异氰酸酯的制造方法技术

本发明专利技术涉及异氰酸酯的制造方法。本发明专利技术的目的在于提供一种能够以高收率长期稳定地制造异氰酸酯的方法，所述制造方法不使用光气，制造异氰酸酯时没有现有技术中出现的各种问题。本发明专利技术公开了一种异氰酸酯的制造方法，该制造方法包括如下工序：使氨基甲酸酯和芳香族羟基化合物发生反应以得到具有源自该芳香族羟基化合物的基团的氨基甲酸芳基酯的工序；和使该氨基甲酸芳基酯发生分解反应的工序，其中，所述芳香族羟基化合物为以上式（１）表示的、在羟基的至少１个邻位具有取代基Ｒ↑［１］的芳香族羟基化合物（式中，环Ａ表示具有或不具有取代基的碳原子数为６～２０的单环芳香族烃环或者多环芳香族烃环；Ｒ↑［１］为氢原子以外的基团，表示碳原子数为１～２０的脂肪族烷基、碳原子数为１～２０的脂肪族烷氧基、碳原子数为６～２０的芳基、碳原子数为６～２０的芳氧基、碳原子数为７～２０的芳烷基或碳原子数为７～２０的芳烷氧基，所述各基团含有选自碳、氧、氮中的原子；而且Ｒ↑［１］可以与Ａ键合形成环结构）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
异氰酸酯广泛用作制造聚氨酯泡沫、涂料、接合剂等的原料。异氰 酸酯的主要的工业制造法是胺类与光气的反应(光气法)，全世界的产量几 乎全部是利用光气法生产的。但是，光气法存在很多问题。第一，大量使用光气作为原料。光气毒性极高，为了防止光气接触 工作人员，对光气的处理需要特别注意，并且还需要用于将废弃物无害 化的特殊装置。第二，在光气法中，由于产生大量高腐蚀性的副产物氯化氢，因此 需要用于将该氯化氢无害化的工艺，此外，制造出的异氰酸酯中大多含 有水解性氯，使用以光气法制造出的异氰酸酯时，有时会对聚氨酯制品 的耐候性、耐热性产生不良影响。出于这样的背景，人们期待不使用光气的异氰酸酯化合物的制造方 法。作为不使用光气的异氰酸酯化合物的制造方法之一，有文献提出了 利用氨基甲酸酯的热分解的方法。通过氨基甲酸酯的热分解得到异氰酸 酯和羟基化合物是以前就为人们所知的(例如，参见非专利文献l)。其基 本反应如下式所示。R《NHCOOR% - R(NC0)a + a R'OH (i )(式中，R表示a价的有机残基， R'表示1价的有机残基， a表示l以上的整数。)以上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种异氰酸酯的制造方法，该制造方法包括如下工序：　使氨基甲酸酯和芳香族羟基化合物发生反应，得到具有源自该芳香族羟基化合物的基团的氨基甲酸芳基酯的工序；和　使该氨基甲酸芳基酯发生分解反应的工序，　其中，该芳香族羟基化合物为以 下式（１）表示的、在羟基的至少１个邻位具有取代基Ｒ↑［１］的芳香族羟基化合物，　＊＊＊　（１）　式（１）中，环Ａ表示具有或不具有取代基的碳原子数为６～２０的单环芳香族烃环或多环芳香族烃环，　Ｒ↑［１］为氢原子以外的基团， 表示碳原子数为１～２０的脂肪族烷基、碳原子数为１～２０的脂肪族烷氧基、碳原子数为６...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：篠畑雅亮，三宅信寿，
申请(专利权)人：旭化成化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]