用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物制造技术

本发明专利技术提供了一种用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，按照重量百分比包括：二氧化硅磨料３０－４０ｗｔ％、有机碱０．０１－５ｗｔ％、复合表面活性剂０．０１－０．５ｗｔ％、切水剂０．０１－０．５ｗｔ％，余量为去离子水。本发明专利技术具有如下技术效果：在不同的抛光参数条件下对精细玻璃基板进行抛光可有效去除精细玻璃基板表面吸附的灰尘、油渍等，避免了传统氧化铈抛光后磨料粒子的残留给后期玻璃镀膜工艺中造成的膜层附着力不好的影响，抛光组合物中的磨料及抛光产物可快速脱离精细玻璃基板表面，形成洁净表面，可直接用于镀膜，提高了生产效率，经检测膜层的附着力，临界载荷为１０Ｎ以上，附着力较好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种精细玻璃基板镀膜前处理用组合物，具体地说，涉及一种镀膜前 处理工艺中的抛光组合物。
技术介绍
随着科学技术的发展进步，各种光学仪器如航空摄影，紫外与红外光谱仪器、数码 相机、太阳能薄膜技术发展对光学玻璃的性能提出了更高的要求。真空镀膜已经成为材料 表面改性的一个极其重要的方面，是玻璃深加工的主要手段之一。通过在精细玻璃基板上 完成各种金属、介质材料的镀膜，以及对膜层设计工艺过程等可以赋予玻璃不同的用途，如 用做平板电视、显示器等终端显示设备，移动通讯领域的触摸屏等。由于各种新品种光学玻璃在加工或使用性能上或多或少地存在着缺陷，因此在研 究扩展光学玻璃领域的同时，还针对改善各种新品种光学玻璃的物理和物理化学性质，以 及生产工艺进行了许多工作。在玻璃基片上沉积大面积各种功能的膜层已经形成巨大的产 业化规模，但是，我国镀膜玻璃的膜层质量与进口产品相比有着一定的差距，尤其在膜层的 附着力方面。针孔是影响膜层附着力的主要因素之一，针孔产生的原因有(1)在带镀的基片 上存在粉尘颗粒，颗粒的存在阻挡了膜材的沉积；( 在基片上存在油渍或其他严重影响 膜层与基片结合力的污渍。为了避免上述情况，同时提高膜层的附着力，玻璃镀膜前要进行一系列的前处理 的工作。根据不同的用途，先用氧化铈抛光液对玻璃基板进行抛光，然后超声清洗。但是抛 光过程中氧化铈颗粒会嵌入到玻璃基板上，在后续清洗中不能完全去除，严重影响镀膜玻 璃的质量。另外，目前镀膜玻璃都要用一个月以内的新鲜玻璃，这是因为玻璃在存放的过程 中，表面由于环境湿度大等原因，产生不同程度的霉变，俗称“白斑”，这也成为玻璃镀膜工 艺的一个障碍。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术的不足之处，提供一种用于精细玻璃基板镀膜前处 理的抛光组合物。本专利技术的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，按照重量百分比包括 二氧化硅磨料30-40wt %、有机碱0. 01-5wt %、复合表面活性剂0. 01 -0. 5wt %、切水剂 0. 01-0. 5wt%，余量为去离子水；其中，所说的磨料为粒径100-180nm、浓度为30_50wt%的二氧化硅溶胶；所说的有机碱性选自季铵强碱、二胺碱和醇胺碱中的一种或多种；所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯、失水山梨醇聚氧乙烯醚酯或 嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚中的一种或多种；3所说的切水剂选自3-甲氧基-3甲基-1-丁醇、3-甲氧基-2甲基戊醇、二乙 二醇丁醚、二乙二醇单甲醚中的一种或多种。优选地，所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯， 两者重量百分比为1 1。所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯， 两者重量百分比为1 2.5。所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯 醚，两者重量百分比为1 5。所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯 醚，两者重量百分比为1 2。所说的的去离子水的电导率为5-lOuc/cm。本专利技术的抛光组合物可针对精细玻璃的不同用途，抛光时可将上述抛光组合物按 照不同的稀释比例，在不同的抛光参数条件下对精细玻璃基板进行抛光当抛光组合物稀 释后硅溶胶浓度在10%以下时，采用较大抛光转速和较大流量进行抛光，抛光5-lOmin， 然后用去离子水抛光anin，抛光组合物稀释后硅溶胶浓度在15-20%时，采用较小抛光 转速和较小流量进行抛光，抛光时间为10-15min，然后用去离子水抛光aiiin。在较大抛 光转速为60-80rpm，较大流量为100-150ml/min ；较小抛光转速为30_60rpm，较小流量为 80-100ml/min。