【技术实现步骤摘要】
本技术属于陶瓷烧制领域，特别是一种烧制日用陶瓷的烧制工具。
技术介绍
目前的陶瓷产品，在烧制过程中多采用全支撑式烧制支架，如专利号为200620031636.3 的中国技术专利公开的技术方案，采用面板支撑待烧制的坯件。这种技术方案会带来 如下问题首先，由于烧制支架整体体积大， 一方面用料量多造成浪费，另一方面在烧制陶瓷产 品过程中支架本身要吸收大量热量造成能量浪费。其次，很多高档陶瓷，大都采用二次烧成，釉烧是整个陶瓷制作的最后步骤，釉烧时 釉在高温下会融化成液态，在坯体与支架接触部(即支撑部位)分会影响釉的均匀分布， 从而在最终的陶瓷产品该接触部位形成毛刺等瑕疵。由于面板与待烧制的坯件的接触面大， 导致最终烧制的陶瓷制品毛刺多，质量低。
技术实现思路
针对现有陶瓷烧制支架存在的耗费材料与能量并导致最终烧制的陶瓷制品毛刺多、质 量差的问题，本技术提供了一种节能型陶瓷烧制支架。 本技术的技术方案如下.-节能型陶瓷烧制支架包括底座和在底座同一面设置的至少三根立柱，在立柱上设置有 若干支撑件，所述支撑件与其他立柱上设置的支撑件相互配合从而稳定支撑待烧制的坯件。所述的节能型陶瓷...
【技术保护点】
节能型陶瓷烧制支架包括底座和在底座同一面设置的至少三根立柱，其特征在于在立柱上设置有若干支撑件，所述支撑件与其他立柱上设置的支撑件相互配合从而稳定支撑待烧制的坯件。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郭海珠，于发明，夏霞云，张勇，汪崇富，谢志扬，
申请(专利权)人：北京创导工业陶瓷有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]
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