【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造领域，特别涉及一种应用于光刻机的掩模版扫描装置。
技术介绍
光刻工艺是集成电路制造工艺中不可或缺的重要技术。光刻工艺通常是在光刻机 中进行的，具体可包括如下步骤先将具有电路设计图形的掩膜版定位在光刻机的掩模台 上；再将待曝光的晶圆定位在光刻机的晶圆台上；处理时，先在晶圆表面涂布光阻等感光 材料，在感光材料干燥后，通过将所述掩膜版上的电路设计图形以特定光源曝在所述感光 材料上，再以显影剂将感光材料显影，并利用显影出来的图形作为屏蔽，进行蚀刻等工艺， 并最终完成掩模图形的转移。在上述各步骤中，在将具有电路设计图形的掩膜版定位在光刻机的掩模台上之 前，需预先对掩膜版进行检验，以确定其是否为该待曝光的晶圆相对应。对掩膜版的验证， 可以通过扫描装置(例如激光扫描器)扫描用于唯一性标识掩膜版的条形码来实现，具体 来讲，在光刻机中设置有扫描装置以及控制所述扫描装置移动的驱动机构。以应用较广的Nikon光刻机为例，其配置的驱动机构为气动驱动结构和马达驱动 结构相结合，其中气动驱动结构包括电磁阀以及受所述电磁阀控制的气缸，适用于控制所 述扫描装置进行长距...
【技术保护点】
一种掩模版扫描装置，其特征在于，包括：扫描器，其包括具有第一、第二末端的支架以及设于所述支架的第一末端用于产生扫描光源的扫描探头；驱动装置，包括提供驱动力的电动马达以及受所述电动马达控制且与所述扫描器的支架的第二末端相连接的传动件；光电传感器，设于对应所述扫描器的扫描探头的初始位置和目标位置的区域，适于获取所述扫描器的扫描探头的位置信息；控制单元，与所述驱动装置和光电传感器电性连接，适于根据所述光电传感器所传送的位置信息控制所述驱动装置中的电动马达运作。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：丁伟尧，
申请(专利权)人：无锡华润上华半导体有限公司，无锡华润上华科技有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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