本实用新型专利技术涉及一种直浸式配合物晶体合成实验研究用恒温培育装置，属于单晶生长领域。配合物小晶体合成条件筛查工作中普遍存在昼夜温差干扰问题，本案旨在解决这一问题。本案装置包括一个盘状水槽，在盘状水槽的侧壁上装设有进水接口以及出水接口，进水接口以及出水接口与盘状水槽内部联通，以及，带有许多孔洞的盖板，该盖板是活动的盖板，本案要点是，该装置的结构还包括环形弹性件，该环形弹性件与所述孔洞的边沿贴附地装设在一起，每一个所述孔洞对应装设一个所述环形弹性件，盘状水槽的侧壁的横断面形状呈曲柄形状，盘状水槽的边沿包绕在盖板的边沿之外。本案克服了所述问题，其应用可以为相关筛查实验提供温度受到精细控制的较理想条件。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种直浸式配合物晶体合成实验研究用恒温培育装置，属于C30B单晶生长领域。
技术介绍
有许多的国内外科研机构开展配合物小晶体的合成探索及其结构分析研究 工作，这样的研究具有双重意义， 一方面，有助于进一步深入地探求相关科学 规律，另一方面，某些具有潜在应用前景的新型晶体也有望在这一过程中得以揭不o这类研究中，首先要做的事情，是探査新晶体的合成条件，其中，室温或 近室温条件下的溶剂挥发法因其温和的方式而通常被优先关注。由于存在诸多的可能影响配合物小晶体生长速率及晶体品质的条件因素， 因而，筛查性的合成实验通常是必须的，这一类筛查性实验一般选择同时使用 许多的一百毫升烧杯展开平行的合成探查，优先选择这种尺寸的烧杯是由这类 实验的剂量以及与这种剂量相适应的溶剂挥发合成手段决定的。上述实验通常只涉及数毫升至数十毫升滤清反应液这样一种较小的反应剂 量。大体的合成步骤是，先将按设计配制的各滤清反应液分别置于不同的烧杯 里，在各烧杯的杯口处包覆开有一些微小空洞的聚乙烯膜，然后，将各烧杯静 置于室内通风处，各烧杯内的溶剂经由各聚乙烯覆膜上的微小空洞缓慢挥发， 逐渐反应、浓縮并进而形成相关配合物小晶体。本案设计人注意到，由于存在昼夜温差，夜间低温时缓慢增长的小晶体， 在白天温度稍高时会重新部分溶解，这样的一种夜间生长而日间消融的生长状 态，给杂质的介入提供了较多的机会，并且，晶体的生长连续性也受到影响，在这种条件下长成的晶体，其内部容易包裹有较多的杂质，晶体质量可能因此 严重不足。实验中存在的上述缺陷导致合成探査实验效率低下，合成探査实验时间因 此拖长，试剂消耗量相应地额外增加，而且，由于晶体品质的不足，晶体衍射 数据的解析处理也会比较困难，其后提交给专业数据库的结构数据也可能因此 有了某种不完美的因素。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是，针对上述的配合物小晶体批量筛查合 成实验中存在的昼夜温差干扰问题，研发一种适用于配合物晶体合成实验研究 的恒温培育装置。本技术通过如下方案解决所述技术问题，该方案提供一种直浸式配合 物晶体合成实验研究用恒温培育装置，包括一个盘状水槽，在盘状水槽的侧壁 上装设有进水接口以及出水接口 ，进水接口以及出水接口与盘状水槽内部联通， 以及，带有许多孔洞的盖板，该盖板是活动的盖板，本案要点是，该装置的结 构还包括环形弹性件，该环形弹性件与所述孔洞的边沿贴附地装设在一起，每 一个所述孔洞对应装设一个所述环形弹性件，盘状水槽的侧壁的横断面形状呈 曲柄形状，盘状水槽的边沿包绕在盖板的边沿之外。所述环形弹性件的材料是 弹性材料，弹性材料一词的技术含义是公知的，所述弹性材料例如各种橡胶材 料以及具有一定弹性的塑料材料。所述环形弹性件的内径尺寸可以是任何的根据实际需要选定的尺寸，但是， 鉴于该类实验多数情况下选用一百毫升烧杯作为反应容器，优选的所述环形弹性件的内径尺寸是介于4. 5厘米到5. 0厘米之间。所述优选的环形弹性件的内 径尺寸是与一百毫升烧杯的外径尺寸相适应的尺寸，该尺寸适合于握力适中地 将常见尺寸的一百毫升烧杯握定于其中，握力适中的意思指的是在适当用力下 可将常见尺寸的一百毫升烧杯塞入所述环形弹性件的环内进行定位，并且，也可以在适当用力下将己置于所述环内的常见尺寸的一百毫升烧杯提拉脱离其固 定位置。所述环形弹性件的所述内径尺寸范围的相应上限值以及相应下限值以 及相应中间值都是可取的适当的尺寸值。方案中的许多一词，意指较多的数量，所述许多例如十个、二十个、三十 个、四十个、五十个、六十个，等等。