本专利技术具有如下技术效果1)传统氧化铈抛光时，由于磨料棱角的存在而在压力作用下嵌入到玻璃中，难以 去除，而本专利技术的抛光组合物中使用了外形规整(球形或近似球形)的大粒径硅溶胶粒子， 没有棱角，这样抛光时便不会嵌入到玻璃基板表面；同时由于硅溶胶粒子表面吸附的“双电 层”，避免了磨料在玻璃基板表面的吸附，抛光结束时能使抛光液等杂质快速脱离精细玻璃 基板表面，形成干净清洁的表面，可直接用于玻璃镀膜工艺中，提高了生产效率；2)抛光液中的有机碱结合水中的H+，释放出的0H—，直接对玻璃表面的Si-O键亲核 进攻，抛光时在一定的转速和压力下，可去除被灰尘、油渍污染玻璃表层，故可有效去除精 细玻璃基板表面吸附的灰尘、油渍等，露出干净表面，同时赋予玻璃基板表面合适粗糙度， 有利于提高膜层与玻璃基板之间的附着力，提高膜层质量，经检测膜层的附着力，临界载荷 为10N，附着力较好，可与外国进料玻璃相媲美。3)抛光液中的表面活性剂和切水剂可有效降低玻璃基板的表面张力，在抛光作用 下，可消除玻璃不同程度的“霉变”，阳离子表面活性剂具有一定的防腐杀菌能力，可改变细 菌细胞膜的透过性，破坏细菌吸收养料的途径，从而起到杀菌效果；切水剂具有的生物降解 性能，抛光液使用后可自行降解，环境友好。附图说明图1为用实施例1制备的抛光液抛光后玻璃表面放大倍数60倍的显微镜图；图2为用实施例2制备的抛光液抛光后玻璃表面放大倍数60倍的显微镜图；图3为用实施例3制备的抛光后玻璃表面放大倍数60倍的显微镜图。具体实施例方式下面结合具体实施方式和附图来对本专利技术作进一步地详细说明。实施例1配置IOOOg用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，组分和重量百分比如 下权利要求1.用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，按照重量百分比包 括二氧化硅磨料30-40wt%、有机碱0. 01-5wt%、复合表面活性剂0. 01-0. 5wt%、切水剂 0. 01-0. 5wt%，余量为去离子水；其中，所说的磨料为粒径100-180nm、浓度为30_50wt%的二氧化硅溶胶；所说的有机碱性选自季铵强碱、二胺碱和醇胺碱中的一种或多种；所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯、失水山梨醇聚氧乙烯醚酯或嵌段 聚氧乙烯-聚氧丙烯醚中的一种或多种；所说的切水剂选自3-甲氧基-3甲基-1-丁醇、3-甲氧基-2甲基-1-戊醇、二乙二醇 丁醚、二乙二醇单甲醚中的一种或多种。2.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于， 所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯，两者重量 百分比为1 :1。3.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于， 所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯，两者重量 百分比为1 2. 5。4.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于， 所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚，两者重 量百分比为1:5。5.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于， 所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚，两者重 量百分比为1:2。6.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于， 所说的去离子水的电导率为5-lOuc/cm。全文摘要本专利技术提供了一种用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，按照重量百分比包括：二氧化硅磨料３０－４０ｗｔ％、有机碱０．０１－５ｗｔ％、复合表面活性剂０．０１－０．５ｗｔ％、切水剂０．０１－０．５ｗｔ％，余量为去离子水；其中，所说的磨料为粒径１００－１８０ｎｍ、浓度为３０－５０ｗｔ％的二氧化硅溶胶；所说的有机碱性选自季铵强碱、二胺碱和醇胺碱中的一种或多种；所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯、失水山梨醇聚氧乙烯醚酯或嵌段聚氧乙烯－聚氧丙烯醚中的一种或多种；所说的切水剂选自３－甲氧基－３甲基－１－丁醇、３－甲氧基－２甲基－１－戊醇、二乙二醇丁醚、二乙二醇单甲醚中的一种或多种。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：仲跻和，李薇薇，
申请(专利权)人：江苏海迅实业集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]