The invention discloses a ceramic substrate for firing ceramic and a processing method thereof. The method comprises the steps of: soaking ceramic in strong acid reagent, in a cleaning ultrasonic cleaning machine after the removal of the use of distilled water rinse out, and then put into the vacuum oven or inert gas protection under the environment of drying ready; fumigation ceramics in copper vapor, cooling and storage. The invention adopts a cleaning method combined with a plurality of cleaning means to ensure the cleaning effect of the surface of the ceramic piece. The method of copper vapor fumigation is adopted to fill the tiny gap on the surface of the ceramic sheet, to activate the surface of the ceramic piece, to increase the wettability of the copper layer on the surface of the ceramic sheet, and to enhance the adhesion of the copper layer. In addition, the copper vapor on the surface of the ceramic filler, the objective to replace the gap in the gas, reducing the copper layer in the process of the formation of bubbles.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷片加工领域，尤其涉及一种陶瓷基板烧制用陶瓷片及其处理方法。
技术介绍
现有的陶瓷片处理方法为：1）、使用有机溶剂清洗陶瓷片表面，除去表面的灰尘、杂质及相关的油性物质。2）、使用强酸及强氧化性试剂清洗陶瓷片表面，除去表面残留的油脂及相关杂质。以上处理方法的实施，仅仅是清洗掉了陶瓷片表面的杂质，陶瓷片表面的微孔结构仍然存在，对铜的润湿性差，附着力低下。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种陶瓷基板烧制用陶瓷片及其处理方法，旨在解决现有处理方法仅仅是清洗掉了陶瓷片表面的杂质，陶瓷片表面的微孔结构仍然存在，对铜的润湿性差，附着力低下的问题。本专利技术的技术方案如下：一种陶瓷基板烧制用陶瓷片的处理方法，其中，包括步骤:A、将陶瓷片置于强酸性试剂中浸泡，取出后放入超声波清洗机中清洗，取出后使用蒸馏水漂洗，然后放入真空烘箱或者有惰性气体保护的环境下烘干待用；B、将陶瓷片置于铜蒸汽中熏蒸，冷却后存储待用。所述的陶瓷基板烧制用陶瓷片的处理方法，其中，步骤A中，所述强酸性试剂为浓硫酸重铬酸钾混合物、硝酸氢...
【技术保护点】
一种陶瓷基板烧制用陶瓷片的处理方法，其特征在于，包括步骤:A、将陶瓷片置于强酸性试剂中浸泡，取出后放入超声波清洗机中清洗，取出后使用蒸馏水漂洗，然后放入真空烘箱或者有惰性气体保护的环境下烘干待用；B、将陶瓷片置于铜蒸汽中熏蒸，冷却后存储待用。
【技术特征摘要】
1.一种陶瓷基板烧制用陶瓷片的处理方法，其特征在于，包括步骤:A、将陶瓷片置于强酸性试剂中浸泡，取出后放入超声波清洗机中清洗，取出后使用蒸馏水漂洗，然后放入真空烘箱或者有惰性气体保护的环境下烘干待用；B、将陶瓷片置于铜蒸汽中熏蒸，冷却后存储待用。2.根据权利要求1所述的陶瓷基板烧制用陶瓷片的处理方法，其特征在于，步骤A中，所述强酸性试剂为浓硫酸重铬酸钾混合物、硝酸氢氟酸混合物、磷酸氧化铬酒精甲醛混合物中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的陶瓷基板烧制用陶瓷片的处理...
【专利技术属性】
技术研发人员：秦先志，罗小阳，唐甲林，
申请(专利权)人：湖南柳鑫电子新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43
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