一种烧制温度低的琉璃的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种烧制温度低的琉璃的制备方法，是由下列步骤制备而得：提取原料，所属原料包括：石英砂、纯碱、澄清剂、氧化剂、助熔剂、着色剂、固化剂；将石英砂和纯碱混合，加热至300℃，保持3小时，加入澄清剂、氧化剂，加热至750℃，加入助熔剂和着色剂，加热至1100℃，保持14小时，获得液态琉璃，澄清17小时，澄清温度保持在1300℃，退火，退火温度保持在600℃，加入固化剂，保持5小时，缓慢降至室温，精修后获得成品。通过上述方式，本发明专利技术能够降低琉璃的熔点，在较低的温度下烧制，从而优化生产工艺，降低生产成本。

Method for preparing glass glaze with low firing temperature

The invention discloses a preparation method of low temperature firing glazed, is prepared by the following steps: the extraction of raw materials, the raw materials include: quartz sand, soda ash, clarifying agent, oxidizing agent, fluxing agent, coloring agent and curing agent; the quartz sand and soda ash, heated to 300 DEG C for 3 hours, adding clarifier, oxidant, heating to 750 DEG C, adding fluxing agent and a colorant, heated to 1100 DEG C for 14 hours, 17 hours to obtain liquid glass, clarification, clarification temperature is maintained at 1300 DEG C, annealing, annealing temperature is maintained at 600 DEG C, adding curing agent, keep 5 hours slow to room temperature and the product obtained after finishing. By the above method, the invention can reduce the melting point of the colored glaze and burn at a lower temperature, so as to optimize the production process and reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及琉璃工艺领域，特别是涉及一种烧制温度低的琉璃的制备方法。
技术介绍
精品琉璃制品烧制一般需要1400℃的高温条件，澄清温度更是需要到达1600-1800℃，由于温度要求很高，而且琉璃烧制需要耗费的时间很长，一直保持高温烧制，对燃料、设备的要求相当之高，如何降低琉璃制品的烧制温度，从而减少生产成本，减少费用，是一个制得研究的问题。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种烧制温度低的琉璃的制备方法，能够降低琉璃的熔点，在较低的温度下烧制，从而优化生产工艺，降低生产成本。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种烧制温度低的琉璃的制备方法，是由下列步骤制备而得：提取原料，所属原料包括：石英砂、纯碱、澄清剂、氧化剂、助熔剂、着色剂、固化剂；将石英砂和纯碱混合，加热至300℃，保持3小时，加入澄清剂、氧化剂，加热至750℃，加入助熔剂和着色剂，加热至1100℃，保持14小时，获得液态琉璃，澄清17小时，澄清温度保持在1300℃，退火，退火温度保持在600℃，加入固化剂，保持5小时，缓慢降至室温，精修后获得成品。在本专利技术一个较佳实施例中，所述澄清剂为二氧化铈。在本专利技术一个较佳实施例中，所述助熔剂为碳酸钠、碳酸钾、碳酸钠与硝酸钾的混合物。本专利技术的有益效果是：本专利技术能够降低琉璃的熔点，在较低的温度下烧制，从而优化生产工艺，降低生产成本。具体实施方式下面对本专利技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本专利技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。本专利技术实施例包括：一种烧制温度低的琉璃的制备方法，是由下列步骤制备而得：提取原料，所属原料包括：石英砂、纯碱、澄清剂、氧化剂、助熔剂、着色剂、固化剂；将石英砂和纯碱混合，加热至300℃，保持3小时，加入澄清剂、氧化剂，加热至750℃，加入助熔剂和着色剂，加热至1100℃，保持14小时，获得液态琉璃，澄清17小时，澄清温度保持在1300℃，退火，退火温度保持在600℃，加入固化剂，保持5小时，缓慢降至室温，精修后获得成品。进一步说明，所述澄清剂为二氧化铈，二氧化铈的分解温度较高，是一种较好的澄清剂，被广泛作为原料使用。作为澄清剂使用可以不需要与硝酸盐配合，高温时可自行分解放出氧气，加速澄清。再进一步说明，所述助熔剂为碳酸钠、碳酸钾、碳酸钠与硝酸钾的混合物。通过合理配比，调配处合理成分的助熔剂，能有效降低琉璃的熔点，从而降低烧制温度。本专利技术能够降低琉璃的熔点，在较低的温度下烧制，从而优化生产工艺，降低生产成本。以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书及内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的
，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种烧制温度低的琉璃的制备方法，其特征在于，是由下列步骤制备而得：提取原料，所属原料包括：石英砂、纯碱、澄清剂、氧化剂、助熔剂、着色剂、固化剂；将石英砂和纯碱混合，加热至300℃，保持3小时，加入澄清剂、氧化剂，加热至750℃，加入助熔剂和着色剂，加热至1100℃，保持14小时，获得液态琉璃，澄清17小时，澄清温度保持在1300℃，退火，退火温度保持在600℃，加入固化剂，保持5小时，缓慢降至室温，精修后获得成品。

【技术特征摘要】
1.一种烧制温度低的琉璃的制备方法，其特征在于，是由下列步骤制备而得：提取原料，所属原料包括：石英砂、纯碱、澄清剂、氧化剂、助熔剂、着色剂、固化剂；将石英砂和纯碱混合，加热至300℃，保持3小时，加入澄清剂、氧化剂，加热至750℃，加入助熔剂和着色剂，加热至1100℃，保持14小时，获得液态琉璃，澄清17小时，...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙武，
申请(专利权)人：太仓市科教新城琉璃艺术策划中心，
类型：发明
国别省市：江苏;32