一种低辐射镀膜玻璃制造技术

一种低辐射镀膜玻璃，该低辐射镀膜玻璃的结构为：位于底层的玻璃，覆于玻璃之上的基层电介质结合层，覆于基层电介质结合层之上的第二电介质组合层，覆于第二电介质组合层之上的第一阻挡层，覆于第一阻挡层之上的Ａｇ层，覆于Ａｇ层之上的第二阻挡层，覆于第二阻挡之上的上层电介质组合层。本实用新型专利技术最显著的特点是具有优良的可弯钢及可异地加工性能，并且其热工性能优异、色彩鲜艳且容易调节、质量稳定、制作效率高、成本低，能通过改变各膜层的厚度获得不同透过率、透过色、反射率、反射色及遮阳系数、辐射率的多品种金色低辐射镀膜玻璃。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及特种玻璃领域，尤其涉及一种可弯钢的金色低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
低辐射玻璃，又称 Low-E玻璃，是在玻璃表面镀制包括银层在内的多层金属或其 它化合物组成的膜系产品。由于银层具有低辐射的特性，低辐射玻璃对可见光有较高的透 射率，对红外线有很高的反射率，具有良好的隔热性能。采用真空磁控溅射法生产的普通金色低辐射镀膜玻璃的膜层结构一般为玻璃/ 基层电介质组合层/第二电介质组合层/第一阻挡层/Ag层/第二电阻挡层/上层电介质 组合层等。电介质组合层一般为金属或非金属的氧化物或氮化物，如Ti02、ZnSn0X、Sn02、Zn0、 SiO2, Ta2O5, SiNxOy、Bi02、A1203、Nb205、Si3N4, AZO等，为了达到金色的效果，也有将基层介电 质组合层加入氧化不锈钢材料。第一阻挡层、第二阻挡层一般为金属或金属氧化(氮化)物，也可以是合金或合金 氧化(氮化)物，如Ti、NiCr或NiCrOx、NiCrNx等。也有使用铜作为第一阻挡层。但是在传统的金色低辐射膜的加工中，只能对玻璃先采用钢化再镀膜的加工方 式，或者虽能平钢化，但不能进行弯钢化和异地加工。这就限制了金色低辐射玻璃的推广。 这是因为1.不能实现弯弧玻璃镀膜现代建筑广泛采用弯钢化玻璃，传统离线金色低辐射膜不能进行弯钢化等后续加 工处理。国内现有的建筑镀膜玻璃生产线均不能在弯钢化玻璃上镀膜。2.镀膜运行效率低钢化玻璃镀膜的装载率只有75%左右，也就是只能发挥镀膜线产能的75%。钢化 玻璃镀膜靠人工装片和卸片，需配置足够的操作式，增加了人工工资支出。同时人工装、卸 片的速度慢，又限制了镀膜线走速，镀膜线运行不经济。各种补片的生产周期长，镀膜和中空工序出现的废品要补片，玻璃在安装现场的 损坏也要补片。这些补片需要再次纳入生产订单来安排生产，补片周期长。由于要达到金色的效果，需要使用特殊的靶材。限于设备的靶位数量和靶材排列 顺序，必须停机更换靶材，再经过长时间抽气，才能生产金色低辐射玻璃。这会严重影响其 它膜系的生产，不利于成本的控制。3.无法异地加工由于不能弯钢化，一些没有镀膜线的企业无法使用这种玻璃进行异地加工；并且 因离线低辐射镀膜玻璃必须合成中空玻璃使用，中空玻璃的运输增加了运输支出，限制了 金色低辐射玻璃的推广。基于上述原因，有必要开发出一种能够进行弯钢化加工和异地加工的金色低辐射 镀膜玻璃。综上所述，实有必要设计一种低辐射镀膜玻璃，以克服现有技术的缺陷。
技术实现思路
本技术的目的在于，采用独特的膜层配置构造出一种可以实现弯钢化加工的 金色低辐射镀膜玻璃。满足在后续复合产品加工中的所有要求。为达到上述目的，本技术提出以下技术方案 一种低辐射镀膜玻璃，该低辐射镀膜玻璃的结构为位于底层的玻璃基片，覆于该 玻璃基片之上的基层电介质结合层，覆于基层电介质结合层之上的第二电介质组合层，覆 于第二电介质组合层之上的第一阻挡层，覆于第一阻挡层之上的Ag层，覆于Ag层之上的第 二阻挡层，覆于第二阻挡之上的上层电介质组合层。作为优选实施方式，所述基层电介质组合层、第二电介质组合层、上层电介质组合 层由金属或非金属的氧化物或氮化物构成。作为优选实施方式，所述金属或非金属的氧化物或氮化物为Ti02、ZnSnOx, SnO2, ZnO、SiO2, Ta2O5, SiNxOy、BiO2, A1203、Nb2O5, Si3N4、AZO 中的至少一种。作为优选实施方式，所述基层电介质组合层厚度为10 30nm。