本案装置当然还可以包括一些附件，所 述附件例如超级恒温槽，所述盘状水槽的侧壁上装设的进水接口以及出水接口 可以分别与超级恒温槽的进出水接口联通，所述超级恒温槽的技术含义是公知 的，所述附件也可以进一步包括必要时装设在恒温水流通管路上的过滤器，以 及，必要时装设在恒温水流通管路上的用于调节流量的阀门，等等。在该装置的结构中，每一个环形弹性件对应含有一个环内孔位，实际使用 状况下，结构中数量较多的环形弹性件的环内孔位可能出现富余，此情形下， 可以方便地用相应数量的空的一百毫升烧杯填塞所述富余的孔位。本技术的优点是，该装置克服了所述昼夜温差干扰问题，提供了一种 温度条件相当稳定的晶体生长条件，有助于晶体的完美生长，有助于高效率地 展开合成探査实验，有助于节约试剂，有助于减少实验时间消耗，还有助于降 低晶体衍射数据的解析处理难度。附图说明图1是本案实施例示意图，该图示意地描述其主要工作区的垂向断面结构， 图中并且额外地添加了若干个塞置于环形弹性件的环内孔位的烧杯，为进一步 明晰其结构特点，该图还对结构的局部进行放大展示。图中，1是盖板，2是横断面形状呈曲柄形状的侧壁，3、 5分别是在盘状 水槽的侧壁的不同位置上装设的一个进水接口和一个出水接口，该进水接口和 出水接口是等效的并且可以互换使用的接口， 4是盘状水槽，6是环形弹性件， 7是示意地塞置于环形弹性件的环内孔位的烧杯。具体实施方式在图1所展示的本案实施例中，装置的结构包括一个盘状水槽4，在盘状 水槽4的侧壁2的不同位置上装设有进水接口以及出水接口，所述进水接口以 及出水接口是分别标注为3和5的两个接口，分别标注为3和5的两个接口是 可以互换使用的两个接口，分别标注为3和5的两个接口均与盘状水槽4内部 联通，以及，带有许多孔洞的盖板1，盖板1是活动的盖板，该装置的结构还 包括环形弹性件6，环形弹性件6与孔洞的边沿贴附地装设在一起，每一个孔 洞对应装设一个环形弹性件6，盘状水槽的侧壁2的横断面形状呈曲柄形状， 盘状水槽4的边沿包绕在盖板1的边沿之外。该例结构中环形弹性件的内径其 优选尺寸介于4. 5厘米到5. 0厘米之间，该优选尺寸范围的相应上限值以及相 应下限值以及相应中间值以及介于其间的其它值都是可取的适当的尺寸值，图 例中未标注出相关优选尺寸值。分别标注为3和5的进水接口以及出水接口可 以分别与超级恒温槽的进出水接口联通。该例结构中，每一个环形弹性件6对 应含有一个环内孔位，实际使用状况下，结构中数量较多的环形弹性件6的环 内孔位可能出现富余，此情形下，可以方便地用相应数量的空的一百毫升烧杯 填塞所述富余的孔位。盖板1是可拆卸的活动的构件。本案装置凭借着可与其连接的超级恒温槽的波动微小的精细的温度控制， 可以为晶体生长提供一个稳定的温度环境。并且，利用这一装置，可以设定在 水浴可操作的全部温区范围内的任意指定温点进行生长温度高度稳定的配合物 小晶体批量筛査合成实验，不再受限于室温条件。权利要求1.直浸式配合物晶体合成实验研究用恒温培育装置，包括一个盘状水槽，在盘状水槽的侧壁上装设有进水接口以及出水接口，进水接口以及出水接口与盘状水槽内部联通，以及，带有许多孔洞的盖板，该盖板是活动的盖板，其特征是，该装置的结构还包括环形弹性件，该环形弹性件与所述孔洞的边沿贴附地装设在一起，每一个所述孔洞对应装设一个所述环形弹性件，盘状水槽的侧壁的横断面形状呈曲柄形状，盘状水槽的边沿包绕在盖板的边沿之外。2. 根据权利要求1所述的直浸式配合物晶体合成实验研究用恒温培育装置， 其特征在于，环形弹性件的内径介于4.5厘米到5.0厘本文档来自技高网...
【技术保护点】
直浸式配合物晶体合成实验研究用恒温培育装置，包括一个盘状水槽，在盘状水槽的侧壁上装设有进水接口以及出水接口，进水接口以及出水接口与盘状水槽内部联通，以及，带有许多孔洞的盖板，该盖板是活动的盖板，其特征是，该装置的结构还包括环形弹性件，该环形弹性件与所述孔洞的边沿贴附地装设在一起，每一个所述孔洞对应装设一个所述环形弹性件，盘状水槽的侧壁的横断面形状呈曲柄形状，盘状水槽的边沿包绕在盖板的边沿之外。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李榕生，孔祖萍，姜晶晶，杨欣，宋岳，刘晓利，
申请(专利权)人：宁波大学，
类型：实用新型
国别省市：97[中国|宁波]
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