【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光伏行业或半导体
,特别是一种硅料清洗工艺。
技术介绍
在光伏行业或半导体
中,生产硅片时,要对硅棒或硅锭进行切方处理,剩下的叫头尾、边皮料。这些头尾、边皮料上由于表面氧化物、表面杂质和在物流、储存时出现的杂质侵入以及切割时金属离子的转移、切割液的残留等原因,其表面会积存一些污物。当这些头尾、边皮料重新利用时,需要将其上所积存的污物清洗干净。传统的清洗方法是采用酸腐清洗,由于酸腐工艺简单,效率高,一度受到人们的青睐,但仍存在以下不足一是传统腐蚀清洗方法重点放在腐蚀及清洗过程,忽略了预清洗,在腐蚀前只是简单使用人工擦洗, 清洗效果不足,导致污染残留,而影响到其后的腐蚀效果,导致其后的返工率超标,或在腐蚀后需要花费大量的人力进行分选,影响到工作效率,或为了保证腐蚀表面干净,人为增加了腐蚀量,导致损耗增加,成本上升;二是在腐蚀工艺过程中,将产生大量的酸雾,酸雾处理工艺复杂,容易发生安全事故,造成人员安全事故;三是由于酸腐时使用大量的HF,用洗涤法处理含氟废气的洗涤水,排入环境后,会造成水体和土壤的污染,含氟烟尘沉降或受降水淋洗,由于其使用后无法回收,含氟物质将直接进入植物内部、土壤、草地、水系、动物体内等会使土壤和地下水受污染,对我们的生活环境造成最直接的影响。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本专利技术所要解决的技术问题是提供一种既能减少返工率,又能提高产品品质,且对生产环境没有影响的硅料清洗工艺。本专利技术所采取的技术方案是专利技术一种硅料清洗工艺,其特征在于工艺流程如下第一步预清洗,先将待清洗的硅料置于器皿中,用DI水进行冲 ...
【技术保护点】
1.一种硅料清洗工艺,其特征在于工艺流程如下:第一步:预清洗,先将待清洗的硅料置于器皿中,用DI水进行冲洗;第二步:碱清洗,首先,用中性清洗剂采用超声清洗,其次,用稀碱溶液进行清洗,再次,用DI水清洗;第三步:超声清洗,用DI水采用超声清洗;第四步:碱腐蚀,首先,用浓碱溶液进行超声清洗,其次,采用普通纯净水清洗,再次,用DI水冲洗;第五步:腐蚀清洗,用DI水采用超声清洗;第六步:甩干,采用甩干设备进行甩干;第七步:烘干,采用烘干设备进行烘干。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:唐光祖,
申请(专利权)人:湖南天润新能源有限责任公司,
类型:发明
国别省市:43
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。