用于湿式制程的基材输送载板制造技术

本实用新型专利技术是关于一种用于湿式制程的基材输送载板，其具有一板体，板体中形成至少一基材定位空间，于基材定位空间周边侧壁下段分布形成数个承载凸部，且于基材定位空间一侧侧壁上段分布数个限位凸部，限位凸部底缘与承载凸部顶缘间具有一插入缝，用以提供基材置入于基材定位空间中，为数个承载凸部共同支撑，另藉一侧的限位凸部于基材一侧顶面限位，进而利用基板输送载板作为基材进行蚀刻、清洗等湿式制程输送时的载具，除能避免基材与输送轮直接接触摩擦而受损，更能于清洗后的吹风干燥等步骤中防止基材移位。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是一种用于湿式制程的基材输送载板，尤指一种用于承载玻璃等透光 基板、晶圆或其它基材，使基材可透过自动化输送装置输送进行蚀刻、清洗…湿式制程的基 材输送载板。
技术介绍
目前如应用于触控面板的玻璃基板、晶圆…等基材于加工制程中，通常必须经过 蚀刻设备进行图案化的蚀刻步骤，及清洗设备进行表面清洗步骤等湿式制程。以玻璃基板的加工制程为例，玻璃基板进行蚀刻及清洗等湿式制程前，玻璃基板 均已切割成预定尺寸的单元面积，因玻璃基板于切割后，其侧边均会产生锐利的毛边，故当 具有毛边的玻璃基板经过蚀刻设备或清洗设备的输送轮输送时，玻璃基板的毛边因与输送 轮上的挡边接触摩擦，易自毛边产生严重的破裂情形。再者，如该些玻璃基板为触控面板用 的基板是厚度约为0. 5 0. 8mm的薄板，其厚度薄而易碎，在进行蚀刻或清洗等湿式制程 中，现有蚀刻设备或清洗设备等对该些玻璃基板并未提供良好的防护机制，于玻璃基板的 输送过程，玻璃基板切割产生毛边常与输送轮挡边接触摩擦造成毛边受损，并易于伤及玻 璃基板的输出入电极的完整性，致使玻璃基板成品良率偏低。为解决上述问题，本案申请人先前曾提出一种如台湾第M372534本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于湿式制程的基材输送载板，该基材输送载板具有一板体，板体中形成至少一基材定位空间，于基材定位空间周边侧壁下段分布形成数个承载凸部，其特征在于，于基材定位空间一侧侧壁上段分布数个限位凸部，限位凸部底缘与承载凸部顶缘间具有一插入缝，所述的插入缝足以提供基材一侧边插入其中，使基材平置于基材定位空间中，为承载凸部共同承载，以及限位凸部于基材一侧边限位。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨延鸿，龚南华，
申请(专利权)人：扬博科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]