一种化学机械抛光液制造技术

本发明专利技术公开了一种化学机械抛光液，其含有水，掺杂金属的二氧化硅和下述速率促进剂中的一种或多种：有机酸、氟化物、氨水以及季铵盐及其衍生物。本发明专利技术的化学机械抛光液具有较高的ＴＥＯＳ的抛光速率，较高的ＴＥＯＳ对ＳｉＮ、ＢＤ、ＳｉＣ和ＳｉＯＮ中的一种或多种材料的去除速率选择比。本发明专利技术的化学机械抛光液在磨料含量较低的情况下，仍可达到较高的ＴＥＯＳ的抛光速率，并且具有较好的缺陷控制能力，极大地降低了成本。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋伟红，姚颖，包建鑫，王淑敏，
申请(专利权)人：安集微电子上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31