现上下两部分的分离，分离后，更换 不同要求的抛光织物，更换后，再通过上粘接层4与下粘接层5将上下两部分粘接成一个整 体继续进行抛光工作。抛光液通过抛光液流入孔8中的抛光液导流管9流到抛光织物层7， 在旋转力的驱动下抛光液透过抛光织物层7向四周均勻扩散，起到润滑、冷却、摩擦抛光金 属表面的作用。减轻了劳动强度，提高了抛光效率，适合金属铸坯的实验室检验抛光试样和 工业化生产连续检验抛光试样的工艺要求。权利要求1.一种可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘，包括金属基盘( 和与金属基盘O)中 心连接的抛光盘主轴(1)，其特征在于金属基盘( 下表面连接上缓冲层( 上表面，上 缓冲层C3)下表面与上粘接层(4)上表面连接，上粘接层(4)下表面与下粘接层( 上表 面连接，下粘接层( 下表面与下缓冲层(6)上表面连接，下缓冲层(6)下表面与抛光织物 层(7)上表面连接，金属基盘( 、上缓冲层C3)、上粘接层(4)、下粘接层( 、下缓冲层(6) 和抛光织物层(7)带有相互对应连接的多个抛光液流入孔(8)本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘，包括金属基盘（２）和与金属基盘（２）中心连接的抛光盘主轴（１），其特征在于：金属基盘（２）下表面连接上缓冲层（３）上表面，上缓冲层（３）下表面与上粘接层（４）上表面连接，上粘接层（４）下表面与下粘接层（５）上表面连接，下粘接层（５）下表面与下缓冲层（６）上表面连接，下缓冲层（６）下表面与抛光织物层（７）上表面连接，金属基盘（２）、上缓冲层（３）、上粘接层（４）、下粘接层（５）、下缓冲层（６）和抛光织物层（７）带有相互对应连接的多个抛光液流入孔（８），抛光液导流管（９）插入到各个抛光液流入孔（８）直达抛光织物层（７）的下表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕春风，尚德礼，于广文，康磊，邓伟，
申请(专利权)人：鞍钢股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：21