高界面强度类金刚石薄膜材料的常温沉积设备及其方法技术

本发明专利技术涉及一种高界面强度类金刚石薄膜材料的常温沉积设备及其方法，设备采用一个由平面平板电极和钨丝线圈电极所构成的复合阳极，在钨丝线圈阳极上加工出锐角的三角形槽口，以形成尖端放电点；在ＤＣ直流等离子放电中，在ＤＬＣ薄膜表面形成一定密度的微孔构造，使ＤＬＣ薄膜成为非连续膜，其作用是减少膜中的压缩残余应力。通过复合阳极的升降调整，可以控制ＤＬＣ薄膜表面形成的微孔密度。电源采用ＤＣ－ＲＦ射频双电源系统，ＤＣ直流等离子发生源使镀层和薄膜有好的结合强度，同时也与金属基材有较好的结合强度；利用ＲＦ射频法形成致密的ＤＬＣ薄膜结构，提高薄膜的耐磨性能；同时将钨丝线圈电极转换为热灯丝，形成热丝辅助ＣＶＤ化学气相沉积过程，提高薄膜的沉积速度。本发明专利技术沉积设备使用寿命长，非常有利于推广实施。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种DLC类金刚石薄膜材料的沉积方法和设备，特别是涉及一种高 界面结合强度多孔非连续表面类金刚石薄膜材料的常温沉积设备及其常温沉积方法。
技术介绍
类金刚石薄膜(Diamond-like Carbon Films，简称DLC薄膜)是一类硬度、光学、电学、化学和摩擦学等特性都类似于金刚石的非晶碳膜。例如，它具有高硬度、抗 摩擦、化学惰性、低介电常数、宽光学带隙、良好的生物相容性等特点。它可以应用于 机械、电子、化学、军事、航空航天等领域，具有广阔的应用前景。目前，制备DLC类金刚石薄膜的方法主要包括物理气相沉积和化学气相沉积， 例如离子束沉积、阴极弧沉积、溅射沉积和等离子体增强化学气相沉积等。虽然其中的 大多数方法能沉积出质量较好的类金刚石薄膜，但是气相合成实验装置的复杂性和基底 的高温都导致了这些方法具有一定的局限性，在一定程度上限制了 DLC类金刚石薄膜的 实际应用。类金刚石(DLC)薄膜材料在低摩擦固体润滑耐磨材料中是最有代表性的一类 材料，90年代国外已实现了产业化。但是为了拓宽其应用范围，需要进一步提高其界 面强度，如何能够进一步提高其界面强度是各国研究的技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高界面强度类金刚石薄膜材料的常温沉积设备，含有沉积室，与沉积室连通有原料气进气管道和抽真空装置，在沉积室内底部设有与等离子发生源负极连接的阴极载物台，在沉积室内部上侧设有与等离子发生源正极连接的阳极，其中阳极与沉积室电连接，沉积室与地线连接，以及加热灯丝装置，其特征是：所述阳极为复合阳极，该复合阳极包括一个平板阳极和一个高熔点金属丝线圈阳极，其中平板阳极位于高熔点金属丝线圈阳极上侧，平板阳极和高熔点金属丝线圈阳极均与等离子发生源阳极连接；所述等离子发生源为一个ＤＣ直流等离子发生源和一个交变等离子发生源，两等离子发生源的阳极与沉积室外壳连接，两等离子发生源的阴极分别通过隔断开关与阴极连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑锦华，
申请(专利权)人：郑锦华，郑州大学，
类型：发明
国别省市：41[中国|河南]