本发明专利技术提供了一种九层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃，使其具有膜层可以经受钢化炉高温的考验，仍然保持低辐射性能不变的特性。本发明专利技术的目的可采用如下技术方案来实现：在玻璃基片上从底层向上依次镀有第一Si3N4膜层、第一Co-Ni-Cr-Al-Y膜层、Ag膜层、第二Co-Ni-Cr-Al-Y膜层、SnO2膜层、TiO2膜层、第二Si3N4膜层、ZnO2膜层、第三Si3N4膜层，从而构成九层膜结构的超硬可钢化低辐射镀膜玻璃。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种玻璃以及该玻璃的制造工艺，特别涉及一种超硬可钢化低辐射玻璃以及该玻璃的制造工艺。现有技术低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(Ag)，使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少，称为低辐射镀膜玻璃。该玻璃用于门窗及幕墙上，可有效阻挡室内物体发出的红外线被玻璃吸收，散发到室外，提高室内温度，节约取暖费用。现在市场上已经有很多种低辐射镀膜玻璃产品，这些玻璃一般的结构是在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有Sr^2膜层、Ag膜层、NiCr膜层，在MCr膜层表面镀有一层SnA膜层，在SnA膜层表面镀有一层Si3N4膜层，从而构成五层膜结构的低辐射镀膜玻璃。但是这种玻璃具有以下这些缺陷普通LOW-E玻璃具有以下缺点1、不可以在任何种类的钢化炉中钢化；2、在大气条件下极易氧化，即使在经过包装的条件下，稍有不慎， 如让空气进入包装里，就会导致玻璃膜面氧化。3、在工人作业时须佩戴手套、口罩等防护用品。稍有不慎，就会导致玻璃膜面氧化。4、在运输过程中，其必须密封包装，程序繁琐。5、 不可与普通在线玻璃工艺一样进行生产，必须合成中空使用。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种九层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃，使其具有膜层可以经受钢化炉高温的考验，仍然保持低辐射性能不变的特性。本专利技术的目的可采用如下技术方案来实现在玻璃基片上从底层向上依次镀有第一 Si3N4 膜层、第一 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜层、細膜层、第二 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜层、Sr^2 膜层、TW2 膜层、第二 Si3N4膜层、ZnO2膜层、第三Si3N4膜层，从而构成九层膜结构的超硬可钢化低辐射镀膜玻璃。在制造上述玻璃时，可以采取以下工艺。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1. 1 X 10_4pa以下，充入工艺气体( 或N2或Ar)，使镀膜室压力稳定在0. 3pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入N2,靶材为Si靶，将Si3N4膜沉积到玻璃表面，形成第一 Si3N4 膜，厚度10至40纳米；第二个镀膜室充入Ar，靶材为Co-Ni-Cr-Al-Y靶，在第一 Si3N4膜上面沉积第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度5至10纳米；第三个镀膜室充入Ar，靶材为Ag靶，在第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上沉积Ag膜，厚度 5至10纳米；第四个镀膜室充入Ar，靶材为Co-Ni-Cr-Al-Y靶，在Ag膜上沉积第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度5至10纳米；第五个镀膜室充入02，靶材为Sn靶，将SnA膜沉积到第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上， 厚度10至40纳米；第六个镀膜室充入02，靶材为Ti靶，在SnA膜上沉积TW2膜，厚度！0至15纳米；第七个镀膜室充入队，靶材为Si靶，在TW2膜上沉积形成第二 Si3N4膜，厚度10至 15纳米；第八个镀膜室充入02，靶材为ai靶，在第二 Si3N4膜上沉积^1 膜，厚度10至15 纳米；第九个镀膜室充入队，靶材为Si靶，在^1 膜上沉积形成第三Si3N4膜，厚度15至 50纳米。上述膜层分别具有各自的作用，其中第一、七、九层膜采用Si3N4膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层的耐磨耐腐蚀性能；第二、四层膜采用Co-Ni-Cr-Al-Y膜，这是最为重要的膜层，它不但具有比MCr更加优异的耐高温抗氧化性能，还具有结合强度大， 耐腐蚀和气蚀，涂层致密，能耐1038摄氏度高温，抗氧化性能优良，可以保证^Vg膜层在钢化炉内不被氧化或其他物质反应，避免在钢化过程中被高温烧坏膜层，丧失其特有的低辐射性能；此外第三层采用Ag膜层，可以使镀膜玻璃具有非常低的辐射率；具有这种结构的超硬可钢化低辐射玻璃具有以下优点1、该玻璃镀膜後可以在辐射钢化炉中直接进行钢化；2、该玻璃在大气条件下，最长可保持3个月内不发生任何氧化； 如在外包装完好的前提下，最长抗氧化时间可达一年；3、该玻璃在钢化后，其反光及AB值几乎不会发生变化；4、该玻璃可和普通镀膜玻璃一样操作，且运输起来也更加方便，避免了传统操作程序中玻璃氧化所造成的浪费问题；5、该玻璃可与普通在线玻璃工艺一样进行生产。