作为优选实施方式，所述第二电介质组合层厚度为15 40nm ；所述上层电介质组 合层厚度为18 45nm。作为优选实施方式，所述Ag层的厚度为5 28nm。作为优选实施方式，所述第一阻挡层、第二阻挡层的材料为镍铬、钛、氧化镍铬或 氮化镍铬中的至少一种，单层厚度为1 lOnm。本技术所提供的低辐射镀膜玻璃，具有优良的可弯钢及可异地加工性能，并 且其热工性能优异、色彩鲜艳且容易调节、质量稳定、制作效率高、成本低，能通过改变各膜 层的厚度获得不同透过率、透过色、反射率、反射色及遮阳系数、辐射率的多品种金色低辐 射镀膜玻璃。本技术采用的独特的膜层配置结构生产出可弯钢的金色低辐射镀膜玻 璃，具有辐射率低(小于0. 065)，光学性能稳定、色彩鲜艳且容易调节、耐热、耐候等性能。 产品先镀膜后热处理，能长距离运输，能储存8个月以上不变质，实现弯钢和异地加工，满 足在后续复合产品加工中的所有要求。本技术可以应用于民用建筑领域。以下结合附图和具体实施方式对本技术的低辐射镀膜玻璃进一步详细说明。附图说明图1所示是本技术的低辐射镀膜玻璃结构示意图。图2所示是本技术的低辐射镀膜玻璃的生产工艺流程示意图。具体实施方式本技术提供的可弯钢的金色低辐射镀膜玻璃的膜层结构为位于底层的玻璃 基片10，覆于玻璃基片10之上的基层电介质结合层11，覆于基层电介质结合层11之上的 第二电介质组合层12，覆于第二电介质组合层12之上的第一阻挡层13，覆于第一阻挡层13 之上的Ag层14，覆于Ag层14之上的第二阻挡层15，覆于第二阻挡层15之上的上层电介 质组合层16。所述玻璃基片10的厚薄不限，所述基层电介质结合层11的厚度范围为10 30nm ；所述基层电介质结合层11的厚度范围为10 30nm ；所述第二电介质组合层12的厚 度范围为15 40nm ；所述第一阻挡层13的厚度范围为1 IOnm ；所述Ag层14的厚度范 围为5 28nm ；所述第二阻挡层15的厚度范围为1 IOnm ；所述上层电介质组合层16的 厚度范围为18 45nm。各介质膜层为真空磁控溅射沉积的金属或非金属的氧化物或氮化物构成，如 TiO2, ZnSnOx, SnO2, ZnO、SiO2, Ta2O5, SiNxOy, BiO2, A1203、Nb2O5, Si3N4, AZO 等。在实际应用中，常用的可弯钢的金色低辐射镀膜玻璃的膜层结构及优选厚度为 基层电介质结合层11为10 20nm，第二电介质组合层12为15 30nm，第一阻挡层13为 1 8nm，Ag层14为10 28nm，第二阻挡层15为1 8nm，上层 电介质组合层16为18 30nmo下面为本技术提供的可弯钢的金色低辐射镀膜玻璃的一个应用实例的膜结 构如下玻璃基片/SiNxOy 层 /Si3N4 层 /NiCr 层 /Ag 层 /NiCr 层 /Si3N4 层。其中，基层电介质组合层11的主要材料为氮氧化硅(SiNxOy)，膜层厚度为10 15nm。第二电介质组合层12是氮含量可调的氮化硅(Si3N4)，膜层厚度为15 22nm。第一阻挡层13的主要材料为镍铬(NiCr)，膜层厚度为1 4nm。Ag层14的膜层厚度为18 25nm。第二阻挡层15的主要材料为镍铬(NiCr)，膜层厚度为1 4nm。 上层电介质组合层16是氮化硅(Si3N4)，膜层厚度为20 25nm。上述膜层的加工工艺为清洗并干燥所述玻璃基片10 ；镀基层电介质组合层11 ；镀第二电介质组合层12， 所有氮化硅层系采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，功率为30kw lOOkw， 中频电源频率为30 50本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该低辐射镀膜玻璃的结构为：位于底层的玻璃基片，覆于该玻璃基片之上的基层电介质结合层，覆于基层电介质结合层之上的第二电介质组合层，覆于第二电介质组合层之上的第一阻挡层，覆于第一阻挡层之上的Ａｇ层，覆于Ａｇ层之上的第二阻挡层，覆于第二阻挡层之上的上层电介质组合层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：董清世，史小明，杨志远，
申请(专利权)人：信义玻璃天津有限公司，
类型：实用新型
国别省市：12[中国|天津]