附图说明图1为本专利技术所述银蓝玻璃的结构示意图。其中1、玻璃基片，2、第一 Si3N4膜层， 3、第一 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜层，4、Ag 膜层，5、第二 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜层，6、SnO2 膜层，7、TiO2 膜层，8、第二 Si3N4膜层，9、ZnO2膜层，10、第三Si3N4膜层。具体实施例方式结合附图对本专利技术所述的银蓝玻璃进行进一步说明。本专利技术的目的可采用如下技术方案来实现在玻璃基片1上从底层向上依次镀有第一 Si3N4膜层2、第一 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜层3、Ag膜层4、第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜层5、SnO2膜层6、TiO2膜层7、第二 Si3N4膜层8、 ZnO2膜层9、第三Si3N4膜层10，从而构成九层膜结构的超硬可钢化低辐射镀膜玻璃。在制造上述玻璃时，可以采取以下工艺。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1. 1 X 10_4pa以下，充入工艺气体( 或N2或Ar)，使镀膜室压力稳定在0. 3pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入N2,靶材为Si靶，将Si3N4膜沉积到玻璃表面，形成第一 Si3N4 膜，厚度25纳米左右；第二个镀膜室充入Ar，靶材为Co-Ni-Cr-Al-Y靶，在Si3N4膜上面沉积第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度5纳米左右；第三个镀膜室充入Ar，靶材为Ag靶， 在第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上沉积Ag膜，厚度5纳米左右；第四个镀膜室充入Ar，靶材为Co-Ni-Cr-Al-Y靶，在Ag膜上沉积第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度5纳米左右；第五个镀膜室充入02，靶材为Sn靶，将SnA膜沉积到第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上，厚度25纳米左右；第六个镀膜室充入02，靶材为Ti靶，在SnA膜上面沉积TW2膜，厚度5纳米左右；第七个镀膜室充入N2,靶材为Si靴，在T^2膜上沉积形成第二 Si3N4膜，厚度5纳米左右；第八个镀膜室充入02，靶材为Si靶，在第二 Si3N4膜上沉积^1 膜，厚度5纳米左右；第九个镀膜室充入 N2,靶材为Si靶，在^1 膜上沉积形成第三Si3N4膜，厚度30纳米左右。本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种玻璃，其特征在于在玻璃基片上从底层向上依次镀有第一Ｓｉ３Ｎ４膜层、第一Ｃｏ－Ｎｉ－Ｃｒ－Ａｌ－Ｙ膜层、Ａｇ膜层、第二Ｃｏ－Ｎｉ－Ｃｒ－Ａｌ－Ｙ膜层、ＳｎＯ２膜层、ＴｉＯ２膜层、第二Ｓｉ３Ｎ４膜层、ＺｎＯ２膜层、第三Ｓｉ３Ｎ４膜层。
【技术特征摘要】
1.一种玻璃，其特征在于在玻璃基片上从底层向上依次镀有第一 Si3N4膜层、第一 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜层、Ag 膜层、第二 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜层、Sr^2 膜层、TW2 膜层、第二 Si3N4 膜层、ZnA膜层、第三Si3N4膜层。2.权利要求1中所述的玻璃，其中所述第一Si3N4膜层厚度为10至40纳米，所述第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜层厚度为5至10纳米，所述Ag膜层厚度为5至10纳米，所述第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜层厚度为5至10纳米，所述SnO2膜层厚度为10至40纳米，所述TW2膜层厚度为10至15纳米，所述第二 Si3N4膜层厚度为10至15纳米，所述SiO2膜层厚度为10 至15纳米，所述第三Si3N4膜层厚度为15至50纳米。3.—种制造玻璃的方法，其特征在于将镀膜室抽真空至1. IXlO-V以下，充入工艺气体，使镀膜室压力稳定在0. 3pa左右， 将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃基片，将靶材原子或其它化合物沉积到玻璃表面；第一个镀膜室充入队，靶材为Si靶，将...
【专利技术属性】
技术研发人员：王进东，
申请(专利权)人：南京宇天玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：84
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